公开(公告)号：KR20200128071A

公开(公告)日：2020-11-11

申请号：KR20207027692

申请日：2019-02-26

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： NIHASHI WATARU ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  OGAWA MICHIHIRO

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 본발명은, 미싱결함의발생이억제되고, 또한패턴붕괴가억제된패턴을형성가능한 EUV광용네거티브형감광성조성물을제공한다. 패턴형성방법, 및전자디바이스의제조방법을제공한다. 본발명의 EUV광용네거티브형감광성조성물은, 산의작용에의하여탈리되는보호기로극성기가보호된산분해성기를갖는반복단위를갖는수지 A, 및광산발생제를포함하며, 수지 A로부터보호기가탈리된후의수지의 ClogP값이 1.4 이하이고, 식 (1)로계산되는값 x가 1.2 이상이며, 식 (1)로계산되는값 x와, 식 (2)로계산되는값 y가, 식 (3)의관계를충족시킨다.

公开(公告)号：JP2013028756A

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：JP2011166959

申请日：2011-07-29

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： FUKUDA MAKOTO ,  SAKURAI SEIYA ,  OGAWA MICHIHIRO

IPC: C08J5/18 ,  C08G63/12 ,  C08G81/00 ,  H01L31/042

CPC classification number: C08J5/18 ,  B29C55/06 ,  B29C55/12 ,  B29K2067/00 ,  B29K2079/00 ,  C08G18/025 ,  C08G18/7614 ,  C08G18/797 ,  C08G81/00 ,  C08J2367/00 ,  C08J2379/00 ,  C09J175/06 ,  H01L31/0481 ,  Y02E10/50

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film having excellent hydrolysis resistance and a good surface condition.SOLUTION: The film comprises a polymer, characterized in that the polymer comprises polymer structural units containing a -N=C=N- structure and a -N=C(R)-NH- structure in the main chain (but does not contain an ester bond in the main chain, and R represents a polyester structure bound with a C atom at one end), and comprises as the polymer structural units, a polymer constitutional unit A of which the number average molecular weight of the part excluding R is 1,000-4,000 and a polymer structural unit B of which the number average molecular weight of the part excluding R is 18,000 or more.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有优异的耐水解性和良好的表面状态的膜。 解决方案：该膜包含一种聚合物，其特征在于该聚合物包含在主链中含有-N = C = N - 结构和-N = C（R）-NH-结构的聚合物结构单元（但是 在主链中不含有酯键，R表示在一端与C原子结合的聚酯结构），并且作为聚合物结构单元包含聚合物结构单元A，其中所述部分的数均分子量除外 R为1,000-4,000，除了R以外的部分的数均分子量为18,000以上的聚合物结构单元B. 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT