公开(公告)号：EP3033408A4

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：EP14822568

申请日：2014-07-08

Applicant: BASF SE

Inventor： KLIPP ANDREAS ,  HONCIUC ANDREI ,  YANG CHU-YA

IPC: G03F1/68 ,  G03F1/82 ,  G03F7/00 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F1/82 ,  C11D1/004 ,  G03F1/22 ,  G03F1/24 ,  G03F1/68 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: The use of surfactants A, a 1% by weight, aqueous solutions of which exhibit a static surface tension

Abstract translation: 使用表面活性剂A（1重量％，其水溶液表现出<25mN / m的静态表面张力），所述表面活性剂A含有至少三个选自三氟甲基，五氟乙基 ，1-七氟丙基，2-七氟丙基和五氟硫烷基，用于清洁具有用于制造半导体基板的图案的光掩模，所述半导体基板包括具有最小线间距尺寸低于60nm的图案。 通过使用包含表面活性剂A的掩模清洁溶液，提高了颗粒去除效率，用于物理力处理的更宽工艺窗口，没有观察到雾霾缺陷，没有水印和没有CD损失。