公开(公告)号：DE112014005893T5

公开(公告)日：2016-09-22

申请号：DE112014005893

申请日：2014-12-09

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： LASKE FRANK ,  DANESHPANAH MOHAMMAD M ,  CZERKAS SLAWOMIR ,  WAGNER MARK

IPC: H01L21/66

Abstract: Die Erfindung offenbart ein Verfahren zum Messen von Positionen von Strukturen auf einer Maske und dadurch werden Maskenherstellungsfehler bestimmt. Es wird gezeigt, dass aus einer Vielzahl von Messstellen ein Einfluss eines optischen Proximity-Effekts auf eine Messung der Position von Strukturen auf der Maske mit einer Metrologiemaschine bestimmt wird. Ein gerendertes Bild der Datendarstellung der Strukturen wird erhalten. Zusätzlich wird mindestens ein optisches Bild des Musters innerhalb der Fläche auf der Maske mit dem Abbildungssystem der Metrologiemaschine aufgenommen. Das Bildfeld der Metrologiemaschine ist bezüglich der Größe des ausgewählten Bereichs der Designdaten der Maske annähernd identisch. Schließlich wird ein Residuum bestimmt, was die durch den Proximity-Effekt bedingte Herstellung zeigt.

公开(公告)号：DE112013004657T5

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：DE112013004657

申请日：2013-09-24

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： DANESHPANAH MOHAMMAD M ,  SEZGINER ABDURRAHMAN APO

IPC: G06F19/00 ,  G06F11/00

Abstract: Es ist ein Verfahren und System zum Durchführen von modellbasierter Registration und der Messung der kritischen Dimension offenbart. Das Verfahren umfasst: eine Verwendung einer Abbildungsvorrichtung, um zumindest ein optisches Bild von einer spezifizierten Messstelle einer Fotomaske zu erhalten; Abrufen eines Designs der Photomaske und Verwenden eines Computermodells der Abbildungsvorrichtung, um mindestens ein simuliertes Bild der Messstelle zu erzeugen; Einstellen wenigstens eines Parameters des Computermodells, um Unterschiede zwischen den simulierten Bildern und den optischen Bildern zu minimieren, wobei die Parameter zumindest einen Parameter zur Positionsbestimmung des Musters oder einen Parameter zur kritischen Dimension umfassen; und Melden des Parameters zur Positionsbestimmung des Musters oder des Parameters zur kritischen Dimension des Computermodells, wenn Unterschiede zwischen den simulierten Bildern und den optischen Bildern minimiert sind.

公开(公告)号：WO2014200648A3

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：PCT/US2014037916

申请日：2014-05-13

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： ROETH KLAUS-DIETER ,  DANESHPANAH MOHAMMAD M ,  BUETTNER ALEXANDER ,  SEZGINER APO ,  WAGNER MARK

IPC: G01N21/95 ,  G01B11/00

CPC classification number: G01B11/005 ,  G01N21/8806 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0691 ,  G01N2201/0697 ,  G03F1/22 ,  G03F1/84

Abstract: A system, a method and a coordinate measuring machine is disclosed for determining the position of defects on objects. An interface is provided so that alignment and coordinate information from the inspection device can be sent to the coordinate measuring machine. A special illumination and detection arrangement is used with a plurality of optical elements in order to obtain a signal from defects on the unpatternd object. The light source of the illumination and detection arrangement is a laser light source for providing a partially coherent light beam. A computer calculates from the data provides by the detector array and the alignment and coordinate information of the object from the inspection device a position of the defect on the object.

Abstract translation: 公开了一种用于确定物体上缺陷位置的系统，方法和坐标测量机。 提供了一个接口，使得来自检查装置的对准和坐标信息可以发送到坐标测量机。 与多个光学元件一起使用特殊的照明和检测装置，以便获得来自非图形对象上的缺陷的信号。 照明和检测装置的光源是用于提供部分相干光束的激光光源。 计算机根据检测器阵列提供的数据和来自检查装置的物体的对准和坐标信息来计算物体上缺陷的位置。