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公开(公告)号:DE102012216026B4
公开(公告)日:2021-12-02
申请号:DE102012216026
申请日:2012-09-11
Applicant: IBM
Inventor: DELIGIANNI HARIKLIA , GUO LIAN , HOPSTAKEN MARINUS JOHANNES PETRUS , MASON MAURICE , ROMANKIW LUBOMYR T
IPC: H01L31/18 , H01L31/0392 , H01L31/0749 , H02S30/20
Abstract: Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Photovoltaik-Dünnschichtzelle (100) mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht (120), wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst:Bereitstellen (S10) eines Foliensubstrats (110), welches Eisen umfasst;Bilden (S20) einer Eisendiffusionsbarriereschicht (120) auf dem Foliensubstrat (110), wobei die Eisendiffusionsbarriereschicht (120) verhindert, dass das Eisen zu mindestens einer Lichtabsorptionsschicht (140) diffundiert;Bilden (S30) einer Elektrodenschicht (130) auf der Eisendiffusionsbarriereschicht; undBilden (S40) mindestens einer Lichtabsorptionsschicht (140) der Dünnschichtsolarzelle auf der Elektrodenschicht (130),wobei die Eisendiffusionsbarriereschicht (120) eine chemische Verbindung umfasst, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Nickelphosphor, Cobaltphosphor, Molybdänphosphor, Nickelbor, Cobaltbor, Molybdänbor, Molybdän(IV)-selenid, Molybdändisulfid und Kombinationen dieser besteht.
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公开(公告)号:DE102012216026A1
公开(公告)日:2013-03-28
申请号:DE102012216026
申请日:2012-09-11
Applicant: IBM
Inventor: DELIGIANNI HARIKLIA , GUO LIAN , HOPSTAKEN MARINUS JOHANNES PETRUS , MASON MAURICE , ROMANKIW LUBOMYR T
IPC: H01L31/18 , H01L31/0392 , H01L31/0749
Abstract: Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Photovoltaik-Dünnschichtzelle mit einer Eisendiffusionsbarriereschicht. Das Verfahren umfasst das Folgende: Bereitstellen eines Foliensubstrats, welches Eisen umfasst; Bilden einer Eisendiffusionsbarriereschicht auf dem Foliensubstrat, wobei die Eisendiffusionsbarriereschicht verhindert, dass das Eisen diffundiert; Bilden einer Elektrodenschicht auf der Eisendiffusionsbarriereschicht; und Bilden mindestens einer Lichtabsorptionsschicht auf der Elektrodenschicht. Es wird auch eine flexible Photovoltaik-Dünnschichtzelle bereitgestellt, welche das Folgende umfasst: ein Foliensubstrat, welches Eisen umfasst; eine Eisendiffusionsbarriereschicht, welche auf dem Foliensubstrat ausgebildet ist, um zu verhindern, dass das Eisen diffundiert; eine Elektrodenschicht, welche auf der Eisendiffusionsbarriereschicht ausgebildet ist; und mindestens eine Lichtabsorptionsschicht, welche auf der Elektrodenschicht ausgebildet ist.
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