Procedimiento para pasivar superficies metálicas con copolímeros que exhiben grupos ácido fosfórico y/o ácido fosfónico

    公开(公告)号:ES2640523T3

    公开(公告)日:2017-11-03

    申请号:ES07787669

    申请日:2007-07-18

    Applicant: BASF SE

    Abstract: Preparación ácida para la pasivación de superficies metálicas, con un valor de pH =CHR1- COOR2, en la que R1 representa H o metilo y R2 representa un radical elegido de entre los siguientes grupos: (R2a) radical de la fórmula general -(R3-O-)n-R4, en la que n representa un número natural de 2 a 40, R3 representa en cada caso independientemente uno de otro un radical alquilo divalente, de cadena recta o ramificada con 2 a 4 átomos de C y R4 representa H o un radical alquilo de cadena recta o ramificada con 1 a 6 átomos de C, (R2b) radicales de la fórmula general -R5-Xm, en la que R5 representa un radical alquilo con valencia (m+1), de cadena recta o ramificada con 1 a 10 átomos de C, X representa un grupo funcional elegido de entre el grupo de - OH, -OR6, -NH2, -NHR6, -NR2 6, -N+HR2Y- o -N+R3Y-, en los que R6 representa metilo o etilo, Y representa un anión monovalente y m representa un número natural de 1 a 6, con la condición de que en R5 no esté presente más de un grupo funcional X por átomo de C, (R2c) un radical mono- u oligosacárido, (B) del 10 al 75 % en peso de por lo menos un monómero con una insaturación monoetilénica, el cual comprende grupos ácido fosfórico y/o grupos ácido fosfónico y/o sales y/o ésteres de ellos, (C) del 5 al 70 % en peso de por lo menos un monómero con una insaturación monoetilénica, el cual comprende por lo menos un grupo COOH y/o sales de ellos, así como (D) del 0 al 20 % en peso de otros monómeros con insaturación etilénica diferentes de (A) a (C), en los que aparte de los monómeros (A), (B), (C) así como opcionalmente (D), no están presentes otros monómeros.

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