公开(公告)号：DE112010003418B4

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：DE112010003418

申请日：2010-08-26

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： BOOTH JR ROGER A ,  COOLBAUGH DOUGLAS D ,  ESHUN EBENEZER E ,  HE ZHONG-XIANG

IPC: H01L27/08 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

Abstract: Bauelementstruktur, welche das Folgende umfasst:- mindestens eine dielektrische Schicht (100), die auf einem Substrat angeordnet ist;- mindestens eine erste und eine zweite ineinander greifende Struktur, die in die mindestens eine dielektrische Schicht eingebettet sind, wobei die ineinander greifenden Strukturen einen vertikalen Abstand voneinander aufweisen und jede der ersten und zweiten ineinander greifenden Struktur mindestens zwei erste Metallleitungen (10), mindestens eine zweite Metallleitung (20) und ringförmig angeordnete dritte Metallleitungen (110) umfasst, die die mindestens zwei ersten Metallleitungen elektrisch verbinden und von denen zwei unterschiedliche Längsrichtungen als eine Längsrichtung der mindestens zwei ersten Metallleitungen aufweisen, wobei die ersten, zweiten und dritten Metallleitungen einer ineinander greifenden Struktur jeweils in der selben horizontalen Ebene liegen;- mindestens eine erste vertikale leitfähige Durchkontaktierung (112), welche eine obere Fläche aufweist, die vertikal mit einer der dritten Metallleitungen (110) der ersten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht, und eine untere Fläche aufweist, die vertikal mit einer anderen der dritten Metallleitungen (110) der zweiten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht; und- mindestens eine zweite vertikale leitfähige Durchkontaktierung (22), welche eine obere Fläche aufweist, die vertikal mit einer der mindestens einen zweiten Metallleitung (20) der ersten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht, und eine untere Fläche aufweist, die vertikal mit einer anderen der mindestens einen zweiten Metallleitung (20) der zweiten ineinander greifenden Struktur in Kontakt steht;- wobei die mindestens zwei ersten Metallleitungen (10) und die dritten Metallleitungen (110) der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen resistiv miteinander verbunden sind und elektrisch von der mindestens einen zweiten Metallleitung (20) der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen isoliert sind und die mindestens eine zweite Metallleitung (20) der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen resistiv miteinander verbunden sind;- und wobei die erste ineinandergreifende Struktur eine erste derdritten Metallleitungen umfasst, die mit einem Endabschnitt jeder der mindestens zwei ersten Metallleitungen in Kontakt steht, und eine zweite derdritten Metallleitungen umfasst, die mit dem anderen Endabschnitt jeder der mindestens zwei ersten Metallleitungen in Kontakt steht;- und wobei die erste ineinander greifende Struktur eine zweite Metallleitung umfasst, die eine erste Seitenwand und eine zweite Seitenwand parallel zu der ersten Seitenwand aufweist, und eine erste Metallleitung der ersten ineinander greifenden Struktur näher der ersten Seitenwand als der zweiten Seitenwand ist und die zweite Metallleitung mit allen anderen Elementen in der ersten ineinander greifenden Struktur nicht in Kontakt steht,- und wobei mindestens eine erste Metallleitung (10) in der ersten ineinander greifenden Struktur Seitenwandflächen aufweist, die orthogonal zu Seitenwandflächen der mindestens einen ersten Metallleitung in der zweiten ineinander greifenden Struktur stehen,- und wobei die ersten Metallleitungen der ersten und zweiten ineinander greifenden Strukturen nicht in Kontakt mit einer vertikalen leitfähigen Durchkontaktierung stehen,- und wobei zumindest die ersten und die zweite der dritten Metallleitungen mit einer der ersten vertikalen leitfähigen Durchkontaktierungen in Kontakt stehen.

公开(公告)号：DE112012001824B4

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：DE112012001824

申请日：2012-06-05

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： THOMPSON ERIC ,  BOOTH JR ROGER A ,  LU NING ,  PUTNAM CHRISTOPHER S

IPC: H01L27/08 ,  H01L23/522

Abstract: Metallkondensatorstruktur, die eine Vielzahl von Leitungsebenenstrukturen (15, 16, 25, 26) und zumindest eine Durchkontaktierungsebenenstruktur (31, 32, 33, 34, 41 oder 42) aufweist, wobei auf jeder Leitungsebene die Vielzahl von Leitungsebenenstrukturen (15, 16, 25, 26) aufweist: eine erste Leitungsebenenstruktur (15 oder 25), die eine erste rechteckige Laschenstruktur (13 oder 23), die eine Form eines ersten rechteckigen Parallelepipeds aufweist, und eine erste Vielzahl von parallelen Metallleitungen (11 oder 21) aufweist, die von einer Seitenwand der ersten rechteckigen Laschenstruktur (13 oder 23) vorstehen und daran angrenzen; und eine zweite Leitungsebenenstruktur (16 oder 26), die eine zweite rechteckige Laschenstruktur (14 oder 24), die eine Form eines zweiten rechteckigen Parallelepipeds aufweist, und eine zweite Vielzahl von parallelen Metallleitungen (12 oder 22) aufweist, die von einer Seitenwand der zweiten rechteckigen Laschenstruktur (14 oder 24) vorstehen und daran angrenzen, wobei: die erste Vielzahl von parallelen Metallleitungen (11 oder 21) und die zweite Vielzahl von parallelen Metallleitungen (12 oder 22) gemeinsam eine ineinandergreifende, gleichmäßige Rasterabstandstruktur ((11, 12) oder (21, 22)) bilden, die einen Rasterabstand in einer Richtung aufweist; und die erste rechteckige Laschenstruktur (13 oder 23) und die zweite rechteckige Laschenstruktur (14 oder 24) nicht in einen Bereich zwischen der Seitenwand der ersten rechteckigen Laschenstruktur (13 oder 23) und der Seitenwand der zweiten rechteckigen Laschenstruktur (14 oder 24) vorstehen; und jede der Vielzahl von ersten rechteckigen Laschenstrukturen (13, 23) und der Vielzahl von zweiten rechteckigen Laschenstrukturen (14, 24) eine Laschenbreite aufweist, die zumindest 150% des Rasterabstands beträgt; und ...