公开(公告)号：PL2530452T3

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：PL12168967

申请日：2012-05-22

Applicant: GEN ELECTRIC

Inventor： MAITY SANDIP ,  MITRA CHAYAN ,  SHARMA RACHIT

IPC: G01N21/31 ,  G01J3/02 ,  G01N21/35

公开(公告)号：RU2729950C2

公开(公告)日：2020-08-13

申请号：RU2018145350

申请日：2017-06-30

Applicant: GEN ELECTRIC

Inventor： BEKAL ANISH ,  SHARMA RACHIT ,  VARTAK SAMEER DINKAR

IPC: G01B9/02 ,  G01J3/45 ,  G01N21/31

Abstract: Группаизобретенийотноситсяк оптическойизмерительнойтехнике. Система (100) дляопросаодногоилинесколькихпараметроввомножествеместв образце (108) содержитпервыйсверхбыстрыйлазерныйисточник (102), сконфигурированныйдляподачипервогомножестваимпульсов, причемпервыйисточник (102) сконфигурировандляподачигребенкичастот, имеющихпервуючастотуповторения, приэтомпервоемножествоимпульсоввзаимодействуетс образцом (108) вомножествеместв образце (108) дляполученияобработанныхимпульсов. Такжесистемасодержитвторойсверхбыстрыйлазерныйисточник (104), сконфигурированныйдляподачивторогомножестваимпульсов, причемвторойисточник (104) сконфигурировандляподачигребенкичастот, имеющихвторуючастотуповторения, котораяотличаетсяотпервойчастотыповторения. Крометого, системасодержитопорноеустройство (110), выполненноес возможностьюподачиопорныхимпульсов, имеющихпеременнуювременнуюзадержку, переменнуюзадержкупофазе, переменнуюразностьхода, илиихкомбинаций; блок (124) детектора, сконфигурированныйдлядетектированияобработанныхимпульсовотпервогои второгоисточников (102 и 104) иопорныхимпульсов; иблок (128) обработкиданных, сконфигурированныйдляобработкидетектируемыхимпульсови выполненияизмеренийодногоилинесколькихпараметровдлямножестваместв образце (108). Техническийрезультатзаключаетсяв обеспечениивозможностиповышенияразрешенияи ускорениипроцессаизмерения. 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 4 ил.

公开(公告)号：DE112015007033T5

公开(公告)日：2018-10-25

申请号：DE112015007033

申请日：2015-12-22

Applicant: GEN ELECTRIC

Inventor： SHARMA RACHIT ,  MOYEDA DAVID KELLY ,  MITRA CHAYAN ,  SRIDHARAN ARUN KUMAR ,  BEKAL ANISH ,  FUNG ERIC YUHANG

IPC: G01N21/3504 ,  F01N11/00 ,  G01N21/01 ,  G01N21/03 ,  G01N21/31 ,  G01N21/39

Abstract: Ein oder mehrere Lichtquellen (108, 110) emittieren Licht innerhalb erster, zweiter und dritter Wellenlängenbereiche durch Abgas (102). Die ersten und zweiten Wellenlängenbereiche sind durch erste und zweite unterschiedliche Absorptionswellenlängenbereiche eines Hintergrundgases charakterisiert. Der dritte Wellenlängenbereich ist durch einen Absorptionswellenlängenbereich eines interessierenden Gases charakterisiert. Wenigstens ein Teil des Lichts innerhalb des ersten, zweiten und dritten Wellenlängenbereichs wird von dem Abgas absorbiert, so dass dadurch modifiziertes Licht bereitgestellt wird, das durch erste, zweite und dritte Absorptionswellenlängenbereiche charakterisiert ist. Ein oder mehrere Detektoren (120, 122) empfangen das modifizierte Licht. Ein Verarbeitungssubsystem bestimmt eine Temperatur des Abgases basierend auf dem modifizierten Licht, charakterisiert durch die ersten und zweiten Absorptionswellenlängenbereiche und eine Konzentration des Gases von Interesse basierend auf dem modifizierten Licht, charakterisiert durch den dritten Absorptionswellenlängenbereich und der Temperatur des Abgases.

公开(公告)号：CA3028758A1

公开(公告)日：2018-01-04

申请号：CA3028758

申请日：2017-06-30

Applicant: GEN ELECTRIC

Inventor： BEKAL ANISH ,  SHARMA RACHIT ,  VARTAK SAMEER DINKAR

IPC: G01N21/31 ,  G01B9/02 ,  G01J3/45 ,  G01N21/47

Abstract: A system (100) for interrogating parameters at a plurality of locations in a sample (108) includes first and second ultrafast laser sources (102, 104), a reference device (110), and detector and processor units (124, 128). The first and second ultrafast laser sources (102, 104) provide first and second plurality of pulses, respectively, in a picosecond time domain or lower to interact with the sample at the plurality of locations in the sample (108) to provide processed pulses. Further, the first and second ultrafast laser sources (102 and 104) are configured to provide comb frequencies having first and second repetition rates, respectively. The detector unit (124) is configured to detect at least a portion of the processed pulses, second plurality of pulses, and referenced pulses. The processor unit (128) is configured to process the detected pulses and provide measurements of the parameters for the plurality of locations in the sample (108).