OPTICAL ARTICLE COATED WITH AN UNDERLAYER AND WITH A TEMPERATURE-RESISTANT MULTI-LAYER ANTI-REFLECTION COATING, AND MANUFACTURING METHOD
    1.
    发明申请
    OPTICAL ARTICLE COATED WITH AN UNDERLAYER AND WITH A TEMPERATURE-RESISTANT MULTI-LAYER ANTI-REFLECTION COATING, AND MANUFACTURING METHOD 审中-公开
    具有耐下层和耐温多层抗反射涂层的光学制品和制造方法

    公开(公告)号:WO2008001011A3

    公开(公告)日:2008-03-06

    申请号:PCT/FR2007051537

    申请日:2007-06-26

    CPC classification number: G02B1/116

    Abstract: The invention relates to an optical article having anti-reflection properties which is optionally antistatic and which possesses high heat resistance and high abrasion resistance, and to the method of manufacturing it. The article of the invention comprises a substrate and, from the substrate up: - an underlayer comprising an SiO 2 -based layer, said SiO 2 -based layer having a thickness of greater than or equal to 75 nm and being free of Al 2 O 3 ; and - a multi-layer anti-reflection coating comprising a stack of at least one high-refractive-index layer and at least one low-refractive-index layer, of which all of the low-refractive-index layers comprise a mixture of SiO 2 and Al 2 O 3 , and of which the high-refractive-index layers are not layers which absorb within the visible region, comprising a substoichiometric titanium oxide, and reducing the relative transmittance factor in the visible region (Tv) of the optical article by at least 10% relative to the same article not containing said layers which absorb within the visible region.

    Abstract translation: 本发明涉及具有抗反射性的光学制品,其具有任选的抗静电性,并且具有高耐热性和高耐磨性及其制造方法。 本发明的制品包括一种基材,并且从该基底向上延伸: - 包含SiO 2基层的底层,所述基于SiO 2的层的厚度为 大于或等于75nm且不含Al 2 O 3; 以及 - 多层抗反射涂层,其包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层,其中所有低折射率层均包含SiO 其中高折射率层不是在可见光区域内吸收的层,其包含一个或多个第二层, 亚化学计量的氧化钛,并且相对于不含有在可见区域内吸收的所述层的相同制品,将光学制品的可见光区域(Tv)的相对透射率降低至少10%。

    OPTICAL ARTICLE HAVING A TEMPERATURE-RESISTANT ANTI-REFLECTION COATING WITH OPTIMIZED THICKNESS RATIO OF LOW INDEX AND HIGH INDEX LAYERS
    2.
    发明申请
    OPTICAL ARTICLE HAVING A TEMPERATURE-RESISTANT ANTI-REFLECTION COATING WITH OPTIMIZED THICKNESS RATIO OF LOW INDEX AND HIGH INDEX LAYERS 审中-公开
    具有低折射率和高折射率层的优化厚度比的耐高温抗反射涂层的光学物品

    公开(公告)号:WO2008000841A2

    公开(公告)日:2008-01-03

    申请号:PCT/EP2007057798

    申请日:2007-06-27

    CPC classification number: G02B1/115 G02B1/116

    Abstract: The present invention relates to an optical article having anti-reflection properties and high thermal resistance, comprising a substrate having at least one main face coated with a multi-layer anti-reflection coating comprising a stack of at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer, wherein the ratio:R T sum of the physical thicknesses of the low refractive index layers of the anti-reflection coating/sum of the physical thicknesses of the high refractive index layers of the anti-reflection coating is higher than 2.1. If the anti-reflection stack comprises at least one low refractive index layer having a physical thickness =100nm which is not the outermost layer of the anti-reflection coating, said relatively thick layer and the underlying layers are not taken into account in R T calculation.

    Abstract translation: 本发明涉及一种具有抗反射性能和高耐热性的光学制品,该光学制品包括基材,该基材具有涂布有多层抗反射涂层的至少一个主面,该多层抗反射涂层包含至少一个高折射率层的堆叠, 至少一个低折射率层,其中,所述抗反射涂层的低折射率层的物理厚度之和与所述抗反射涂层的低折射率层的高折射率层的物理厚度之和的比值R SUB> T 防反射涂层高于2.1。 如果防反射叠层包括至少一个具有不是抗反射涂层的最外层的物理厚度= 100nm的低折射率层,则在R T 计算。

    3.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE602004019300D1

    公开(公告)日:2009-03-19

    申请号:DE602004019300

    申请日:2004-12-16

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: Optical article (I) comprises a transparent substrate made up of organic or mineral glass, comprising main phases, which comprises an anti-reflecting multi-layer coating comprising two layers (titanium oxide (under stoichiometric condition)) absorbing in the visible region such as the relative factor of transmission (Tv) of visible light reduced to 10 (preferably 80)% compared to (I) does not comprising the layers in the visible region. An independent claim is also included for the preparation of (I).

    ARTICULO DE OPTICA REVESTIDO CON UN REVESTIMIENTO ANTI-REFLEJOS MULTICAPAS QUE ABSORBE EN EL VISIBLE Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACION.

    公开(公告)号:ES2319538T3

    公开(公告)日:2009-05-08

    申请号:ES04816569

    申请日:2004-12-16

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: Artículo óptico que comprende un sustrato transparente de vidrio orgánico o mineral, que presenta unas caras principales delantera y posterior, comprendiendo por lo menos una de dichas caras principales un revestimiento antireflejos multicapas, comprendiendo dicho revestimiento anti-reflejos por lo menos dos capas que absorben en el visible y comprendiendo un óxido de titanio sub-estequiométrico, siendo las capas que absorben en el visible tales que el factor relativo de transmisión de la luz visible Tv está reducido por lo menos 10%, preferentemente por lo menos 40%, y mejor aún por lo menos 80%, con relación al mismo artículo que no comprende dichas capas que absorben en el visible, comprendiendo dicho revestimiento anti-reflejos un apilamiento de capas alternadas de alto índice de refracción (HI) y de bajo índice de refracción (BI) en el que una por lo menos de las capas que absorben en el visible es una capa de alto índice (HI) que comprende un óxido de titanio sub-estequiométrico, caracterizado porque por lo menos una de las capas de bajo índice (BI) comprende una mezcla de óxido de silicio y de óxido de aluminio.

    ARTICLE D'OPTIQUE REVETU D'UNE SOUS-COUCHE ET D'UN REVETEMENT ANTI-REFLETS MULTICOUCHES RESISTANT A LA TEMPERATURE, ET PROCEDE DE FABRICATION

    公开(公告)号:CA2656492A1

    公开(公告)日:2008-01-03

    申请号:CA2656492

    申请日:2007-06-26

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: L'invention concerne un article d'optique à propriétés anti-reflets, éven tuellement antistatique, possédant une résistance thermique et une résistanc e à l'abrasion élevées, ainsi que son procédé de fabrication. L'article de l 'invention comprend un substrat et, en partant du substrat : - une sous-couc he comprenant une couche à base de SiO2, ladite couche à base de SiO2 ayant une épaisseur supérieure ou égale à 75 nm et étant exempte d'Al2O3; et - un revêtement anti-reflets multicouches comprenant un empilement d'au moins une couche de haut indice de réfraction et d'au moins une couche de bas indice de réfraction, dont toutes les couches de bas indice de réfraction comprenne nt un mélange de SiO2 et d'Al2O3, et dont les couches de haut indice de réfr action ne sont pas des couches absorbant dans le visible comprenant un oxyde de titane sous- stoechiométrique et réduisant le facteur relatif de transmi ssion dans le visible (Tv) de l'article d'optique d'au moins 10 % par rappor t au même article ne comportant pas lesdites couches absorbant dans le visib le.

    8.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:FR2864251B1

    公开(公告)日:2006-04-28

    申请号:FR0450042

    申请日:2004-01-07

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: Optical article (I) comprises a transparent substrate made up of organic or mineral glass, comprising main phases, which comprises an anti-reflecting multi-layer coating comprising two layers (titanium oxide (under stoichiometric condition)) absorbing in the visible region such as the relative factor of transmission (Tv) of visible light reduced to 10 (preferably 80)% compared to (I) does not comprising the layers in the visible region. An independent claim is also included for the preparation of (I).

    PROCEDE DE MARQUAGE PERMANENT VISIBLE D'ARTICLE OPTIQUE ET ARTICLE OPTIQUE MARQUE

    公开(公告)号:FR3054043A1

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:FR1656851

    申请日:2016-07-18

    Abstract: Procédé de marquage d'un article optique (20) revêtu d'un revêtement interférentiel comprenant au moins deux couches intérieure (15) et extérieure (14) et de coefficient de réflexion Re ; par l'insolation de la couche intérieure (15) en un point de marquage (P), au moyen d'un faisceau laser à une longueur d'onde de marquage, de façon à ablater la couche intérieure et toute couche plus éloignée du substrat; la zone ablatée présentant un coefficient de réflexion Rm différent de Re d'au moins 1% ; La couche intérieure absorbant la longueur d'onde de marquage de manière plus importante que toute couche plus éloignée du substrat. L'invention concerne également un article optique revêtu d'un revêtement interférentiel à au moins deux couches intérieure et extérieure, ledit article comprenant un motif de marquage formé par absence localisée de couches.

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