Bilden von Metall-Nanokugeln und Mikrokugeln

    公开(公告)号:DE112012003625T5

    公开(公告)日:2014-05-15

    申请号:DE112012003625

    申请日:2012-08-29

    Applicant: IBM

    Abstract: Es werden Halbkugeln (18) und Kugeln (28) gebildet und für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet. Halbkugeln (18) werden verwendet, um ein Substrat zu bilden, welches eine obere Fläche und eine untere Fläche (12) aufweist. Die obere Fläche umfasst Spitzen von Säulen (10), welche einen Boden aufweisen, der an der unteren Fläche angebracht ist. Die Spitzen weisen eine Dichte auf, die an der oberen Fläche durch ein Feld von halbkugelförmigen Metallstrukturen (18) definiert ist, welche während eines Ätzverfahrens zum Entfernen von Substratmaterial herunter bis zu der unteren Fläche während des Bildens der Säulen als Maske fungieren. Die Säulen sind dicht und gleichmäßig und weisen einen mittleren Durchmesser im Mikromaßstab auf. Die Kugeln werden als unabhängige Metallkugeln oder Nanoteilchen für andere Anwendungen gebildet.

    Formation of metal nanospheres and microspheres

    公开(公告)号:GB2508748B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:GB201403424

    申请日:2012-08-29

    Applicant: IBM

    Abstract: Hemispheres and spheres are formed and employed for a plurality of applications. Hemispheres are employed to form a substrate having an upper surface and a lower surface. The upper surface includes peaks of pillars which have a base attached to the lower surface. The peaks have a density defined at the upper surface by an array of hemispherical metal structures that act as a mask during an etch to remove substrate material down to the lower surface during formation of the pillars. The pillars are dense and uniform and include a microscale average diameter. The spheres are formed as independent metal spheres or nanoparticles for other applications.

    Formation of metal nanospheres and microspheres

    公开(公告)号:GB2508748A

    公开(公告)日:2014-06-11

    申请号:GB201403424

    申请日:2012-08-29

    Applicant: IBM

    Abstract: Hemispheres (18) and spheres (28) are formed and employed for a plurality of applications. Hemispheres (18) are employed to form a substrate having an upper surface and a lower surface (12). The upper surface includes peaks of pillars (10) which have a base attached to the lower surface. The peaks have a density defined at the upper surface by an array of hemispherical metal structures (18) that act as a mask during an etch to remove substrate material down to the lower surface during formation of the pillars. The pillars are dense and uniform and include a microscale average diameter. The spheres are formed as independent metal spheres or nanoparticles for other applications.

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