公开(公告)号：DE112014005893T5

公开(公告)日：2016-09-22

申请号：DE112014005893

申请日：2014-12-09

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： LASKE FRANK ,  DANESHPANAH MOHAMMAD M ,  CZERKAS SLAWOMIR ,  WAGNER MARK

IPC: H01L21/66

Abstract: Die Erfindung offenbart ein Verfahren zum Messen von Positionen von Strukturen auf einer Maske und dadurch werden Maskenherstellungsfehler bestimmt. Es wird gezeigt, dass aus einer Vielzahl von Messstellen ein Einfluss eines optischen Proximity-Effekts auf eine Messung der Position von Strukturen auf der Maske mit einer Metrologiemaschine bestimmt wird. Ein gerendertes Bild der Datendarstellung der Strukturen wird erhalten. Zusätzlich wird mindestens ein optisches Bild des Musters innerhalb der Fläche auf der Maske mit dem Abbildungssystem der Metrologiemaschine aufgenommen. Das Bildfeld der Metrologiemaschine ist bezüglich der Größe des ausgewählten Bereichs der Designdaten der Maske annähernd identisch. Schließlich wird ein Residuum bestimmt, was die durch den Proximity-Effekt bedingte Herstellung zeigt.