Sulfonamid-enthaltende Fotoresist-Zusammensetzungen und Verfahren zur Verwendung

    公开(公告)号:DE112011100590B4

    公开(公告)日:2021-10-28

    申请号:DE112011100590

    申请日:2011-02-03

    Abstract: Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung, umfassend ein Polymer, einen Fotosäuregenerator (PAG) und ein Lösungsmittel, wobei der PAG Sulfonate, Oniumsalze, aromatische Diazoniumsalze, Sulfoniumsalze, Diaryliodoniumsalze und Sulfonsäureester von N-Hydroxyamiden oder N-Hydroxyimiden umfasst, wobei das Polymer eine erste Wiederholungseinheit, die eine Sulfonamidgruppe und eine verzweigte Verknüpfungsgruppe aufweist, gemäß Formel (XII) umfasst,und eine zweite Wiederholungseinheit, die eine mit einer säurelabilen Schutzgruppe geschützte saure Gruppe enthält, umfasst, wobei:R28unabhängig ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Fluor, Methyl und Trifluormethyl; undR29fluoriertes C1-C12-Alkyl ist.

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