公开(公告)号：JPS5239377A

公开(公告)日：1977-03-26

申请号：JP9327776

申请日：1976-08-06

Applicant: IBM

Inventor： JIYOAKIMU BAAGON ,  EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  HIROYUKI HIROOKA

IPC: G03F7/038 ,  C08F8/32 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JPS5187971A

公开(公告)日：1976-07-31

申请号：JP14922375

申请日：1975-12-16

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UEIN EMU MORYUU ,  OMAA YUU NIIDO SAADO

IPC: H01L21/027 ,  B41C1/00 ,  C08J3/28 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JPS5184640A

公开(公告)日：1976-07-24

申请号：JP13220675

申请日：1975-11-05

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UEIN EMU MORYUU ,  OMAA YUU NIIDO SAADO

IPC: G03F7/16 ,  G03C1/74 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00

公开(公告)号：JPS5148279A

公开(公告)日：1976-04-24

申请号：JP9984775

申请日：1975-08-19

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UEIN EMU MORYUU ,  OMAA YUU NIIDO SAADO

IPC: H05K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JPS5147432A

公开(公告)日：1976-04-23

申请号：JP9767975

申请日：1975-08-13

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UEIN EMU MORYUU ,  OMAA YUU NIIDO SAADO

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

Abstract: Electron beam positive resists which are sensitive to electron beam radiation and simultaneously thermally stable are prepared using polycarbonates.

公开(公告)号：JPS5231741A

公开(公告)日：1977-03-10

申请号：JP12446875

申请日：1975-10-17

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UEIN EMU MORIYUU ,  OMAA YUU NIIDO SAADO

IPC: H05K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JPS5143127A

公开(公告)日：1976-04-13

申请号：JP9768075

申请日：1975-08-13

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UEIN EMU MORYUU ,  OMAA YUU NIIDO SAADO

IPC: G03F7/039

公开(公告)号：JPS5114327A

公开(公告)日：1976-02-04

申请号：JP7276975

申请日：1975-06-17

Applicant: IBM

Inventor： EDOWAADO GIPUSUTEIN ,  UIRIAMU EI HYUUITSUTO

IPC: H01L21/027 ,  C08G75/00 ,  C08G75/22 ,  G03F7/039