公开(公告)号：DE112010006130B3

公开(公告)日：2019-06-27

申请号：DE112010006130

申请日：2010-08-12

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： ANDERSON FELIX P ,  MCDEVITT THOMAS L ,  STAMPER ANTHONY K ,  COSTA JULIO CARLOS ,  HAMMOND JONATHAN HALE

IPC: B81C1/00

Abstract: Verfahren zum Erzeugen einer MEMS-Struktur, wobei das Verfahren Folgendes umfasst:Ausführen eines Nass-Ätzprozesses zum Entfernen von Opfermaterial (32, 36), in dem ein Auslegerbalken (34) der MEMS-Struktur und eine mit einer Lage einer dünnen Opferschicht (44) bedeckte Metallschicht (28) eingebettet sind, wobei die MEMS-Struktur in einer Kuppelstruktur (38) ausgebildet ist, wobei die Lage der dünnen Opferschicht (44) eine zum Auslegerbalken (34) weisende Seite der Metallschicht (28) vollständig bedeckt, wobei der Auslegerbalken (34) durch das Opfermaterial (32, 36) von der Lage der dünnen Opferschicht (44) vollständig beanstandet ist, wobei die Lage der dünnen Opferschicht (44) beim Nass-Ätzprozess intakt bleibt; undnach dem Ausführen des Nass-Ätzprozesses Ausführen eines Trocken-Ätzprozesses zum Entfernen der Lage der dünnen Opferschicht (44) wobei der Nass-Ätzprozess und der Trocken-Ätzprozess durch Öffnungen (40) in der Kuppelstruktur (38) hindurch durchgeführt werden.