公开(公告)号：WO2009076777A4

公开(公告)日：2009-08-13

申请号：PCT/CA2008002265

申请日：2008-12-18

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC ,  PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  TOMANTSCHGER KLAUS ,  LIN PETER ,  AUST KARL ,  NAGARAJAN NANDAKUMAR ,  GONZALEZ FRANCISCO

Inventor： PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  TOMANTSCHGER KLAUS ,  LIN PETER ,  AUST KARL ,  NAGARAJAN NANDAKUMAR ,  GONZALEZ FRANCISCO

IPC: C25D5/50

CPC classification number: C22F1/08 ,  C21D1/06 ,  C21D9/0068 ,  C25D3/12 ,  C25D3/38 ,  C25D5/50

Abstract: Polycrystalline materials are prepared by electrodeposition of a precursor material that is subsequently heat-treated to induce at least a threefold increase in the grain size of the material to yield a relatively high fraction of 'special' low S grain boundaries and a randomized crystallographic texture. The precursor metallic material has sufficient purity and a fine-grained microstructure (e.g., an average grain size of 4 nm to 5 µm). The resulting metallic material is suited to the fabrication of articles requiring high mechanical or physical isotropy and/or resistance to grain boundary-mediated deformation or degradation mechanisms.

Abstract translation: 多晶材料通过电沉积前体材料来制备，所述前体材料随后经过热处理以引起材料的晶粒尺寸增加至少三倍，以产生相对高比例的'特殊'低S晶界和随机化晶体学结构。 前体金属材料具有足够的纯度和细粒度的微观结构（例如平均粒径为4nm至5μm）。 所得金属材料适合于制造需要高机械或物理各向同性和/或抗晶界边界介导的变形或降解机制的制品。

公开(公告)号：BRPI0821727A2

公开(公告)日：2015-06-16

申请号：BRPI0821727

申请日：2008-09-25

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： TOMANTSCHGER KLAUS ,  HIBBARD GLENN ,  PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  MCCREA JOHNATHAN ,  SMITH FRED

IPC: C25D5/18 ,  A63B53/10 ,  C25D5/22 ,  C25D7/04 ,  C25D15/00

公开(公告)号：CA2877951A1

公开(公告)日：2014-01-03

申请号：CA2877951

申请日：2013-06-26

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： BROOKS IAIN ,  MCCREA JONATHAN ,  KATUGAHA HERATH ,  PALUMBO GINO ,  PANAGIOTOPOULOS KONSTANTINOS ,  NAGARAJAN NANDAKUMAR ,  HIRMER GERHARD

IPC: C25D3/12 ,  C23C18/16 ,  C23C18/20 ,  C25D3/38 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  H05K3/38

Abstract: An article of manufacture includes a substrate having an outer surface clad with a metal construct including one or more continuous metal layers, at least one of which is an amorphous layer or a microcrystalline layer having a grain size below 5000 nm. A bonding layer is provided between the substrate and the layered metallic construct so that the bonding layer is in direct contact with the substrate and with the layered metallic construct. The bonding layer is made of a substantially fully cured resin including at least 10% of a rubber. The layered metallic construct has peel strength greater than 10N/cm. Also provided is a process for making the article including coating an article outer surface with a bonding layer and a layered metallic construct. The bonding layer is substantially fully cured before the layered metal construct is bonded to the article. The coated article is annealed.

公开(公告)号：ES2431792T3

公开(公告)日：2013-11-28

申请号：ES08800385

申请日：2008-09-25

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： TOMANTSCHGER KLAUS ,  HIBBARD GLENN ,  PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  MCCREA JOHNATHAN ,  SMITH FRED

IPC: C25D5/18 ,  A63B53/10 ,  C23C14/34 ,  C25D1/00 ,  C25D5/02 ,  C25D5/08 ,  C25D5/10 ,  C25D5/14 ,  C25D5/16 ,  C25D5/22 ,  C25D7/04 ,  C25D15/00 ,  C25D15/02 ,  C25D17/00 ,  C25D21/10 ,  C25D21/12 ,  C25D21/14

Abstract: Un procedimiento de preparación de al menos un depósito metálico de propiedad variable,que comprende las etapas de - depositar electrolitícamente de forma continua un material metálico de un baño de electrolito acuoso en unacelda electrolítica única que tiene al menos un ánodo y al menos un cátodo, en el que la composición delbaño es selectiva y reversiblemente modulada por una o más etapas que comprendenel uso de dos ánodos con control de corriente individual; añadir componentes utilizando una bomba dosificadora, agitación por aire para oxidar selectivamente componente de baño, agitación para mantener las partículas ensuspensión para que se depositan; añadir, modificar o eliminar de los componentes del baño a través de un bucle de circulación de fluido, ymezclar a fin de afectar a la(s) concentración(concentraciones) de iones local(es) en la superficie del cátodo,en el que los parámetros de electrodeposición son densidad de corriente promedio que varía de 5 a 10 000 mA/cm2, pulso directo de trabajo que varía de 0,1 a 500 ms, pulso de reposo que varía de 0 a 10 000 ms, pulso inverso de trabajo que varía de 0 a 500 ms, densidad máxima de corriente directa que varía de 5 a 10 000 mA/cm2; densidad máxima de corriente inversa que varía de 5 a 20 000 mA/cm2; frecuencia que varía de 0 a 1 000 Hz; un ciclo de trabajo que varía de 5 a 100%; temperatura del baño que varía de 0 a 100°C; velocidad de rotación del electrodo de trabajo que varía de 0 a 1 000 rpm; cuando se utilizan dos o más ánodos solubles de diferentes composiciones, la fracción de corriente media encada ánodo que varía de 5 a 95%; velocidad de agitación del baño que varía de 1 a 6 000 ml/(min cm2); la dirección del flujo de baño en elcátodo que varía desde incidente (perpendicular) a tangencial; apantallar el ánodo cubriendo entre el 0 al 95% del área geométrica de superficie del ánodo; y contenido de baño de partículas electroquímicamente inerte que varía del 0 al 70% en volumen; y - modular al menos uno de estos parámetros durante la electrodeposición para causar la variación en unapropiedad de depósito en más de un 10% para variar al menos una propiedad seleccionada del grupo queconsiste en tamaño de grano, dureza, límite de fluencia, módulo de Young, resistencia, límite elástico, ductilidad, tensiónde depósito interno o residual, rigidez, composición química, coeficiente de expansión térmica, coeficiente defricción, conductividad eléctrica, fuerza coercitiva magnética; y en el caso de electrodepósito de materiales dematriz metálica, volumen de partículas fracción de partículas tamaño de partículas, forma de partículas y/oquímica de partículas, en el que depositar electrolícamente es no sólo para causar variación en más de un 10% en propiedad a lolargo de la profundidad del depósito, sino también a lo largo de la longitud y/o anchura del depósito; y - proporcionar un espesor de depósito que varía desde 20 mm a 5 cm que tienen una microestructura de45 grano fino con un tamaño promedio de grano que varía desde 2 nm a 10 000 nm a lo largo de 1,5 nm a 5 cmde dicho espesor.

公开(公告)号：PT2220270E

公开(公告)日：2013-10-02

申请号：PT08800385

申请日：2008-09-25

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： TOMANTSCHGER KLAUS ,  PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  HIBBARD GLENN ,  MCCREA JOHNATHAN ,  SMITH FRED

IPC: C25D5/18 ,  A63B53/10 ,  C23C14/34 ,  C25D1/00 ,  C25D5/02 ,  C25D5/08 ,  C25D5/10 ,  C25D5/14 ,  C25D5/16 ,  C25D5/22 ,  C25D7/04 ,  C25D15/00 ,  C25D15/02 ,  C25D17/00 ,  C25D21/10 ,  C25D21/12 ,  C25D21/14

公开(公告)号：CA2503675C

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：CA2503675

申请日：2003-03-20

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  ROBERTSON ANDREW J ,  PANAGIOTOPOULOS KONSTANTINOS ,  GONZALES FRANCISCO ,  TOMANTSCHGER KLAUS

IPC: C25D5/02 ,  C25D5/06 ,  C25D7/04

Abstract: A process for in situ electroforming a structural reinforcing layer of selected metallic material for repairing an external surface area of a degraded section of metallic workpieces, especially of tubes and tube sections, is described. Preferably, the metal layer coatings are made of fine-grained metals, metal alloys or metal matrix composites. The plating system can be used on straight tubes, tube joints to different diameter tubes or face plates, tube elbows and other complex shapes encountered in piping systems. A suitable apparatus is assembled on or near the degraded site and is sealed in place to form the plating cell. Also described is a process for plating "patches" onto degraded areas by selective plating including brush plating.

公开(公告)号：DK1516076T3

公开(公告)日：2008-06-23

申请号：DK02754753

申请日：2002-06-25

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  MCCREA JONATHAN ,  HIBBARD GLENN D ,  GONZALEZ FRANCISCO ,  TOMANTSCHGER KLAUS ,  ERB UWE

IPC: C25D1/04 ,  C25D5/02 ,  C25D5/06 ,  C25D5/18 ,  C25D5/20 ,  C25D7/04 ,  C25D15/02 ,  C25D17/00 ,  C25D21/12

Abstract: The invention relates to a process for forming coatings or free-standing deposits of nanocrystalline metals, metal alloys or metal matrix composites. The process employs drum plating or selective plating processes involving pulse electrodeposition and a non-stationary anode or cathode. Novel nanocrystalline metal matrix composites and micro components are disclosed as well. Also described is a process for forming micro components with grain sizes below 1,000nm.

公开(公告)号：DE60225352T2

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：DE60225352

申请日：2002-06-25

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： PALUMBO GINO ,  BROOKS IAIN ,  MCCREA JONATHAN ,  HIBBARD GLENN D ,  GONZALEZ FRANCISCO ,  TOMANTSCHGER KLAUS ,  ERB UWE

IPC: C25D1/04 ,  C25D5/02 ,  C25D5/06 ,  C25D5/18 ,  C25D5/20 ,  C25D7/04 ,  C25D15/02 ,  C25D17/00 ,  C25D21/12

Abstract: The invention relates to a process for forming coatings or free-standing deposits of nanocrystalline metals, metal alloys or metal matrix composites. The process employs drum plating or selective plating processes involving pulse electrodeposition and a non-stationary anode or cathode. Novel nanocrystalline metal matrix composites and micro components are disclosed as well. Also described is a process for forming micro components with grain sizes below 1,000nm.

公开(公告)号：AT515389T

公开(公告)日：2011-07-15

申请号：AT05821047

申请日：2005-12-16

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： PALUMBO GINO ,  MCCREA JONATHAN ,  TOMANTSCHGER KLAUS ,  BROOKS IAIN ,  JEONG DAEHYUN ,  LIMOGES DAVE ,  PANAGIOTOPOULOS KONSTANTINOS ,  ERB UWE ,  WANG ANDREW

IPC: B32B15/08 ,  A63B53/12 ,  B22F5/00 ,  B22F7/02 ,  B32B33/00 ,  F42B12/72

Abstract: Lightweight articles comprising a polymeric material at least partially coated with a fine-grained metallic material are disclosed. The fine-grained metallic material has an average grain size of 2nm to 5,000nm, a thickness between 25 micron and 5cm, and a hardness between 200VHN and 3,000 VHN. The lightweight articles are strong and ductile and exhibit high coefficients of restitution and a high stiffness and are particularly suitable for a variety of applications including aerospace and automotive parts, sporting goods, and the like.

公开(公告)号：CA2562042C

公开(公告)日：2009-07-07

申请号：CA2562042

申请日：2005-12-16

Applicant: INTEGRAN TECHNOLOGIES INC

Inventor： TOMANTSCHGER KLAUS ,  LIMOGES DAVE ,  UWE ERB ,  BROOKS IAIN ,  JEONG DAEHYUN ,  PANAGIOTOPOULOS KONSTANTINOS ,  PALUMBO GINO ,  MCCREA JONATHAN ,  WANG ANDREW

IPC: B32B15/08 ,  A63B53/12 ,  B22F5/00 ,  B22F7/02 ,  B32B33/00 ,  F42B12/72

Abstract: Lightweight articles comprising a polymeric material at least partially coat ed with a fine-grained metallic material are disclosed. The fine-grained metall ic material has an average grain size of 2nm to 5,000nm, a thickness between 25 micron and 5cm, and a hardness between 200VHN and 3,000 VHN. The lightweight articles are strong and ductile and exhibit high coefficients of restitution and a high stiffness and are particularly suitable for a variety of applications including aerospace and automotive parts, sporting goods, and t he like.