公开(公告)号：CN109312449A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780035628.7

申请日：2017-06-07

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 守井泰士 ,  小井土由将

IPC: C23C14/34 ,  C22C21/00 ,  C22C28/00 ,  C22F1/04 ,  C22F1/16 ,  C22F1/00

Abstract: 本发明的溅射靶包含Al和Sc的合金、且以25原子％～50原子％含有Sc，其中氧含量为2000质量ppm以下、维氏硬度Hv的偏差为20％以下。

公开(公告)号：CN111886358A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201880091541.6

申请日：2018-11-15

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 小井土由将

IPC: C23C14/34 ,  C22F1/00 ,  C22F1/06

Abstract: 提供一种在成膜时能够有效地减少微粒的产生的溅射靶部件。其是由纯度为99.9质量％以上的镁形成的溅射靶部件，镁的平均晶粒粒径为42μm以下。

公开(公告)号：CN109312449B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201780035628.7

申请日：2017-06-07

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 守井泰士 ,  小井土由将

IPC: C23C14/34 ,  C22C21/00 ,  C22C28/00 ,  C22F1/04 ,  C22F1/16 ,  C22F1/00

Abstract: 本发明的溅射靶包含Al和Sc的合金、且以25原子％～50原子％含有Sc，其中氧含量为2000质量ppm以下、维氏硬度Hv的偏差为20％以下。

公开(公告)号：CN111971423A

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN201880091917.3

申请日：2018-10-03

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 村田周平 ,  小井土由将 ,  浅野孝幸 ,  神永贤吾

IPC: C25D17/10

Abstract: 本发明提供一种新颖的电镀的阳极，其代替Cu阳极且能抑制镀覆不良。该阳极是利用硝酸浓度20质量％的稀硝酸溶解之后，利用液体微粒计数器且根据JIS B 9925所测得的、粒径为0.5μm以上的微粒的数量为6000个/g以下的Co阳极。