Abstract:
Verfahren und Systeme zur Charakterisierung von Abmessungen und Materialeigenschaften von Halbleiterbauelementen durch Ganzstrahl-Röntgenscatterometrie werden beschrieben. Eine Ganzstrahl-Röntgenscatterometriemessung beinhaltet das Beleuchten einer Probe mit einem Röntgenstrahl und das gleichzeitige Erfassen der Intensitäten der resultierenden Nullbeugungsordnung und höherer Beugungsordnungen für einen oder mehrere Einfallswinkel relativ zur Probe. Die gleichzeitige Messung des direkten Strahls und der gestreuten Ordnungen ermöglicht Messungen mit hohem Durchsatz bei verbesserter Genauigkeit. Das Ganzstrahl-Röntgenscatterometriesystem umfasst einen oder mehrere Photonenzähldetektoren mit einem hohen dynamischen Bereich und dicken, hochabsorbierenden Kristallsubstraten, die den direkten Strahl mit minimaler parasitärer Rückstreuung absorbieren. In anderen Aspekten werden modellbasierte Messungen basierend auf dem Strahl der nullten Beugungsordnung durchgeführt, und die Messleistung des Ganzstrahl-Röntgenscatterometriesystems wird basierend auf den Eigenschaften des gemessenen Strahls nullter Ordnung geschätzt und gesteuert.
Abstract:
A method for improving computation efficiency for diffraction signals in optical metrology is described. The method includes simulating a set of spatial harmonics orders for a grating structure. The set of spatial harmonics orders is truncated to provide a first truncated set of spatial harmonics orders based on a first pattern. The first truncated set of spatial harmonics orders is modified by an iterative process to provide a second truncated set of spatial harmonics orders based on a second pattern, the second pattern different from the first pattern. Finally, a simulated spectrum is provided based on the second truncated set of spatial harmonics orders.