公开(公告)号：DE112015004550T5

公开(公告)日：2017-06-14

申请号：DE112015004550

申请日：2015-10-02

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： VAZHAEPARAMBIL JIJEN ,  ZHAO GUOHENG ,  KAVALDJIEV DANIEL IVANOV ,  ROMANOVSKY ANATOLY ,  WOLTERS CHRISTIAN ,  KREN GEORGE ,  BIELLAK STEPHEN ,  WHITESIDE BRET ,  PETTIBONE DONALD ,  MALEEV IVAN

IPC: H01L21/66

Abstract: Ein Wafer-Abtastsystem umfasst eine abbildende Sammeloptik, um die effektive Spotgröße zu reduzieren. Eine kleinere Spotgröße verringert die Anzahl der Photonen, die durch die Oberfläche proportional zur Fläche des Spots gestreut sind. Die Luftstreuung wird ebenfalls reduziert. TDI wird verwendet, um ein Waferbild zu erzeugen, das auf einer Vielzahl von Bildsignalen basiert, die über die Richtung der Linearbewegung des Wafers integriert sind. Ein Beleuchtungssystem überflutet den Wafer mit Licht, und die Aufgabe, den Spot zu erzeugen, wird der bildgebenden Sammeloptik zugeordnet.

公开(公告)号：SG11201702721RA

公开(公告)日：2017-04-27

申请号：SG11201702721R

申请日：2015-10-02

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： VAZHAEPARAMBIL JIJEN ,  ZHAO GUOHENG ,  KAVALDJIEV DANIEL IVANOV ,  ROMANOVSKY ANATOLY ,  MALEEV IVAN ,  WOLTERS CHRISTIAN ,  KREN GEORGE ,  BIELLAK STEPHEN ,  WHITESIDE BRET ,  PETTIBONE DONALD

IPC: H01L21/66

Abstract: A wafer scanning system includes imaging collection optics to reduce the effective spot size. Smaller spot size decreases the number of photons scattered by the surface proportionally to the area of the spot. Air scatter is also reduced. TDI is used to produce a wafer image based on a plurality of image signals integrated over the direction of linear motion of the wafer. An illumination system floods the wafer with light, and the task of creating the spot is allocated to the imaging collection optics.