公开(公告)号：DE102018120580A1

公开(公告)日：2020-02-27

申请号：DE102018120580

申请日：2018-08-23

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： FIEDLER OLAF ,  SIMON DANIEL KAI ,  HANNEMANN ULLRICH ,  ZEHNER SIGURD VOLKER ,  HORN ANDRE

IPC: C23C16/455

Abstract: Ein Verfahren zum Abscheiden einer Schicht umfasst ein Messen einer physikalischen Eigenschaft, die mit einem Luftdruck in einer Reaktorkammer (450) einer Abscheidungsvorrichtung (400) zusammenhängt. Ein Haupt-Gasgemisch (100), das ein Quellengas (110) und ein Hilfsgas (120) aufweist, wird bei Atmosphärendruck in die Reaktorkammer (450) eingeführt, wobei das Quellengas (110) ein Precursor-Material (112) und ein Trägergas (114) enthält. Ein Gasstrom von zumindest einem des Quellengases (110) und des Hilfsgases (120) in die Reaktorkammer (450) wird als Antwort auf eine Änderung des Luftdrucks in der Reaktorkammer (450) gesteuert.