公开(公告)号：RU2588620C2

公开(公告)日：2016-07-10

申请号：RU2013131395

申请日：2011-12-07

Applicant: BASF SE

Inventor： VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  SU ISON YUJ-SHEN ,  KINGMA AREND JOUKE ,  NOLLER BASTIAN MARTEN

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  H01L21/32

Abstract: Изобретениеотноситсяк новымводнымполирующимкомпозициям, которыеособенноподходятдляполированияполупроводниковыхподложек, содержащихпленкинаосновеоксидкремниевогодиэлектрикаи поликремния, необязательносодержащихпленкинаосновенитридакремния. Композициясодержит (A) абразивныечастицыоксидацерияи (B) амфифильныенеионогенныеповерхностно-активныевещества, выбранныеизрастворимыхв водеи диспергируемыхв воде, линейныхи разветвленныхполиоксиалкиленовыхблоксополимеровобщейформулы I:, где m, n и p являютсяцелымичислами≥ 1; R означаетатомводородаилиодновалентныйилиполивалентныйорганическийостаток, заисключением C-Cалкильныхгрупп; (B1) блококсиэтиленовыхмономерныхзвеньев; (B2) блокзамещенныхоксиалкиленовыхмономерныхзвеньев, гдезаместителивыбираютиздвухметильныхгрупп, алкильныхгрупп, имеющихболеедвухатомовуглерода, ициклоалкильных, арильных, алкил-циклоалкильных, алкил-арильных, циклоалкил-арильныхи алкил-циклоалкил-арильныхгрупп; и Y означаетатомводородаилиодновалентныйорганическийостаток, заисключением C-Cалкильныхгрупп; приусловии, чтоесли (B) содержитболееодногоблока (B1) или (B2), дваблокаодинаковоготипаразделеныблокомдругоготипа (В1) или (В2). Композицияобладаетзначительноулучшеннойселективностьюоксид/поликремнийи обеспечиваетполучениеполированныхпластин, имеющихпревосходнуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 табл., 9 пр.

公开(公告)号：RU2598046C2

公开(公告)日：2016-09-20

申请号：RU2014129612

申请日：2011-12-21

Applicant: BASF SE

Inventor： RAMAN VIDZHAJ IMMANUIL ,  LI YUZHIO ,  SHADE KRISTIAN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  SU ISON YU-SHEN ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: Изобретениеглавнымобразомотноситсяк композициидляхимико-механическогополирования (ХМП) иееприменениюв полирующихсубстратахполупроводниковойпромышленности. Композициясодержит (A) неорганическиечастицы, органическиечастицыилиихсмесь, илиихкомпозит, (B) поменьшеймереодинтипполивинилфосфоновойкислотыилиеесольв качестведиспергирующегоагентаилиагентадляобращениязаряда, (C) воднуюсредуи (D) сахарныйспиртв качествеподавителя SiN. Изобретениетакжеотноситсяк способуполученияполупроводниковыхустройств, включающемуполированиесубстратав присутствииуказаннойкомпозиции, иприменениюкомпозициидляполированиясубстрата, содержащегонитридкремнияи/илиполикремний. Композицияпроявляетулучшенныеполирующиехарактеристики. 3 н. и 6 з.п. ф-лы, 3 табл.

公开(公告)号：RU2631870C2

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：RU2014136176

申请日：2013-01-24

Applicant: BASF SE

Inventor： LI YUZHUO ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  ZHONG MINGZHE

IPC: H01L21/02 ,  C11D7/22

Abstract: Очищающаякомпозицияпослехимико-механическогополирования (после-СМР), содержащая: (А) соединение, представляющеесобойцистеин, N-ацетилцистеин, тиомочевинуилиихпроизводное, (В) эритрит, (С) воднуюсредуи (Е) поменьшеймереодноповерхностно-активноевещество, иееприменениедляудаленияостаткови загрязненийс поверхностиполупроводниковыхподложек, содержащихэлектропроводящиеслои (такиекакмедныеслои), электроизолирующиедиэлектроизолирующиедиэлектрическиеслои (такиекакслоидиэлектриковс низкойилисверхнизкойдиэлектрическойпроницаемостью) ибарьерныеслои (такиекакслоитантала, нитридатантала, нитридатитанаилирутения), т.е. изобретениеотноситсяк применениюочищающейкомпозициипослеСМРдляудаленияостаткови загрязнений, содержащихбензотриазолпослеСМР. 6 н. и 20 з.п. ф-лы, 5 табл., 3 ил.

公开(公告)号：RU2607214C2

公开(公告)日：2017-01-10

申请号：RU2013115239

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： LI YUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09G1/18

Abstract: Изобретениеотноситсяк воднойполирующейкомпозиции, имеющей pH от 3 до 11. Композициясодержит (А) поменьшеймереодинтипабразивныхчастиц, которыеположительнозаряженыпридиспергированиив воднойсреде, свободнойоткомпонента (В) иимеющей pH винтервалеот 3 до 9, чтоподтверждаетсяэлектрофоретическойподвижностью. Абразивныечастицы (А) являютсянеорганическимичастицами, содержащимиилисостоящимииздиоксидацерия. Композициясодержит (B) поменьшеймереодинанионныйфосфатныйдиспергирующийагент, выбранныйизгруппырастворимыхв водеконденсированныхфосфатов, причемрастворимыйв водеконденсированныйфосфатвыбранизгруппы, состоящейизметафосфатовобщейформулы I:иполифосфатовобщейформулы II и III:гдеМ являетсяаммонием, натриеми калиеми индекс n равенот 2 до 10000. Композициясодержит (C) поменьшеймереодинкомпонентнаосновемногоатомногоспирта, выбранныйизгруппы (с1) многоатомныхспиртов, причеммногоатомныйспирт (с1) содержитсяв количествахот 0,005 до 5 мас.% впересчетенамассууказаннойкомпозиции, (с2) смеси, состоящейиз (с21) поменьшеймереодногомногоатомногоспиртаи (с22) поменьшеймереодногорастворимогов водеилидиспергируемогов водеполимера, (с3) смесей (с1) и (с2). Описантакжеспособполированияподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройстви применениеводнойполирующейкомпозициидляизготовленияэлектрических, механическихи оптическихустройств. Техническийрезультат– обеспечениекомпозиции, имеющейулучшеннуюизбирательностьв отношенииоксидакремнияпосравнениюс нитридомкремниядажеболее 50 сполучениемотполированныхпластин, имеющихпревосходнуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 3 н. и 5

公开(公告)号：RU2608890C2

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：RU2013115236

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANTS DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR

IPC: C09G1/02 ,  A01N51/00 ,  C09G1/04

Abstract: Изобретениеотноситсяк воднымполирующимкомпозициямдляполированияматериаловподложекэлектрических, высокойточностимеханическихи оптическихустройств. Воднаяполирующаякомпозициясодержит (A) поменьшеймереоднорастворимоев водеилидиспергируемоев водесоединение, выбранноеизсолей N-замещенных N'-гидрокси-диазений-оксидов, и (В) абразивныечастицы, содержащиеоксидцерияилисостоящиеизнего. Описываетсятакжеспособполированияматериаловдодостиженияжелательнойплоскостностис использованиемуказаннойкомпозиции. Предложеннаяполирующаякомпозицияобеспечиваетповышеннуюоксид/нитрид-селективностьи улучшеннуюглобальнуюи локальнуюплоскостностьотполированныхматериаловэлектрических, механическихи оптическихустройств. 3 н. и 6 з. п. ф-лы, 2 табл., 6 пр.

公开(公告)号：RU2577281C2

公开(公告)日：2016-03-10

申请号：RU2013115235

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： LI JUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN

IPC: C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14

Abstract: Изобретениенаправленонаводнуюполирующуюкомпозицию, котораяособенноподходитдляполированияматериаловподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройств. Композициясодержит (A) абразивныечастицы, которыеположительнозаряжены, когдадиспергированыв воднойсреде, имеющей pH винтервалеот 3 до 9; (B) водорастворимыеилидиспергируемыев водекомпоненты, выбранныеиз (b1) алифатическихи циклоалифатическихоксикарбоновыхкислот, гдемолярноеотношениегидроксильныхгруппк группамкарбоновыхкислотсоставляетпоменьшеймере 2; (b2) сложныхэфировилилактоновоксикарбоновыхкислот (b1), имеющихпоменьшеймередвегидроксильныегруппы; и (b3) ихсмесей; и (C) водорастворимыеилидиспергируемыев водеполимерныекомпоненты, выбранныеиз (c1) линейныхи разветвленныхполимеровалкиленоксидов; (c2) линейныхи разветвленных, алифатическихи циклоалифатическихполи(N-виниламидных) полимеров; и (c3) катионныхполимерныхфлокулянтов, имеющихсреднемассовуюмолекулярнуюмассуменее 100000 Дальтон. Композициядемонстрируетулучшеннуюоксид/нитридселективностьи обеспечиваетполучениеотполированныхпластин, имеющиххорошуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 4 н. и 9 з.п. ф-лы, 6 табл., 6 пр.

公开(公告)号：RU2573672C2

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：RU2013115237

申请日：2011-09-05

Applicant: BASF SE

Inventor： LI JUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  CHIU VEJ LAN UILLIAM ,  PINDER KHARVI UEHJN

IPC: C09G1/02 ,  B24B7/22 ,  B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

Abstract: Изобретениеотноситсяк новойводнойполирующейкомпозициидляполированияполупроводниковыхподложек, содержащихпленкидиэлектрикаоксидакремнияи поликремния, атакженеобязательносодержащихпленкинитридакремния. Указаннаяводнаяполирующаякомпозициясодержит (A) поменьшеймереодинтипабразивныхчастиц, (В) от 0,001 до 5,0 мас.% поменьшеймереодногорастворимогов водеполимера, (С) поменьшеймереодинанионныйфосфатныйдиспергирующийагент. Абразивныечастицы (А) содержатилисостоятиздиоксидацерия, положительнозаряженыпридиспергированиив воднойсреде, свободнойоткомпонента (C) иимеющей pH винтервалеот 3 до 9, чтоподтверждаетсяэлектрофоретическойподвижностью. Компонент (B) поменьшеймереэтоодинрастворимыйв водеполимер, выбранизгруппы, состоящейизлинейныхи разветвленныхгомополимерови сополимеровалкиленоксидов. Изобретениеотноситсяи кспособуполированияподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройствс применениемуказаннойводнойполирующейкомпозиции. Полирующаякомпозицияпоизобретениюобладаетзначительноулучшеннойселективностьюоксид/поликремнийи обеспечиваетполучениеполированныхпластин, имеющихпревосходнуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 6 табл., 9 пр.