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公开(公告)号：DE102020211901A1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：DE102020211901
申请日：2020-09-23
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： MOCHIZUKI TOSHIHIRO , ISHII HARUYUKI , UEMOTO ATSUSHI
Abstract: Bereitgestellt wird ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl, welches vor der tatsächlichen Bestrahlung mit einem fokussierten Ionenstrahl zu erfassen in der Lage ist, in welcher Richtung ein Strahl den Probentisch, auf welchem mindestens eine Probe befestigt ist, erreicht. Ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl (100) umfasst: eine fokussierte Ionenstrahlsäule (20), welche dafür ausgelegt ist, um eine Probe (200) mit einem fokussierten Ionenstrahl (20A) zu bestrahlen; einen Probentisch (51), auf welchem die Probe zu platzieren ist; eine Probenplattform (50), auf welcher der Probentisch zu platzieren ist und welche zumindest in einer horizontalen Richtung und einer Höhenrichtung beweglich ist; einen Speicher (6M), welcher dafür ausgelegt ist, um im Voraus dreidimensionale Daten an dem Probentisch und eine Bestrahlungsachse des fokussierten Ionenstrahls zu speichern, wobei die dreidimensionalen Daten mit Plattformkoordinaten der Probenplattform verknüpft sind; eine Anzeige (7); und eine Anzeigesteuerung (6A), welche dafür ausgelegt ist, um die Anzeige zu veranlassen, eine virtuelle Lagebeziehung zwischen dem Probentisch und der Bestrahlungsachse des fokussierten Ionenstrahls anzuzeigen, welche dargestellt wird, wenn die Probenplattform betrieben wird, um den Probentisch auf der Grundlage der dreidimensionalen Daten an dem Probentisch und der Bestrahlungsachse des fokussierten Ionenstrahls zu einer vorgegebenen Position zu bewegen.
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2.发明专利
公开(公告)号：DE102013102669B4
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：DE102013102669
申请日：2013-03-15
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： MAN XIN , UEMOTO ATSUSHI
Abstract: Proben-Beobachtungsverfahren zum Beobachten einer Beobachtungsfläche (7a) von einer Probe (7) durch ein Bestrahlen mit einem Ladungspartikelstrahl (8), wobei das Verfahren umfasst:Einstellen einer Neigung einer Probenstufe (6) mit Bezug auf den Ladungspartikelstrahl (8) derart, dass die Beobachtungsfläche (7a) senkrecht zum Ladungspartikelstrahl (8) steht;Platzieren der Probenstufe (6) bei einem ersten Neigungswinkel mit Bezug auf den Ladungspartikelstrahl (8), und Bestrahlen der Beobachtungsfläche (7a) mit dem Ladungspartikelstrahl (8), um ein erstes Ladungspartikel-Bild zu erlangen;Neigen der Probenstufe (6) auf einen zweiten Neigungswinkel, welcher sich vom ersten Neigungswinkel unterscheidet, um eine erste Probenstufen-Achse (23), und Bestrahlen der Beobachtungsfläche (7a) mit dem Ladungspartikelstrahl (8), um ein zweites Ladungspartikel-Bild zu erlangen;Vergleichen eines Bereichs der Beobachtungsfläche (7a) in dem ersten Ladungspartikel-Bild mit einem Bereich der Beobachtungsfläche (7a) in dem zweiten Ladungspartikel-Bild,Berechnen eines optimalen Neigungswinkels der Probenstufe (6) aus dem Vergleich, bei welchem der Bereich der Beobachtungsfläche (7a) im erlangten Ladungspartikel-Bild größer ist,Neigen der Probenstufe (6) auf den optimalen Neigungswinkel; undBestrahlen der Beobachtungsfläche (7a) mit dem Ladungspartikelstrahl (8), um die Beobachtungsfläche (7a) zu beobachten.
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公开(公告)号：DE102018107250A1
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：DE102018107250
申请日：2018-03-27
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： ASO TAKUMA , UEMOTO ATSUSHI , ASAHATA TATSUYA , SUZUKI MASATO
Abstract: Es ist hier ein tragbares Informationsendgerät offenbart, das die Bedienung eines ersten Bediengegenstands an einer gewünschten Position ausführt. Das tragbare Informationsendgerät ist von einer Vorrichtung zum Aussenden eines Strahls geladener Partikel, die Verarbeitung einer Probe durch Bestrahlen der Probe mit einem Strahl geladener Partikel ausführt, getrennt und enthält eine Anzeigesteuereinheit, die bewirkt, dass eine Anzeigeeinheit ein Bild anzeigt, das eine grafische Anwenderschnittstelle (GUI) enthält, die zum Bedienen eines ersten Bediengegenstands basierend auf einer Bedienung durch einen Anwender fähig ist, wobei das erste Bediengegenstand ein oder mehrere Bediengegenstände unter mehreren Gegenständen ist, die in der Einrichtung zum Bestrahlen mit einem Strahl geladener Partikel bedienbar sind.
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公开(公告)号：DE102012108823B4
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：DE102012108823
申请日：2012-09-19
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： UEMOTO ATSUSHI , YAMAMOTO YO , ASHAHATA TATSUYA
IPC: H01J37/30 , G01N1/32 , G01N23/225 , G02B21/00
Abstract: Zusammengesetzte Ladungsteilchenstrahlvorrichtung, umfassend:eine Ionenfeinstrahl-Säule (4);eine Elektronenstrahl-Säule (5), die bezüglich der Ionenfeinstrahl-Säule im Wesentlichen in einem rechten Winkel angeordnet ist;einen Probentisch (2) zum Bewegen einer Probe (11);einen Detektor (6) zum Erfassen eines aus der Probe erzeugten Sekundärteilchens;ein Beobachtungsbild-Entwicklungsteil (12) zum Formen eines Ionenfeinstrahlbildes und eines Elektronenstrahlbildes basierend auf einem Erkennungssignal des Detektors;ein Lichtmikroskop (14) zum Beobachten der Probe;ein Sichtanzeigeteil (9; 10), das imstande ist, eine Vielzahl von Beobachtungsbildern ausgewählt aus dem Ionenfeinstrahlbild, dem Elektronenstrahlbild und einem Lichtmikroskopbild darzustellen, und das ausgebildet ist, die Auswahl eines erforderlichen Beobachtungsbildes zu ermöglichen; undein Tischsteuerteil (3) zum Ändern eines Koordinatensystems einer Bewegungsrichtung des Probentisches in Übereinstimmung mit vertikalen und horizontalen Richtungen eines Beobachtungsbildes, welches über das Sichtanzeigeteil aus der Vielzahl der Beobachtungsbilder des Ionenfeinstrahlbildes, des Elektronenstrahlbildes und des Lichtmikroskopbildes ausgewählt ist, um dadurch die Bewegung des Probentisches mit Hilfe von Bewegungstasten auf einem Tisch-Steuerbildschirm des Anzeigeteils zu steuern.
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公开(公告)号：DE102020211903A1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：DE102020211903
申请日：2020-09-23
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： ISHII HARUYUKI , UEMOTO ATSUSHI , ASAHATA TATSUYA
IPC: H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/317
Abstract: Bereitgestellt wird ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl, welches in der Lage ist, jede einer Vielzahl von Bestrahlungspositionen eines fokussierten Ionenstrahls automatisch und exakt auf eine euzentrische Höhe einzustellen. Das Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl (100) umfasst: eine Elektronenstrahlsäule (10); eine fokussierte Ionenstrahlsäule (20); eine Probenplattform (50) , welche um eine Neigungsachse (TA) neigbar und in einer Höhenrichtung beweglich ist; eine Koordinatenerfassungseinheit (6A), welche dafür ausgelegt ist, um, wenn eine Vielzahl von Bestrahlungspositionen (P1 bis P3), auf welche der fokussierte Ionenstrahl aufzubringen ist, auf der Probe (200) gekennzeichnet ist, Flächenkoordinaten jeder der Vielzahl von Bestrahlungspositionen zu erlangen; eine Bewegungsbetragberechnungseinheit (6B), welche dafür ausgelegt ist, um auf der Grundlage der Flächenkoordinaten einen Bewegungsbetrag zu berechnen, um welchen die Probenplattform auf eine euzentrische Höhe (Zs) zu bewegen ist, so dass die euzentrische Höhe (Zs) mit einer Schnittposition übereinstimmt, an welcher der Elektronenstrahl und der fokussierte Ionenstrahl an jeder der Vielzahl von Bestrahlungspositionen miteinander übereinstimmen; und eine Probenplattformbewegungssteuereinheit (6C), welche dafür ausgelegt ist, um die Probenplattform auf der Grundlage des Bewegungsbetrags auf die euzentrische Höhe (Zs) an jeder der Vielzahl von Bestrahlungspositionen zu bewegen.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：DE102013112492A1
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：DE102013112492
申请日：2013-11-13
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： UEMOTO ATSUSHI , MAN XIN , ASAHATA TATSUYA
IPC: G01N23/22 , G01N23/225 , H01J37/20
Abstract: Querschnittbearbeitungs- und -beobachtungsverfahren, das durch eine Querschnittbearbeitungs- und -beobachtungsvorrichtung durchgeführt wird, wobei das Verfahren umfasst: einen Querschnittbearbeitungsschritt zum Ausbilden eines Querschnitts durch Bestrahlen einer Probe mit einem Ionenstrahl; einen Querschnittbeobachtungsschritt zum Erhalten eines Beobachtungsbilds des Querschnitts durch Bestrahlen des Querschnitts mit einem Elektronenstrahl; und Wiederholen des Querschnittbearbeitungsschritts und des Querschnittbeobachtungsschritts, um Beobachtungsbilder einer Vielzahl von Querschnitten zu erhalten, wobei in einem Fall, in dem eine energiedispersive Röntgenspektrometrie-(EDS)-Messung des Querschnitts erfolgt und ein Röntgenstrahl eines spezifizierten Materials erfasst wird, eine Bestrahlungsbedingung des Ionenstrahls verändert wird, um Beobachtungsbilder einer Vielzahl von Querschnitten des spezifizierten Materials zu erhalten, und die Querschnittbearbeitung und -beobachtung des spezifizierten Materials durchgeführt wird.
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公开(公告)号：DE102020212010A1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：DE102020212010
申请日：2020-09-24
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： MURAKI AYANA , UEMOTO ATSUSHI , ASAHATA TATSUYA
Abstract: Zur Stabilisierung der automatisierten MS ist eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung vorgesehen, die so konfiguriert ist, dass sie automatisch ein Probenstück aus einer Probe herstellt, wobei die Vorrichtung für einen Ladungsteilchenstrahl Folgendes umfasst: ein optisches System zur Bestrahlung mit einem Ladungsträgerstrahl, das so konfiguriert ist, dass es einen Ladungsträgerstrahl ausstrahlt; einen Probentisch, der so konfiguriert ist, dass er die Probe, die auf den Probentisch gelegt wird, bewegt; eine Probenstück-Transporteinheit, die so konfiguriert ist, dass sie das Probenstück, das von der Probe getrennt und extrahiert wurde, hält und befördert; eine Halterbefestigungsbasis, die so konfiguriert ist, dass sie einen Probenstückhalter hält, zu dem das Probenstück transportiert wird; und einen Rechner, der so konfiguriert ist, dass er die Steuerung einer Position in Bezug auf ein Ziel durchführt, basierend auf: einem Ergebnis einer zweiten Bestimmung über die Position, die in Abhängigkeit von einem Ergebnis der ersten Bestimmung über die Position ausgeführt wird; und Informationen einschließlich eines Bildes, das durch Bestrahlung mit dem Ladungsträgerstrahl erhalten wird.
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公开(公告)号：DE102020211900A1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：DE102020211900
申请日：2020-09-23
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： MURAKI AYANA , UEMOTO ATSUSHI , ASAHATA TATSUYA
Abstract: Um eine schnelle automatisierte Mikroprobennahme zu erreichen, ist eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung vorgesehen, die so konfiguriert ist, dass sie automatisch ein Probenstück aus einer Probe herstellt, wobei die Ladungsträgerstrahlvorrichtung einschließt: ein optisches System zur Bestrahlung mit einem geladenen Teilchenstrahl, das so konfiguriert ist, dass es einen geladenen Teilchenstrahl ausstrahlt; einen Probentisch, der so konfiguriert ist, dass er die Probe bewegt, die auf dem Probentisch platziert wird; eine Probenstück-Transporteinheit, die so konfiguriert ist, dass sie das Probenstück, das von der Probe getrennt und extrahiert wurde, hält und befördert; eine Halterbefestigungsbasis, die so konfiguriert ist, dass sie einen Probenstückhalter hält, zu dem das Probenstück transportiert wird; und einen Rechner, der konfiguriert ist, um eine Positionssteuerung in Bezug auf ein zweites Ziel durchzuführen, basierend auf einem Maschinenlernmodell, in dem erste Informationen einschließlich eines ersten Bildes eines ersten Ziels gelernt werden, und auf zweiten Informationen einschließlich eines zweiten Bildes, das durch Bestrahlung mit dem geladenen Teilchenstrahl erhalten wird.
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9.发明专利
公开(公告)号：DE102013102669A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：DE102013102669
申请日：2013-03-15
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： MAN XIN , UEMOTO ATSUSHI
Abstract: Ein Proben-Beobachtungsverfahren umfasst: ein Platzieren einer Probenstufe bei einem ersten Neigungswinkel mit Bezug auf einen Ladungspartikelstrahl, und ein Bestrahlen von einer Beobachtungsfläche einer Probe mit dem Ladungspartikelstrahl, um ein erstes Ladungspartikel-Bild zu erlangen; ein Neigen der Probenstufe auf einen zweiten Neigungswinkel, welcher sich vom ersten Neigungswinkel unterscheidet, um eine erste Probenstufen-Achse, und ein Bestrahlen der Beobachtungsfläche mit dem Ladungspartikelstrahl, um ein zweites Ladungspartikel-Bild zu erlangen; ein Neigen der Probenstufe auf einen Neigungswinkel, bei welchem ein Bereich der Beobachtungsfläche in dem erlangten Ladungspartikel-Bild zwischen dem ersten Ladungspartikel-Bild und dem zweiten Ladungspartikel-Bild größer ist; und ein Bestrahlen der Beobachtungsfläche mit dem Ladungspartikelstrahl, um die Beobachtungsfläche zu beobachten.
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公开(公告)号：DE102013102535A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：DE102013102535
申请日：2013-03-13
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor： MAN XIN , YAMAMOTO YO , UEMOTO ATSUSHI , ASAHATA TATSUYA
IPC: H01J37/304 , G01N1/28 , G01N23/225
Abstract: Es ist eine Verbund-Ladungspartikelstrahl-Vorrichtung bereitgestellt, welche enthält: eine Elektronenstrahl-Säule zum Bestrahlen einer Probe mit einem Elektronenstrahl; eine Ionenstrahl-Säule zum Bestrahlen der Probe mit einem Ionenstrahl, um eine Ätz-Verarbeitung durchzuführen; einen Probenstufen-Antriebsabschnitt zum Bewegen einer Probenstufe in einer Bestrahlungs-Achsenrichtung des Elektronenstrahls; und einen Säulen-Einstellabschnitt zum derartigen Bewegen der Ionenstrahl-Säule in Relation zu einer Probenkammer, dass die Probe durch den Ionenstrahl an einer durch den Elektronenstrahl bestrahlten Position bestrahlt wird.
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