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公开(公告)号：WO2008055855A3
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/EP2007061850
申请日：2007-11-05
Applicant: BASF SE , LEYRER REINHOLD J , WOHLLEBEN WENDEL , ALTMANN STEPHAN
Inventor： LEYRER REINHOLD J , WOHLLEBEN WENDEL , ALTMANN STEPHAN
CPC classification number: C08F12/08 , Y10T428/24777 , Y10T428/2982 , C08F2/18 , C08F2/22
Abstract: The invention relates to the use of polymer particles for the production of photonic crystals, characterized in that the polymer particles have a weight average particle size of more than 600 nm and an ion group content of less than 0.001, preferably of less than 0.0001 mol/1 g of polymer particles and the polymer particles form the lattice structure of the photonic crystal without being embedded in a liquid or solid matrix.
Abstract translation: 用于生产光子晶体的使用聚合物颗粒，其特征在于，所述聚合物颗粒的重量平均粒径大于600纳米，小0.001离子基团的含量，优选低于0.0001摩尔/已1g聚合物颗粒和聚合物颗粒形成的光子晶体的晶格结构 ，而不被嵌入在液体或固体基质。
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公开(公告)号：WO2011058155A3
公开(公告)日：2013-05-10
申请号：PCT/EP2010067425
申请日：2010-11-15
Applicant: BASF SE , SACHWEH BERND , KOBAN WIELAND , WOHLLEBEN WENDEL , PEUKERT WOLFGANG , KLUPP TAYLOR ROBIN , DISTASO MONICA , UNIV FRIEDRICH ALEXANDER ER
Inventor： SACHWEH BERND , KOBAN WIELAND , WOHLLEBEN WENDEL , PEUKERT WOLFGANG , KLUPP TAYLOR ROBIN , DISTASO MONICA
CPC classification number: C09C1/043 , A61K8/0283 , A61K8/27 , A61K8/8176 , A61K2800/412 , A61K2800/654 , A61Q17/04 , B82Y30/00 , C01G9/02 , C01P2004/03 , C01P2004/51 , C01P2004/64
Abstract: The present invention relates to a method of protecting a substrate against ultraviolet (UV) irradiation by applying to the substrate metal oxide nanocomposite particles showing at the same time high transmittance of visible light and high absorbance of UV light.
Abstract translation: 本发明涉及一种通过向基板金属氧化物纳米复合材料颗粒施加抗紫外线（UV）照射而保护基板的方法，同时显示可见光的高透射率和高的紫外光吸收。
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公开(公告)号：BR112012011714A2
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：BR112012011714
申请日：2010-11-15
Applicant: BASF SE
Inventor： SACHWEH BERND , DISTASO MONICA , TAYLOR ROBIN KLUPP , WOHLLEBEN WENDEL , KOBAN WIELAND , PEUKERT WOLFGANG
IPC: A61K8/11
Abstract: método para proteger um objeto contra radiação uv, método para fabricar um nanocompósito de óxido metálico, e, nanocompósito de óxido metálico. a presente invenção refere-se a um método de proteger um substrato contra radiação ultravioleta (uv) aplicando-se ao substrato partículas de nanocompósito de óxido metálico mostrando ao mesmo tempo transmitância alta de luz vísivel e absorbância alta de luz uv.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CA2779990A1
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：CA2779990
申请日：2010-11-15
Applicant: BASF SE
Inventor： SACHWEH BERND , KOBAN WIELAND , WOHLLEBEN WENDEL , PEUKERT WOLFGANG , KLUPP TAYLOR ROBIN , DISTASO MONICA
IPC: A61K8/11
Abstract: The present invention relates to a method of protecting a substrate against ultraviolet (UV) irradiation by applying to the substrate metal oxide nanocomposite particles showing at the same time high transmittance of visible light and high absorbance of UV light.
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公开(公告)号：MX2012005503A
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：MX2012005503
申请日：2010-11-15
Applicant: BASF SE
Inventor： SACHWEH BERND , KOBAN WIELAND , WOHLLEBEN WENDEL , PEUKERT WOLFGANG , TAYLOR ROBIN KLUPP , DISTASO MONICA
IPC: A61K8/11
Abstract: La presente invención se refiere a un método para proteger un sustrato contra irradiación ultravioleta (UV) aplicando a las partículas de nanocompuestos de óxido de metal del sustrato que muestra al mismo tiempo alta transmitancia de luz visible y alta absorbancia de luz UV.
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公开(公告)号：ES2482092T3
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：ES08787404
申请日：2008-08-22
Applicant: BASF SE
Inventor： LEYRER REINHOLD J , WOHLLEBEN WENDEL
IPC: C08F257/00 , G02B6/122 , C08F265/04 , C08F285/00 , C08F291/00
Abstract: Procedimiento de producción de cristales fotónicos inversos, caracterizado porque se forman cristales fotónicos a partir de una dispersión acuosa de partículas poliméricas que no forman películas y presentan, en sus puntos de contacto en el cristal fotónico, sitios de unión que permiten una unión de las partículas mediante enlace físico o químico, sin reducir el volumen de la fase intersticial, denominándose como fase intersticial los espacios huecos remanentes presentes en el cristal fotónico que se forman después de la formación del cristal fotónico a partir de una dispersión acuosa de las partículas poliméricas por volatilización del agua, en más del 30 %, lográndose el enlace químico porque las partículas poliméricas al menos en los puntos de contacto presentan grupos químicos que están unidos a las partículas poliméricas que pueden unirse entre sí covalentemente térmicamente a temperatura ambiente, o lográndose un enlace físico porque las partículas poliméricas al menos en los puntos de contacto presentan grupos químicos unidos que pueden generar entre sí enlaces de puente de hidrógeno, por volatilización del agua, los espacios huecos entre las partículas poliméricas se rellenan con sustancias inorgánicas, tales como silicio, TiO2 y después las partículas poliméricas se eliminan, estando constituidas las partículas poliméricas, al menos en el núcleo, por más del 70 % en peso de monómeros de hidrocarburo monovalentes y por del 0 al 30 % en peso de monómeros reticulantes.
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公开(公告)号：DE502007002677D1
公开(公告)日：2010-03-11
申请号：DE502007002677
申请日：2007-02-13
Applicant: BASF SE
Inventor： LEYRER REINHOLD J , WOHLLEBEN WENDEL , ALTMANN STEPHAN , DANIEL THOMAS
IPC: C09D151/00
Abstract: Use of colored polymer systems having a color which is changeable in the case of a strain for indicating the stress state of hygiene or medical articles adjacent to the body.
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公开(公告)号：AT455829T
公开(公告)日：2010-02-15
申请号：AT07704546
申请日：2007-02-13
Applicant: BASF SE
Inventor： LEYRER REINHOLD J , WOHLLEBEN WENDEL , ALTMANN STEPHAN , DANIEL THOMAS
IPC: C09D151/00
Abstract: Use of colored polymer systems having a color which is changeable in the case of a strain for indicating the stress state of hygiene or medical articles adjacent to the body.
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