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    LASERANORDNUNG UND INSPEKTIONSSYSTEM UNTER VERWENDUNG EINER MONOLITISCHEN APPARATUR ZUM VERRINGERN DER BANDBREITE
    1.
    发明专利
    LASERANORDNUNG UND INSPEKTIONSSYSTEM UNTER VERWENDUNG EINER MONOLITISCHEN APPARATUR ZUM VERRINGERN DER BANDBREITE 未知

    公开(公告)号：DE112015004394T5

    公开(公告)日：2017-06-14

    申请号：DE112015004394

    申请日：2015-09-22

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： DENG YUJUN ,  CHUANG YUNG-HO ALEX ,  FIELDEN JOHN ,  ARMSTRONG J JOSEPH ,  DRIBINSKI VLADIMIR

    IPC: H01S3/137 ,  G01N21/39

    Abstract: Eine gepulste UV-Laseranordnung umfasst einen Teilreflektor oder Strahlteiler, der jeden Grundpuls in zwei Teilpulse unterteilt. Dabei wird ein Teilpuls zu einem Ende eines Bragg-Gitters und der andere Teilpuls zu dem anderen Ende des Bragg-Gitters (oder ein anderes Bragg-Gitter) geleitet, so dass die beiden Teilpulse gestreckt werden und entgegensetzte (positive und negative) Frequenz-Chirps erhalten. Die beiden gestreckten Teilpulse werden kombiniert, um ein Summenfrequenzlicht mit einer schmaleren Bandbreite zu erhalten, als man dies vom Grundpuls direkt durch Erzeugung der zweiten Oberschwingung erhalten würde. UV-Wellenlängen können direkt vom Summenfrequenzlicht oder von einem harmonischen Umwandlungsschema erzeugt werden, welches das Summenfrequenzlicht beinhaltet. Der UV-Laser kann weiterhin andere die Bandbreite reduzierende Schemata umfassen. Der gepulste UV-Laser kann in einem Inspektions- oder Metrologiesystem verwendet werden.

    183 nm CW-Laser und Inspektionssystem
    2.
    发明专利
    183 nm CW-Laser und Inspektionssystem 未知

    公开(公告)号：DE112018000301T5

    公开(公告)日：2019-09-12

    申请号：DE112018000301

    申请日：2018-01-02

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： CHUANG YUNG-HO ALEX ,  LU XIAOXU ,  ZHANG BAIGANG ,  FIELDEN JOHN ,  DRIBINSKI VLADIMIR

    IPC: H01S3/109 ,  H01L21/66 ,  H01S3/16 ,  H01S3/23

    Abstract: Eine Laseranordnung erzeugt kontinuierlich (CW) Laserausgangslicht im Bereich von etwa 181 nm bis etwa 185 nm durch das Erzeugen von Licht der vierten Harmonischen aus einem ersten grundlegenden CW-Licht, das eine erste Grundwellenlänge zwischen 1 µm und 1,1 µm aufweist. Das Erzeugen eines fünften harmonischen Lichts erreicht man durch Mischen des vierten harmonischen Lichts mit dem ersten CW-Grundlicht. Dann erfolgt das Mischen des fünften harmonischen Lichts mit dem zweiten Grundlicht oder dem CW-Lichtsignal, das eine zweite Wellenlänge zwischen 1,26 µm und 1,82 µm besitzt. Das fünfte harmonische Licht wird unter Verwendung einer externen Kavität, die das erste CW-Grundlicht durch einen ersten nichtlinearen Kristall zirkuliert und das Richten des vierten harmonischen Lichts durch den ersten nichtlinearen Kristall erzeugt. Das Laserausgangslicht wird mit einer zweiten Kavität, die das zweite Grundlicht oder das CW-Lichtsignal durch einen zweiten nichtlinearen Kristall schickt und das Richten des fünften harmonischen Licht durch den zweiten nichtlinearen Kristall erzeugt.

    183-nm-LASER- UND INSPEKTIONSSYSTEM
    3.
    发明专利
    183-nm-LASER- UND INSPEKTIONSSYSTEM 未知

    公开(公告)号：DE112015004544T5

    公开(公告)日：2017-08-17

    申请号：DE112015004544

    申请日：2015-10-02

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： CHUANG YUNG-HO ALEX ,  DRIBINSKI VLADIMIR ,  DENG YUJUN ,  FIELDEN JOHN ,  ARMSTRONG J JOSEPH

    IPC: H01S3/067 ,  H01S3/098 ,  H01S3/127

    Abstract: Eine Laseranordnung zur Erzeugung von Laserausgangslicht bei einer Ausgangswellenlänge von ungefähr 183 nm beinhaltet einen Basislaser, ein Optisch-Parametrisches-System (OPS), einen Erzeuger einer fünften Harmonischen und ein Frequenzmischungsmodul. Der Basislaser erzeugt Basislicht bei einer Basisfrequenz. Das OPS erzeugt ein frequenzkonvertiertes Signal bei einer herabgesetzten Frequenz. Der Erzeuger einer fünften Harmonischen erzeugt eine fünfte Harmonische des Basislichts. Das Frequenzmischungsmodul mischt das frequenzkonvertierte Signal und die fünfte Harmonische, um das Laserausgangslicht bei einer Frequenz zu erzeugen, die gleich einer Summe der Frequenz der fünften Harmonischen und der herabgesetzten Frequenz ist. Das OPS erzeugt das frequenzkonvertierte Signal, indem es ein frequenzkonvertiertes Leitsignal bei der herabgesetzten Frequenz erzeugt und dann das frequenzkonvertierte Leitsignal mit einem Teil des Basislichts mischt. Zumindest einer der Schritte Frequenzmischung, Frequenzkonversion, Erzeugung der Harmonischen verwendet einen getemperten, mit Deuterium oder mit Wasserstoff behandelten CLBO-Kristall.

    ALLEVIATION OF LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS BY SUPPRESSION OF TRANSIENT COLOR CENTERS FORMATION AND CONTROL OF PHONON POPULATION
    6.
    发明申请
    ALLEVIATION OF LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS BY SUPPRESSION OF TRANSIENT COLOR CENTERS FORMATION AND CONTROL OF PHONON POPULATION 审中-公开
    通过抑制瞬态色素中心形成和控制人类动物来激光诱导的光学材料损伤

    公开(公告)号：WO2011084927A3

    公开(公告)日：2011-12-22

    申请号：PCT/US2011020054

    申请日：2011-01-03

    Applicant: KLA TENCOR CORP ,  DRIBINSKI VLADIMIR ,  CHUANG YUNG-HO ALEX

    Inventor： DRIBINSKI VLADIMIR ,  CHUANG YUNG-HO ALEX

    IPC: H01S3/10 ,  H01S3/113

    CPC classification number: H01S3/10 ,  G02F1/3525 ,  H01S3/005 ,  H01S3/091

    Abstract: Laser-induced damage in an optical material can be mitigated by creating conditions at which light absorption is minimized. Specifically, electrons populating defect energy levels of a band gap in an optical material can be promoted to the conduction band - a process commonly referred to as bleaching. Such bleaching can be accomplished using a predetermined wavelength that ensures minimum energy deposition into the material, ideally promoting electron to just inside the conduction band. In some cases phonon (i.e. thermal) excitation can also be used to achieve higher depopulation rates. In one embodiment, a bleaching light beam having a wavelength longer than that of the laser beam can be combined with the laser beam to depopulate the defect energy levels in the band gap. The bleaching light beam can be propagated in the same direction or intersect the laser beam.

    Abstract translation: 可以通过产生光吸收最小化的条件来减轻光学材料中的激光诱导的损伤。 具体地说，填充光学材料中的带隙的缺陷能级的电子能够促进导带 - 通常被称为漂白的过程。 这样的漂白可以使用确保最小能量沉积到材料中的预定波长来实现，理想地促进电子刚好在导带内部。 在某些情况下，也可以使用声子（即热）激发来实现更高的人口流动率。 在一个实施例中，具有比激光束长的波长的波长的漂白光束可以与激光束组合以对带隙中的缺陷能级进行衰减。 漂白光束可以沿相同方向传播或与激光束相交。

    ALLEVIATION OF LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS BY SUPPRESSION OF TRANSIENT COLOR CENTERS FORMATION AND CONTROL OF PHONON POPULATION
    7.
    发明公开
    ALLEVIATION OF LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS BY SUPPRESSION OF TRANSIENT COLOR CENTERS FORMATION AND CONTROL OF PHONON POPULATION 审中-公开
    利用激光救济带来了光学材料用过渡中心的形成和颜色的伤害减少用于控制声子群

    公开(公告)号：EP2522056A4

    公开(公告)日：2013-09-25

    申请号：EP11732035

    申请日：2011-01-03

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： DRIBINSKI VLADIMIR ,  CHUANG YUNG-HO ALEX

    IPC: H01S3/10 ,  H01S3/113

    CPC classification number: H01S3/10 ,  G02F1/3525 ,  H01S3/005 ,  H01S3/091

    Abstract: Laser-induced damage in an optical material can be mitigated by creating conditions at which light absorption is minimized. Specifically, electrons populating defect energy levels of a band gap in an optical material can be promoted to the conduction band—a process commonly referred to as bleaching. Such bleaching can be accomplished using a predetermined wavelength that ensures minimum energy deposition into the material, ideally promoting electron to just inside the conduction band. In some cases phonon (i.e. thermal) excitation can also be used to achieve higher depopulation rates. In one embodiment, a bleaching light beam having a wavelength longer than that of the laser beam can be combined with the laser beam to depopulate the defect energy levels in the band gap. The bleaching light beam can be propagated in the same direction or intersect the laser beam.

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