公开(公告)号：CN1548947A

公开(公告)日：2004-11-24

申请号：CN03156997.8

申请日：2003-09-17

Applicant: DE&T株式会社

Inventor： 南宫墣 ,  朴昌铉 ,  裵基先 ,  沈在信 ,  金炫秀

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/27 ,  G01N21/57 ,  G01J3/10

Abstract: 一种检查基片的照明装置，用于提供检查大尺寸的基片表面的最佳的视觉条件，该照明装置包括：多个用于分别反射来自多个光源的光线的镜子，这些光源在一个曲面上沿左/右和上/下中的至少一个方向移动；和用于将在镜子上反射的散射光聚焦到一个焦点，并照亮在一个平台上的基片的菲涅耳透镜，由此简化该照明装置的移动结构，并允许操作人员通过用多束光线照亮大尺寸基片的大片区域，在不移动焦点的情况下在一个焦点进行检查。

公开(公告)号：CN1292246C

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN03156997.8

申请日：2003-09-17

Applicant: DE&T株式会社

Inventor： 南宫墣 ,  朴昌铉 ,  裵基先 ,  沈在信 ,  金炫秀

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/27 ,  G01N21/57 ,  G01J3/10

Abstract: 一种检查基片的照明装置，用于提供检查大尺寸的基片表面的最佳的视觉条件，该照明装置包括：多个用于分别反射来自多个光源的光线的镜子，这些光源在一个曲面上沿左/右和上/下中的至少一个方向移动；和用于将在镜子上反射的散射光聚焦到一个焦点，并照亮在一个平台上的基片的菲涅耳透镜，由此简化该照明装置的移动结构，并允许操作人员通过用多束光线照亮大尺寸基片的大片区域，在不移动焦点的情况下在一个焦点进行检查。

公开(公告)号：CN101162700A

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN200710151749.6

申请日：2007-09-27

Applicant: DE&T株式会社

Inventor： 裵基先 ,  金镐烈 ,  姜缗彻 ,  朴钟夏

IPC: H01L21/66

Abstract: 本发明涉及晶片的检查装置，可用一个装置同时检查晶片的稀释剂附着物和涂布在晶片表面上的光敏电阻的厚度测定、以及包括边缘曝光的晶片的侧面检查。在具有上、下面和侧面的装置本体(1)内部包括：固定并使晶片旋转的吸盘(2)；第一装置(3)，设置在吸盘(2)上部，检测安装在吸盘(2)上的晶片表面的稀释剂附着物；第二装置(4)，同时检查晶片的上部侧面和下部侧面，通过组合这些检查而进行晶片的侧面检查；以及第三装置(5)，对安装在吸盘(2)上的晶片的光敏电阻的厚度进行测定。由此可确保晶片检查的迅速性和简便性，还可同时进行现有技术中不能检查的包括边缘曝光的侧面检查，所以具有可实现晶片检查的正确性和快速的效果。