公开(公告)号：DE10241590A1

公开(公告)日：2004-03-18

申请号：DE10241590

申请日：2002-09-05

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： HOEMIG TOBIAS ,  HEGER PERCY ,  OTTO RALF

IPC: H01J37/32

Abstract: The plasma processing chamber (2) is coupled to a gas feed/vacuum generator (3) and the process parameters are controlled by an advanced process tool, APC, (1). The end point of the plasma cleaning operation is determined by monitoring the DC voltage bias signal (4) using a suitable transducer (5). The output signal is fed to a processor (6).

公开(公告)号：DE102013107309A1

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：DE102013107309

申请日：2013-07-10

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： BROCKHAUS PETER ,  FISCHER MARKUS ,  HEGER PERCY ,  RUPF JAN ,  URBANSKY NORBERT

IPC: G01R15/20 ,  G01R19/00 ,  G01R31/00 ,  G01R33/04

Abstract: Das Detektieren von Arcing-Ereignissen in einem DC-betriebenen Halbleiter-Werkzeug ist ein anspruchsvoller Prozess. Verschiedene Ausführungsformen umfassen zugehörige Sensorbauelemente (100), die in der Lage sind, Arcing-Ereignisse durch Beobachtung der Steilheit der Spannung und/oder des Stroms in einer DC-Stromversorgungsleitung (104) zu detektieren. Unter Verwendung der eingeschlossenen Schnittstellen kann der Sensor (112) mit einem Computersystem verbunden werden. Neben der Detektoranordnung stellt die Einheit auch ein Verfahren und ein entsprechendes Computerprogrammerzeugnis bereit. Über eine einfache Detektion hinaus weist die Einheit die Fähigkeit auf, die Ereignisse nach ihrem Schweregrad abzugrenzen.