公开(公告)号：DE112018003651T5

公开(公告)日：2020-04-16

申请号：DE112018003651

申请日：2018-09-25

Applicant: IBM

Inventor： SESHADRI INDIRA ,  DE SILVA EKMINI ANUJA ,  LIU CHI-CHUN ,  CHI CHENG ,  GUO JING ,  MELI THOMPSON LUCIANA

IPC: G03F7/00

Abstract: Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung stellen Systeme und Verfahren zum Einfangen von Aminen bereit. Dies wiederum schwächt unerwünschte Scumming- und Footing-Erscheinungen in einem Photoresist ab. Die Polymerbürste ist an eine Siliciumnitridoberfläche gepfropft. Die funktionellen Gruppen und das Molekulargewicht der Polymerbürste stellen Protonen bereit bzw. üben sterische Hinderung aus, um Amine einzufangen, die aus einer Siliciumnitridoberfläche diffundieren.