公开(公告)号：KR20180029851A

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：KR20170103538

申请日：2017-08-16

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： ASAHATA TATSUYA

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/141 ,  H01J37/292 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/1405 ,  H05H3/00

Abstract: [과제] 집속이온빔으로시료를단면가공한후, 다른빔으로단면을마무리가공할때, 전자빔 경통으로부터의전기장이나자기장의누설에의한영향이나, 차지업에의한영향을억제할수 있는복합빔 장치를제공한다. [해결수단] 시료(200)에전자빔(10A)을조사하기위한전자빔 경통(10)과, 시료에집속이온빔(20A)을조사하여단면을형성하기위한집속이온빔 경통(20)과, 집속이온빔 경통보다가속전압이낮게설정되고, 시료에중성입자빔(30A)을조사하여단면을마무리가공하기위한중성입자빔 경통(30)을갖고, 전자빔 경통, 집속이온빔 경통및 중성입자빔 경통은, 각각의각 조사빔이조사점 P에서교차하도록배치되어이루어지는복합빔 장치(100)이다.

Abstract translation: 本发明公开了一种复合光束装置，其能够在用聚焦离子束对样品进行截面处理时，抑制电荷累积或电子束柱的电场或磁场泄漏，然后与另一个 光束。 该复合光束设备包括：将电子束照射到样品上的电子束柱; 将聚焦离子束照射到样品上以形成横截面的聚焦离子束柱; 加速电压被设定为低于聚焦离子束柱的中性粒子束柱，并且将中性粒子束照射到样品上以执行截面的精加工，其中电子束柱，聚焦离子束柱， 和中性粒子束柱被布置成使得柱的束在照射点彼此交叉。

公开(公告)号：DE102020211737A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：DE102020211737

申请日：2020-09-18

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： ASO TAKUMA ,  MAN XIN ,  SATO MAKOTO ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: G01N23/22 ,  H01J37/30

Abstract: Bereitgestellt wird ein Bestrahlungsgerät mit Ladungsteilchenstrahl, mit welchem die Zeit, welche erforderlich ist, um eine Substanz oder Struktur jeder einer in einer mehrschichtigen Probe enthaltenen Vielzahl von Beobachtungszielschichten zu beobachten, reduziert werden kann. Das Bestrahlungsgerät mit Ladungsteilchenstrahl umfasst: eine fokussierte Ionenstrahlsäule, welche dafür ausgelegt ist, um eine mehrschichtige Probe mit einem fokussierten Ionenstrahl zu bestrahlen; eine Elektronenstrahlsäule, welche dafür ausgelegt ist, um die mehrschichtige Probe mit einem Elektronenstrahl zu bestrahlen; einen Elektronendetektor, welcher dafür ausgelegt ist, um von der mehrschichtigen Probe erzeugte sekundäre Elektronen oder Reflexionselektronen zu erfassen; eine Bilderzeugungseinheit, welche dafür ausgelegt ist, um ein Beobachtungsbild auf der Grundlage eines von dem Elektronendetektor ausgegebenen Signals zu bilden; und eine Steuereinheit, welche dafür ausgelegt ist, um wiederholt eine Freilegungssteuerung durchzuführen, bei welcher die fokussierte Ionenstrahlsäule gesteuert wird, um eine Schnittfläche der mehrschichtigen Probe in Richtung einer Stapelrichtung mit dem fokussierten Ionenstrahl freizulegen, wobei die Steuereinheit dafür ausgelegt ist, um jedes Mal, wenn eine Freilegung einer Beobachtungszielschicht an einer Schnittfläche der mehrschichtigen Probe bei einem Vorgang von wiederholtem Durchführen der Freilegungssteuerung erfasst wird, eine

公开(公告)号：DE102013102774A1

公开(公告)日：2013-09-26

申请号：DE102013102774

申请日：2013-03-19

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： ASAHATA TATSUYA ,  SUGIYAMA YASUHIKO ,  OBA HIROSHI

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/30

Abstract: Eine Ionenstrahl-Einrichtung enthält: eine Ionenquelle, welche ausgelegt ist, einen Ionenstrahl zu emittieren; eine Kondensorlinse-Elektrode, welche ausgelegt ist, den Ionenstrahl zu komprimieren; eine Kondensorlinse-Leistungsquelle, welche ausgelegt ist, eine Spannung an die Kondensorlinse-Elektrode anzulegen; einen Speicherabschnitt, welcher ausgelegt ist, einen ersten Spannungswert, einen zweiten Spannungswert, einen dritten Spannungswert und einen vierten Spannungswert zu speichern; und einen Steuerabschnitt, welcher ausgelegt ist, den dritten Spannungswert vom Speicherabschnitt zu erlangen und den erlangten dritten Spannungswert bei der Kondensorlinse-Leistungsquelle einzustellen, wenn ein Beobachtungs-Modus auf einen Weitbereich-Beobachtungs-Modus umgeschaltet wird, und den vierten Spannungswert vom Speicherabschnitt zu erlangen und den erlangten vierten Spannungswert bei der Kondensorlinse-Leistungsquelle einzustellen, wenn ein Verarbeitungs-Modus auf den Weitbereich-Beobachtungs-Modus umgeschaltet wird.

公开(公告)号：DE102013102666A1

公开(公告)日：2013-09-26

申请号：DE102013102666

申请日：2013-03-15

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SATO MAKOTO ,  ASAHATA TATSUYA ,  SUZUKI HIDEKAZU

IPC: G01B15/00 ,  G01N23/225 ,  H01J37/305

Abstract: Es ist eine Querschnitts-Verarbeitungs- und Beobachtungs-Einrichtung bereitgestellt, welche einen Steuerabschnitt zum wiederholten Ausführen eines Prozesses enthält, welcher eine Schneide-Verarbeitung durch einen Ionenstrahl, und ein Erlangen von einem SIM-Bild durch ein Sekundär-Elektron, welches von einem Querschnitt, welcher durch die Schneide-Verarbeitung ausgebildet ist, emittiert ist, umfasst, in welcher der Steuerabschnitt ein Beobachtungsbild in eine Mehrzahl von Bereichen unterteilt und den Prozess abschließt, wenn eine Änderung zwischen einem Bild in einem Bereich der Mehrzahl von Bereichen und einem Bild in einem Bereich, welcher dem einen Bereich entspricht, von einem Beobachtungsbild eines weiteren Querschnitts, welcher durch den Prozess erlangt ist, aufgetreten ist.

公开(公告)号：DE102020211687A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：DE102020211687

申请日：2020-09-17

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： KOYAMA YOSHIHIRO ,  ASAHATA TATSUYA ,  KIYOHARA MASAHIRO ,  YANG TSUNGHAN

IPC: H01J37/08 ,  H01J7/20 ,  H01J27/26 ,  H01J37/26 ,  H01J37/30

Abstract: Vorgesehen sind eine Flüssigmetallionenquelle, die in der Lage ist, einen Ionenstrahl über einen langen Zeitraum stabil zu emittieren, und eine Vorrichtung mit fokussiertem Ionenstrahl. Eine Flüssigmetallionenquelle (50) schließt ein: ein Reservoir (10), das so konfiguriert ist, um ein ein Flüssigmetall bildendes Ionenmaterial (M) aufzunehmen; eine Nadelelektrode (20) mit einer Oberfläche, die mit dem aus dem Reservoir zugeführten Ionenmaterial zu bedecken ist; eine Extraktionselektrode (22), die so konfiguriert ist, dass sie bewirkt, dass ein Ion des Ionenmaterials von einem distalen Ende der Nadelelektrode emittiert wird; eine Strahlblende (24), die auf einer stromabwärtigen Seite der Extraktionselektrode angeordnet und so konfiguriert ist, um einen Ionenstrahldurchmesser zu begrenzen; und eine Vakuumkammer (30), die so konfiguriert ist, um das Reservoir, die Nadelelektrode, die Extraktionselektrode und die Strahlblende aufzunehmen und im Vakuum zu halten, wobei die Flüssigmetallionenquelle ferner einen Einführungsabschnitt (40) für oxidierendes Gas aufweist, und wobei der Einführungsabschnitt für oxidierendes Gas mit der Vakuumkammer in Verbindung steht und so konfiguriert ist, um ein oxidierendes Gas in eine Peripherie der Nadelelektrode einzuführen.

公开(公告)号：DE102012108788B4

公开(公告)日：2020-10-01

申请号：DE102012108788

申请日：2012-09-18

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： YAMAMOTO YO ,  MAN XIN ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: H01J37/30 ,  G01N1/32 ,  G01N23/225

Abstract: Zusammengesetzte Ladungsteilchenstrahlvorrichtung, umfassend:eine FIB Säule (1);eine SEM Säule (2), die im Wesentlichen senkrecht in einem rechten Winkel bezüglich der FIB Säule (1) angeordnet ist;einen Probentisch (3) zum Befestigen einer Probe (4);einen Detektor (5) zum Detektieren eines aus der Probe (4) erzeugten Sekundärteilchens;ein Beobachtungsbild-Entwicklungsteil (8) zum Formen eines FIB Bildes (56) und eines SEM Bildes (55) auf der Basis eines Erkennungssignals des Detektors (5); undein Sichtanzeigeteil (9) zum Darstellen des FIB Bildes (56) und des SEM Bildes (55), bei dem eine horizontale Richtung der Probe (4) in dem FIB Bild (56) und eine horizontale Richtung der Probe (4) in dem SEM Bild (55) dieselben sind; undein Dreidimensionalbild-Entwicklungsteil (15) zum Umkehren von horizontalen Richtungen einer Vielzahl der SEM Bilder (55), die gewonnen werden, indem eine Beobachtungsebenenbildung durch FIB Bestrahlung und SEM Bildgewinnung der Beobachtungsebene wiederholt werden, undzum Formen eines dreidimensionalen Bildes aus der umgekehrten Vielzahl der SEM Bilder (55).

公开(公告)号：DE102019108116A1

公开(公告)日：2019-10-02

申请号：DE102019108116

申请日：2019-03-28

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SUZUKI MASATO ,  TOMIMATSU SATOSHI ,  SATO MAKOTO ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: G01N1/28

Abstract: Um einen Betrieb des Isolierens eines Probenstücks, welches durch Bearbeiten einer Probe mit einem Ionenstrahl gebildet wird, und des Überführens des Probenstücks zu einem Probenstückhalter automatisch zu wiederholen, umfasst eine Vorrichtung mit geladenem Partikelstrahl einen Computer, welcher dafür ausgelegt ist, eine Steuerung durchzuführen, so dass ohne Drehen einer Nadel, mit welcher das Probenstück an dem Probenstückhalter befestigt ist eine auf der Nadel abgelagerte Ablagerungsschicht mit einem geladenen Partikelstrahl aus einem optischen Bestrahlungssystem für geladenen Partikelstrahl bestrahlt wird.

公开(公告)号：DE102018107250A1

公开(公告)日：2018-10-04

申请号：DE102018107250

申请日：2018-03-27

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： ASO TAKUMA ,  UEMOTO ATSUSHI ,  ASAHATA TATSUYA ,  SUZUKI MASATO

IPC: G06F3/042 ,  G06F3/01

Abstract: Es ist hier ein tragbares Informationsendgerät offenbart, das die Bedienung eines ersten Bediengegenstands an einer gewünschten Position ausführt. Das tragbare Informationsendgerät ist von einer Vorrichtung zum Aussenden eines Strahls geladener Partikel, die Verarbeitung einer Probe durch Bestrahlen der Probe mit einem Strahl geladener Partikel ausführt, getrennt und enthält eine Anzeigesteuereinheit, die bewirkt, dass eine Anzeigeeinheit ein Bild anzeigt, das eine grafische Anwenderschnittstelle (GUI) enthält, die zum Bedienen eines ersten Bediengegenstands basierend auf einer Bedienung durch einen Anwender fähig ist, wobei das erste Bediengegenstand ein oder mehrere Bediengegenstände unter mehreren Gegenständen ist, die in der Einrichtung zum Bestrahlen mit einem Strahl geladener Partikel bedienbar sind.

公开(公告)号：DE102020212010A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：DE102020212010

申请日：2020-09-24

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： MURAKI AYANA ,  UEMOTO ATSUSHI ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: H01J37/20 ,  G01N1/28 ,  H01J37/31

Abstract: Zur Stabilisierung der automatisierten MS ist eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung vorgesehen, die so konfiguriert ist, dass sie automatisch ein Probenstück aus einer Probe herstellt, wobei die Vorrichtung für einen Ladungsteilchenstrahl Folgendes umfasst: ein optisches System zur Bestrahlung mit einem Ladungsträgerstrahl, das so konfiguriert ist, dass es einen Ladungsträgerstrahl ausstrahlt; einen Probentisch, der so konfiguriert ist, dass er die Probe, die auf den Probentisch gelegt wird, bewegt; eine Probenstück-Transporteinheit, die so konfiguriert ist, dass sie das Probenstück, das von der Probe getrennt und extrahiert wurde, hält und befördert; eine Halterbefestigungsbasis, die so konfiguriert ist, dass sie einen Probenstückhalter hält, zu dem das Probenstück transportiert wird; und einen Rechner, der so konfiguriert ist, dass er die Steuerung einer Position in Bezug auf ein Ziel durchführt, basierend auf: einem Ergebnis einer zweiten Bestimmung über die Position, die in Abhängigkeit von einem Ergebnis der ersten Bestimmung über die Position ausgeführt wird; und Informationen einschließlich eines Bildes, das durch Bestrahlung mit dem Ladungsträgerstrahl erhalten wird.

公开(公告)号：DE102020211900A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：DE102020211900

申请日：2020-09-23

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： MURAKI AYANA ,  UEMOTO ATSUSHI ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: H01J37/20 ,  G01N23/00 ,  H01J37/22 ,  H01J37/26 ,  H01J37/30

Abstract: Um eine schnelle automatisierte Mikroprobennahme zu erreichen, ist eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung vorgesehen, die so konfiguriert ist, dass sie automatisch ein Probenstück aus einer Probe herstellt, wobei die Ladungsträgerstrahlvorrichtung einschließt: ein optisches System zur Bestrahlung mit einem geladenen Teilchenstrahl, das so konfiguriert ist, dass es einen geladenen Teilchenstrahl ausstrahlt; einen Probentisch, der so konfiguriert ist, dass er die Probe bewegt, die auf dem Probentisch platziert wird; eine Probenstück-Transporteinheit, die so konfiguriert ist, dass sie das Probenstück, das von der Probe getrennt und extrahiert wurde, hält und befördert; eine Halterbefestigungsbasis, die so konfiguriert ist, dass sie einen Probenstückhalter hält, zu dem das Probenstück transportiert wird; und einen Rechner, der konfiguriert ist, um eine Positionssteuerung in Bezug auf ein zweites Ziel durchzuführen, basierend auf einem Maschinenlernmodell, in dem erste Informationen einschließlich eines ersten Bildes eines ersten Ziels gelernt werden, und auf zweiten Informationen einschließlich eines zweiten Bildes, das durch Bestrahlung mit dem geladenen Teilchenstrahl erhalten wird.