公开(公告)号：US09777192B2

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：US14377648

申请日：2013-01-25

Applicant: BASF SE

Inventor： Yuzhuo Li ,  Bastian Marten Noller ,  Michael Lauter ,  Roland Lange

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/3105 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306 ,  C09G1/18

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: Chemical mechanical polishing composition is provided. The composition comprises (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) a protein, and (C) an aqueous medium.

公开(公告)号：US20150017454A1

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：US14377648

申请日：2013-01-25

Applicant: BASF SE

Inventor： Yuzhuo Li ,  Bastian Marten Noller ,  Michael Lauter ,  Roland Lange

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/306 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: Chemical mechanical polishing composition is provided. The composition comprises (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) a protein, and (C) an aqueous medium.

Abstract translation: 提供化学机械抛光组合物。 组合物包含（A）无机颗粒，有机颗粒或其混合物或复合物，（B）蛋白质和（C）水性介质。