-
公开(公告)号：AU2016212217B2
公开(公告)日：2020-10-08
申请号：AU2016212217
申请日：2016-01-25
Applicant: BASF SE
Inventor： URCH HENNING , REIN CHRISTIAN , FITZMAURICE NEIL JEFFREY , ORR GRAHAM ROBERT , REDFERN DAVID
Abstract: The present invention relates to a method for removing radioactive elements from a mixture, said mixture being treated with at least one alkane sulphonic acid and at least one additional acid, as well as to the use of at least one alkane sulphonic acid and at least one additional acid for removing radioactive elements from mixtures containing the same.
-
公开(公告)号：ZA201705617B
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：ZA201705617
申请日：2017-08-18
Applicant: BASF SE
Inventor： REIN CHRISTIAN , URCH HENNING , REDFERN DAVID , ORR GRAHAM ROBERT , FITZMAURICE NEIL JEFFREY
-
公开(公告)号：CO2017007685A2
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CO2017007685
申请日：2017-07-28
Applicant: BASF SE
Inventor： URCH HENNING , REIN CHRISTIAN , FITZMAURICE NEIL JEFFREY , ORR GRAHAM ROBERT , REDFERN DAVID
Abstract: RESUMEN La presente invención se refiere a un método de separación de elementos radiactivos de una mezcla, en donde la mezcla se trata con al menos un ácido alcansulfónico y al menos otro ácido y también al uso de al menos un ácido alcansulfónico y al menos otro ácido para separar elementos radiactivos de mezclas que los comprenden.
-
公开(公告)号：PE12542017A1
公开(公告)日：2017-08-28
申请号：PE0012652017
申请日：2016-01-25
Applicant: BASF SE
Inventor： URCH HENNING , REIN CHRISTIAN , FITZMAURICE NEIL JEFFREY , ORR GRAHAM ROBERT , REDFERN DAVID
CPC classification number: C22B3/08 , B01D11/0449 , C02F1/26 , C02F1/66 , C02F2101/22 , C02F2103/16 , C22B1/00 , C22B3/165 , C22B19/22 , G21C19/46 , G21F9/007 , G21F9/125 , G21F9/30 , Y02W30/883
Abstract: La presente invencion se refiere a un metodo de separacion de elementos radiactivos de una mezcla, en donde la mezcla se trata con al menos un acido alcansulfonico y al menos otro acido y tambien al uso de al menos un acido alcansulfonico y al menos otro acido para separar elementos radiactivos de mezclas que los comprenden
-
公开(公告)号：BRPI0615824B1
公开(公告)日：2016-07-19
申请号：BRPI0615824
申请日：2006-09-11
Applicant: BASF SE
Inventor： CHOWDHRY MUBARIK , YAMASHITA HIDEKI , YONG CHEESENG , CATTERALL GREGORY , ALLEN JONATHON , VAN SONSBEEK ROGER , REDFERN DAVID , SCHULER BERNHARD , WAGNER OLIVER , CHRISTIE DAVID
IPC: C08K5/36 , C08K5/51 , C09D7/12 , C09D133/08 , C09D133/12 , C09D135/06 , C09D201/00
Abstract: método para melhorar a resistência ao manchamento e resistência à penetração de composições de revestimento aquosas, e, uso de um tensoativo aniônico. a invenção tambpem diz respeito a um método para aumentar a resistência ao manchamento e a resistência à penetração de composições de revestimento aquosas, cujo método compreende fornecer uma composição de revestimento que contém pelo menos um pigmento, pelo menos um polímero que forma filme na forma de uma dispersão de polímeto aquosa e pelo menos um tensoativo aniônico, em que o tensoativo aniônico compreende pelo menos 85% em peso, preferivelmente pelo menos 90% em peso mais preferivelmente pelo menos 95 % em peso, com base no peso total de tensoativo aniônico na composição de revestimento, de pelo menos um tensoativo aniônico s, que é selecionado de semi-ésteres de ácido sulfúrico ou a´cido fosfórico com um álcool, cujo carrega pelo menos um radical alquila tendo de 8 a 30 átomos de carbono ou um radical fenila substituído por alquila cm em que alquila tem 4 a 20 átomos de carbono e cujo álcool pode carregar um grupo oligo-alquileno c~ 2~-c~ 3~-éter desde que o número de unidades de repetição no grupo oligo-alquileno c~ 2~-c~ 3~éter seja no máximo 15, ou um sal deste.
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CL2017001900A1
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CL2017001900
申请日：2017-07-25
Applicant: BASF SE
Inventor： URCH HENNING , REIN CHRISTIAN , FITZMAURICE NEIL JEFFREY , ORR GRAHAM ROBERT , REDFERN DAVID
Abstract: LA PRESENTE INVENCIÓN SE REFIERE A UN MÉTODO DE SEPARACIÓN DE ELEMENTOS RADIACTIVOS DE UNA MEZCLA, EN DONDE LA MEZCLA SE TRATA CON AL MENOS UN ÁCIDO ALCANSULFÓNICO Y AL MENOS OTRO ÁCIDO Y TAMBIÉN AL USO DE AL MENOS UN ÁCIDO ALCANSULFÓNICO Y AL MENOS OTRO ÁCIDO PARA SEPARAR ELEMENTOS RADIACTIVOS DE MEZCLAS QUE LOS COMPRENDEN.
-
公开(公告)号：AU2016212217A1
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：AU2016212217
申请日：2016-01-25
Applicant: BASF SE
Inventor： URCH HENNING , REIN CHRISTIAN , FITZMAURICE NEIL JEFFREY , ORR GRAHAM ROBERT , REDFERN DAVID
Abstract: The present invention relates to a method for removing radioactive elements from a mixture, said mixture being treated with at least one alkane sulphonic acid and at least one additional acid, as well as to the use of at least one alkane sulphonic acid and at least one additional acid for removing radioactive elements from mixtures containing the same.
-
公开(公告)号：PL1926787T3
公开(公告)日：2010-07-30
申请号：PL06793397
申请日：2006-09-11
Applicant: BASF SE
Inventor： CHOWDHRY MUBARIK MAHMOOD , YAMASHITA HIDEKI , YONG CHEESENG , CATTERALL GREGORY JOHN , ALLEN JONATHON SHANE , VAN SONSBEEK ROGER JAN , REDFERN DAVID , SCHULER BERNHARD , WAGNER OLIVER , CHRISTIE DAVID
IPC: C09D133/08 , C08K5/521 , C09D7/12 , C09D133/12
-
公开(公告)号：CA2625067C
公开(公告)日：2016-01-05
申请号：CA2625067
申请日：2006-09-11
Applicant: BASF SE
Inventor： CHOWDHRY MUBARIK MAHMOOD , YAMASHITA HIDEKI , YONG CHEESENG , CATTERALL GREGORY JOHN , ALLEN JONATHON SHANE , VAN SONSBEEK ROGER JAN , REDFERN DAVID , SCHULER BERNHARD , WAGNER OLIVER , CHRISTIE DAVID
IPC: C09D133/08 , C08K5/36 , C08K5/51 , C09D7/12 , C09D133/12 , C09D135/06 , C09D201/00
Abstract: The invention also relates to a method to increase stain resistance and penetration resistance of aqueous coating compositions which method comprises providing a coating composition which contain at least one pigment, at least one film-forming polymer in the form of an aqueous polymer dispersion and at least one anionic surfactant, wherein the anionic surfactant comprises at least 85 % by weight, preferably at least 90 % by weight, more preferably at least 95 % by weight, based on the total weight of ani- onic surfactant in the coating composition, of at least one anionic surfactant S, which is selected from semi-esters of sulfuric acid or phosphoric acid with an alcohol, which alcohol carries at least one alkyl radical having from 8 to 30 carbon atoms or an alkyl substituted phenyl radical wherein alkyl has from 4 to 30 carbon atoms and which alco- hol may carry an oligo-C2-C3-alkylene-ether group provided that the number of repeat- ing units in the oligo-C2-C3-alkylene-ether group is at most 15, or a salt thereof.
-
公开(公告)号：PL1926787T5
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：PL06793397
申请日：2006-09-11
Applicant: BASF SE
Inventor： CHOWDHRY MUBARIK MAHMOOD , YAMASHITA HIDEKI , YONG CHEESENG , CATTERALL GREGORY JOHN , ALLEN JONATHON SHANE , VAN SONSBEEK ROGER JAN , REDFERN DAVID , SCHULER BERNHARD , WAGNER OLIVER , CHRISTIE DAVID
IPC: C09D133/08 , C08K5/521 , C09D7/12 , C09D133/12
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
18
records
(took 0.022 seconds)
