公开(公告)号：CN105908150A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201610103190.9

申请日：2016-02-25

Applicant: FEI公司

Inventor： J.J.L.穆德斯 ,  P.H.F.特罗姆佩纳亚斯 ,  P.多纳

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C14/221 ,  B05B1/005 ,  B05B1/14 ,  B05B7/24 ,  H01J37/30 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31749 ,  C23C16/45574

Abstract: 本发明涉及用于在粒子光学仪器的真空室中施用至少两种流体的喷气系统(GIS)，喷气系统具有两个或更多个通道(102,110)，各个通道在第一侧连接至容纳流体的相关联的贮藏器，并且在另一侧具有相关联的出口开口，出口侧经由具有喷嘴开口的喷嘴而单独地退出至GIS的外侧，其特征在于，至少两个出口开口(106,108)以比出口开口附近的通道的直径更小的距离分离，优选地，彼此同中心。本发明还涉及前述GIS的使用，其中中心喷嘴引导高通量的例如氧气，而外部的同中心的喷嘴将例如MeCpPtMe3的金属前驱体以更小两个数量级的通量引导至样品。在单步骤式沉积方法中，通过高通量的氧气而使纯化的金属沉积。喷嘴能够形成为附加喷嘴，使得能够将现有的GIS升级。优选地通过使用例如钛的3?D打印技术而制造喷嘴。

公开(公告)号：CN104103480A

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：CN201410132480.7

申请日：2014-04-03

Applicant: FEI公司

Inventor： J.J.L.穆德斯 ,  R.T.J.P.格尔特斯 ,  P.H.F.特罗姆佩纳亚斯 ,  E.G.T.博世

IPC: H01J37/08

CPC classification number: C23C14/48 ,  G01N1/286 ,  G01N1/32 ,  H01J37/02 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31742 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明涉及低能量离子铣削或沉积。样本必须在从晶片挖出所述样本之后被薄化，以形成具有例如20nm的厚度的薄片。这一般地通过在带电粒子设备中用离子进行溅射来完成。当将薄片铣削成这样的厚度时，问题是：薄片的一大部分由于离子的轰击而变成无定形的并且离子变得被注入样本中。本发明通过在GIS的毛细管（201）与样本（200）之间施加电压差并将离子或电子束（206）引导到气体喷射（207）来提供所述问题的解决方案。束从而使被加速至样本的气体电离，其中（当在样本与GIS之间使用低电压时）发生低能量铣削，并且因此几乎没有样本厚度变成无定形的。

公开(公告)号：CN105908150B

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201610103190.9

申请日：2016-02-25

Applicant: FEI 公司

Inventor： J.J.L.穆德斯 ,  P.H.F.特罗姆佩纳亚斯 ,  P.多纳

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C14/221 ,  B05B1/005 ,  B05B1/14 ,  B05B7/24 ,  H01J37/30 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明涉及用于在粒子光学仪器的真空室中施用至少两种流体的喷气系统(GIS)，喷气系统具有两个或更多个通道(102,110)，各个通道在第一侧连接至容纳流体的相关联的贮藏器，并且在另一侧具有相关联的出口开口，出口侧经由具有喷嘴开口的喷嘴而单独地退出至GIS的外侧，其特征在于，至少两个出口开口(106,108)以比出口开口附近的通道的直径更小的距离分离，优选地，彼此同中心。本发明还涉及前述GIS的使用，其中中心喷嘴引导高通量的例如氧气，而外部的同中心的喷嘴将例如MeCpPtMe3的金属前驱体以更小两个数量级的通量引导至样品。在单步骤式沉积方法中，通过高通量的氧气而使纯化的金属沉积。喷嘴能够形成为附加喷嘴，使得能够将现有的GIS升级。优选地通过使用例如钛的3‑D打印技术而制造喷嘴。

公开(公告)号：CN103775646A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201310489512.4

申请日：2013-10-18

Applicant: FEI公司

Inventor： P.H.F.特罗姆佩纳亚斯

IPC: F16J15/10

CPC classification number: F16J15/06 ,  C23C16/40 ,  C23C16/45555 ,  F16J15/32

Abstract: 本发明涉及用于形成密封的经涂覆的O型圈(200)，该O型圈的核(201)包括聚合物和/或合成橡胶，其特征在于涂层(202a)包括无机涂层（更特别地诸如Al2O3,SiO2,或TiO的金属氧化物），所述无机涂层具有10nm和1μm之间，更特别地，20nm和100nm之间，最特别地，20nm和50nm之间的厚度，导致O型圈表现出比未涂覆O型圈更低的渗透性，并且其中当O型圈的局部曲率在任何方向上改变20%时，涂层表现出很少的裂缝或无裂缝。涂层优选地通过原子层沉积施加，并且还可使用其他例如(PE)CVD、电子束蒸发和反应蒸发的沉积技术。优选的实施例包括带有Al2O3涂层（202a）的O型圈，其自身由SiO2层（202b）覆盖，所述层保护Al2O3层免受腐蚀并且填补在ALD沉积后存留在Al2O3涂层中的孔。进一步的弹性体层（203）可覆盖该一个或更多涂覆层（202a,202b)，以用于进一步的机械和/或化学保护。