公开(公告)号：DE102007015503B4

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：DE102007015503

申请日：2007-03-30

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： MARXSEN GERD ,  STOECKGEN UWE ,  HEINRICH JENS ,  HOEFGEN ALEXANDER

IPC: H01L21/302 ,  B24B37/013 ,  B24B37/04 ,  B24B37/30

Abstract: System (100) zum chemisch-mechanischen Polieren mit: einer Poliervorrichtung zum Polieren einer Oberfläche eines Substrats (108), wobei die Poliervorrichtung einen steuerbar bewegbaren Polierkopf (104), aufweist, der ausgebildet ist, das Substrat (108), aufzunehmen und in Position zu halten, wobei der Polierkopf zwei oder mehr kraftausübende Zonen (140-1, 140-2, 140-3) zum Ausüben unterschiedlicher zonenspezifischer Kräfte auf mindestens zwei Zonen (141-1, 141-2, 141-3) des Substrats (108), aufweist, wobei die zonenspezifischen Kräfte durch ein unter Druck stehendes Gas, eine unter Druck stehende Flüssigkeit oder durch elektromechanische Wandler ausgeübt werden; einem Sensor (131) zum Ermitteln zonenspezifischer Substratdaten, die sich auf mindestens zwei Zonen (141-1, 141-2, 141-3) des Substrats (108), beziehen; einer Steuerung (120) zum Erzeugen mindestens jeweils eines Einstellwertes für zwei oder mehr Betriebsparameter des Poliersystems (100) in einem nachfolgenden chemisch-mechanischen Polierprozess in Reaktion auf die zonenspezifischen Substratdaten, wobei die Steuerung (120) die mindestens zwei oder mehr kraftausübenden Zonen (140-1, 140-2, 140-3) ansteuert,...