公开(公告)号：DE102019208420A1

公开(公告)日：2020-01-16

申请号：DE102019208420

申请日：2019-06-11

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： PENG JIANWEI ,  LIM SANG WOO ,  STOKER MATTHEW WAHLQUIST ,  LIU HUANG ,  LIU JINPING

IPC: H01L21/336 ,  H01L21/8238

Abstract: Es werden ein Verfahren zum Bilden einer Logik- oder Speicherzelle mit einer Epi-RSD-Breite von mehr als 1,3 × Finnenabstand und die resultierende Vorrichtung bereitgestellt. Ausführungsformen umfassen eine Vorrichtung, die einen RSD-Bereich umfasst, der auf jeder von einer Vielzahl von Finnen über einem Substrat ausgebildet ist, wobei das RSD eine Breite, die größer ist als 1,3 × Finnenabstand, ein auf dem RSD ausgebildetes TS und eine über dem TS ausgebildete ILD aufweist.