DISPOSITIF ET PROCEDE DE MARQUAGE D'UNE LENTILLE OPHTALMIQUE AVEC UN LASER PULSE DE LONGUEUR D'ONDE ET ENERGIE PAR IMPULSION SELECTIONNEES

    公开(公告)号:CA2922526A1

    公开(公告)日:2015-03-26

    申请号:CA2922526

    申请日:2014-09-19

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: La présente demande concerne un dispositif de marquage de lentille ophtalmique (3), la lentille (3) étant réalisée en au moins un matériau prédéterminé. Le dispositif comporte un laser (1) configuré pour réaliser des gravures permanentes sur la lentille (3) et configuré pour émettre un faisceau focalisé de rayonnement laser ultraviolet par impulsions qui comporte au moins une longueur d'onde de rayonnement comprise entre 200 nm et 300 nm, une durée d'impulsion comprise entre environ 0,1 ns et environ 5 ns, et une énergie par impulsion comprise entre environ 5 µJ et environ 100 µJ. La présente demande concerne en outre un procédé de marquage laser configuré pour réaliser des gravures permanentes sur une lentille ophtalmique (3) au moyen du dispositif précité.

    PROCEDE DE FABRICATION D'UNE LENTILLE OPHTALMIQUE COMPORTANT UNE ETAPE DE MARQUAGE LASER POUR REALISER DES GRAVURES PERMANENTES SUR UNE SURFACE DE LADITE LENTILLE OPHTALMIQUE

    公开(公告)号:FR3007678A1

    公开(公告)日:2015-01-02

    申请号:FR1356325

    申请日:2013-06-28

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'une lentille ophtalmique comportant une étape de marquage laser pour réaliser des gravures permanentes sur une surface de ladite lentille, au moins une étape prédéterminée postérieure à ladite étape de marquage et mettant en œuvre des contraintes thermiques sévères qui sont appliquées à ladite surface et une étape de détermination d'un point de fonctionnement (PF) d'une machine de marquage laser (1) configurée pour mettre en œuvre ladite étape de marquage à partir de caractéristiques géométriques (Di) desdites gravures à réaliser, laquelle étape de détermination comporte les étapes de déterminer (304) une valeur (CPM) représentative de la déformation de ladite lentille sur au moins une zone de traitement de ladite surface, à partir desdites contraintes et de données relatives à un matériau prédéterminé dans lequel est formée ladite lentille, de déduire (308) ledit point de fonctionnement de ladite valeur représentative de déformation et desdites caractéristiques géométriques.

    VERRE DE LUNETTES MUNI D'UN MARQUAGE PERMANENT

    公开(公告)号:CA3035106A1

    公开(公告)日:2018-03-15

    申请号:CA3035106

    申请日:2017-09-07

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: Le verre de lunettes (42) comporte un substrat et un revêtement interférentiel anti-reflets ou miroir recouvrant ledit substrat du côté de la face avant (46), ledit revêtement interférentiel formant un motif (62) code-barres unidimensionnel ou bidimensionnel, ledit marquage (41) étant formé par une pluralité de lacunes ponctuelles sur une partie d'une épaisseur dudit revêtement interférentiel, ladite face avant (46) présentant en-dehors desdites lacunes ponctuelles un coefficient de réflexion de la lumière ayant une valeur nominale prédéterminée et dans chaque dite lacune ponctuelle un coefficient de réflexion de la lumière ayant une valeur particulière prédéterminée différente de ladite valeur nominale.

    PROCEDE DE MARQUAGE PERMANENT VISIBLE D'ARTICLE OPTIQUE ET ARTICLE OPTIQUE MARQUE

    公开(公告)号:FR3054043A1

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:FR1656851

    申请日:2016-07-18

    Abstract: Procédé de marquage d'un article optique (20) revêtu d'un revêtement interférentiel comprenant au moins deux couches intérieure (15) et extérieure (14) et de coefficient de réflexion Re ; par l'insolation de la couche intérieure (15) en un point de marquage (P), au moyen d'un faisceau laser à une longueur d'onde de marquage, de façon à ablater la couche intérieure et toute couche plus éloignée du substrat; la zone ablatée présentant un coefficient de réflexion Rm différent de Re d'au moins 1% ; La couche intérieure absorbant la longueur d'onde de marquage de manière plus importante que toute couche plus éloignée du substrat. L'invention concerne également un article optique revêtu d'un revêtement interférentiel à au moins deux couches intérieure et extérieure, ledit article comprenant un motif de marquage formé par absence localisée de couches.

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