公开(公告)号：DE112010003418B4

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：DE112010003418

申请日：2010-08-26

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： BOOTH JR ROGER A ,  COOLBAUGH DOUGLAS D ,  ESHUN EBENEZER E ,  HE ZHONG-XIANG

IPC: H01L27/08 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

Abstract: Bauelementstruktur, welche das Folgende umfasst:- mindestens eine dielektrische Schicht (100), die auf einem Substrat angeordnet ist;- mindestens eine erste und eine zweite ineinander greifende Struktur, die in die mindestens eine dielektrische Schicht eingebettet sind, wobei die ineinander greifenden Strukturen einen vertikalen Abstand voneinander aufweisen und jede der ersten und zweiten ineinander greifenden Struktur mindestens zwei erste Metallleitungen (10), mindestens eine zweite Metallleitung (20) und ringförmig angeordnete dritte Metallleitungen (110) umfasst, die die mindestens zwei ersten Metallleitungen elektrisch verbinden und von denen zwei unterschiedliche Längsrichtungen als eine Längsrichtung der mindestens zwei ersten Metallleitungen aufweisen, wobei die ersten, zweiten und dritten Metallleitungen einer ineinander greifenden Struktur jeweils in der selben horizontalen Ebene liegen;- mindestens eine erste vertikale leitfähige Durchkontaktierung (112), welche eine obere Fläche aufweist, die vertikal mit einer der dritten Metallleitungen (110) der ersten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht, und eine untere Fläche aufweist, die vertikal mit einer anderen der dritten Metallleitungen (110) der zweiten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht; und- mindestens eine zweite vertikale leitfähige Durchkontaktierung (22), welche eine obere Fläche aufweist, die vertikal mit einer der mindestens einen zweiten Metallleitung (20) der ersten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht, und eine untere Fläche aufweist, die vertikal mit einer anderen der mindestens einen zweiten Metallleitung (20) der zweiten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht;- wobei die mindestens zwei ersten Metallleitungen (10) und die dritten Metallleitungen (110) der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen resistiv miteinander verbunden sind und elektrisch von der mindestens einen zweiten Metallleitung (20) der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen isoliert sind und die mindestens eine zweite Metallleitung (20) der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen resistiv miteinander verbunden sind;- und wobei die erste ineinandergreifende Struktur eine erste derdritten Metallleitungen umfasst, die mit einem Endabschnitt jeder der mindestens zwei ersten Metallleitungen in Kontakt steht, und eine zweite derdritten Metallleitungen umfasst, die mit dem anderen Endabschnitt jeder der mindestens zwei ersten Metallleitungen in Kontakt steht;- und wobei die erste ineinander greifende Struktur eine zweite Metallleitung umfasst, die eine erste Seitenwand und eine zweite Seitenwand parallel zu der ersten Seitenwand aufweist, und eine erste Metallleitung der ersten ineinander greifenden Struktur näher der ersten Seitenwand als der zweiten Seitenwand ist und die zweite Metallleitung mit allen anderen Elementen in der ersten ineinander greifenden Struktur nicht in Kontakt steht,- und wobei mindestens eine erste Metallleitung (10) in der ersten ineinander greifenden Struktur Seitenwandflächen aufweist, die orthogonal zu Seitenwandflächen der mindestens einen ersten Metallleitung in der zweiten ineinander greifenden Struktur stehen,- und wobei die ersten Metallleitungen der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen nicht in Kontakt mit einer vertikalen leitfähigen Durchkontaktierung stehen,- und wobei zumindest die ersten und die zweite der dritten Metallleitungen mit einer der ersten vertikalen leitfähigen Durchkontaktierungen in Kontakt stehen.