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1.发明申请SULFONAMIDE-CONTAINING TOPCOAT AND PHOTORESIST ADDITIVE COMPOSITIONS AND METHODS OF USE 审中-公开含有磺酰胺的TopCOAT和光催化剂添加剂组合物及其使用方法
公开(公告)号：WO2011101259A2
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/EP2011051564
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM , IBM UK , CENTRAL GLASS CO LTD , SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
IPC: G03F7/11
CPC classification number: C09D133/16 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: Provided are sulfonamide-containing compositions, topcoat polymers, and additive polymers for use in lithographic processes that have improved static receding water contact angles over those known in the art. The sulfonamide-containing topcoat polymers and additive polymers of the present invention include sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I).
Abstract translation: 提供了与本领域已知的相比，具有改进的静态后退水接触角的用于光刻工艺的含磺酰胺的组合物，面漆聚合物和添加剂聚合物。 本发明的含磺酰胺的面漆聚合物和添加剂聚合物包括具有支链连接基团的磺酰胺取代的重复单元，如式（I）所示。
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公开(公告)号：WO2011101260A3
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011051565
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM , IBM UK , CENTRAL GLASS CO LTD , SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
Abstract: Provided are sulfonamide-containing photoresist compositions for use in lithographic processes that have improved properties for high resolution, low blur imaging. Also provided are alcohol- soluble photoresists for resist-on-resist applications. The sulfonamide- containing photoresist compositions of the present invention include positive-tone photoresist compositions that have sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I).
Abstract translation: 提供了用于平版印刷方法的含磺酰胺的光刻胶组合物，其具有用于高分辨率，低模糊成像的改进性质。 还提供用于抗蚀剂抗蚀剂应用的醇溶性光刻胶。 本发明的含磺酰胺的光刻胶组合物包括正式光刻胶组合物，其具有式（I）所示的具有支化连接基团的磺酰胺取代的重复单元。
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公开(公告)号：GB2489612A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：GB201207369
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
IPC: C08L33/14 , C08L33/04 , C08L33/08 , C08L33/10 , C09D133/04 , C09D133/08 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/11
Abstract: Provided are sulfonamide-containing compositions, topcoat polymers, and additive polymers for use in lithographic processes that have improved static receding water contact angles over those known in the art. The sulfonamide-containing topcoat polymers and additive polymers of the present invention include sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I).
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：DE112011100590T5
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：DE112011100590
申请日：2011-02-03
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS PAUL DANIEL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Abstract: Es werden Sulfonamid-enthaltende Fotoresist-Zusammensetzungen für die Verwendung bei lithographischen Verfahren bereitgestellt, die verbesserte Eigenschaften für die hochauflösende Bildgebung mit geringer Unschärfe aufweisen. Ferner werden alkohollösliche Fotoresiste für Fotoresist-auf-Fotoresist-Anwendungen bereitgestellt. Die Sulfonamid-enthaltenden Fotoresist-Zusammensetzungen gemäß der vorliegenden Erfindung umfassen Positiv-Fotoresist-Zusammensetzungen, die Sulfonamid-substituierte Wiederholungseinheiten mit einer verzweigten Verknüpfungsgruppe aufweisen, wie in Formel (I) gezeigt:
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公开(公告)号：DE112011100590B4
公开(公告)日：2021-10-28
申请号：DE112011100590
申请日：2011-02-03
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Abstract: Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung, umfassend ein Polymer, einen Fotosäuregenerator (PAG) und ein Lösungsmittel, wobei der PAG Sulfonate, Oniumsalze, aromatische Diazoniumsalze, Sulfoniumsalze, Diaryliodoniumsalze und Sulfonsäureester von N-Hydroxyamiden oder N-Hydroxyimiden umfasst, wobei das Polymer eine erste Wiederholungseinheit, die eine Sulfonamidgruppe und eine verzweigte Verknüpfungsgruppe aufweist, gemäß Formel (XII) umfasst,und eine zweite Wiederholungseinheit, die eine mit einer säurelabilen Schutzgruppe geschützte saure Gruppe enthält, umfasst, wobei:R28unabhängig ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Fluor, Methyl und Trifluormethyl; undR29fluoriertes C1-C12-Alkyl ist.
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公开(公告)号：DE112011100591B4
公开(公告)日：2021-10-21
申请号：DE112011100591
申请日：2011-02-03
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Abstract: Zusammensetzung, umfassend ein Polymer mit Wiederholungseinheiten, umfassend eine Sulfonamidgruppe und eine verzweigte Verknüpfungsgruppe, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus den Formeln (III), (IV), (V), (VII), (VIII) und (IX):wobei:R10, R12, R14, R18, R20und R22unabhängig ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Fluor, Methyl und Trifluormethyl; undR11, R13, R15, R19, R21und R23unabhängig fluoriertes C1-C12-Alkyl sind.
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公开(公告)号：GB2490195A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：GB201203582
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Abstract: Provided are sulfonamide-containing photoresist compositions for use in lithographic processes that have improved properties for high resolution, low blur imaging. Also provided are alcohol- soluble photoresists for resist-on-resist applications. The sulfonamide- containing photoresist compositions of the present invention include positive-tone photoresist compositions that have sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I).
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公开(公告)号：GB2489612A8
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：GB201207369
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
IPC: C08L33/14 , C08L33/04 , C08L33/08 , C08L33/10 , C09D133/04 , C09D133/08 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/11
Abstract: Provided are sulfonamide-containing compositions, topcoat polymers, and additive polymers for use in lithographic processes that have improved static receding water contact angles over those known in the art. The sulfonamide-containing topcoat polymers and additive polymers of the present invention include sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I):
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