公开(公告)号：DE112018000301T5

公开(公告)日：2019-09-12

申请号：DE112018000301

申请日：2018-01-02

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： CHUANG YUNG-HO ALEX ,  LU XIAOXU ,  ZHANG BAIGANG ,  FIELDEN JOHN ,  DRIBINSKI VLADIMIR

IPC: H01S3/109 ,  H01L21/66 ,  H01S3/16 ,  H01S3/23

Abstract: Eine Laseranordnung erzeugt kontinuierlich (CW) Laserausgangslicht im Bereich von etwa 181 nm bis etwa 185 nm durch das Erzeugen von Licht der vierten Harmonischen aus einem ersten grundlegenden CW-Licht, das eine erste Grundwellenlänge zwischen 1 µm und 1,1 µm aufweist. Das Erzeugen eines fünften harmonischen Lichts erreicht man durch Mischen des vierten harmonischen Lichts mit dem ersten CW-Grundlicht. Dann erfolgt das Mischen des fünften harmonischen Lichts mit dem zweiten Grundlicht oder dem CW-Lichtsignal, das eine zweite Wellenlänge zwischen 1,26 µm und 1,82 µm besitzt. Das fünfte harmonische Licht wird unter Verwendung einer externen Kavität, die das erste CW-Grundlicht durch einen ersten nichtlinearen Kristall zirkuliert und das Richten des vierten harmonischen Lichts durch den ersten nichtlinearen Kristall erzeugt. Das Laserausgangslicht wird mit einer zweiten Kavität, die das zweite Grundlicht oder das CW-Lichtsignal durch einen zweiten nichtlinearen Kristall schickt und das Richten des fünften harmonischen Licht durch den zweiten nichtlinearen Kristall erzeugt.

公开(公告)号：EP3008779A4

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：EP14811528

申请日：2014-06-11

Applicant: KLA-TENCOR CORP

Inventor： CHUANG YUNG-HO ,  LU XIAOXU ,  FIELDEN JOHN

IPC: G02F1/35 ,  G02F1/355 ,  H01S3/109

CPC classification number: H01S3/109 ,  G02F1/353 ,  G02F1/3534 ,  G02F1/3558 ,  G02F2001/3507 ,  G02F2001/354 ,  G02F2201/17 ,  G02F2203/15 ,  H01S3/0092

Abstract: A deep ultra-violet (DUV) continuous wave (CW) laser includes a fundamental CW laser configured to generate a fundamental frequency with a corresponding wavelength between about 1 μm and 1.1 μm, a third harmonic generator module including one or more periodically poled non-linear optical (NLO) crystals that generate a third harmonic and an optional second harmonic, and one of a fourth harmonic generator module and a fifth harmonic generator. The fourth harmonic generator module includes a cavity resonant at the fundamental frequency configured to combine the fundamental frequency with the third harmonic to generate a fourth harmonic. The fourth harmonic generator module includes either a cavity resonant at the fundamental frequency for combining the fundamental frequency with the third harmonic to generate a fifth harmonic, or a cavity resonant at the second harmonic frequency for combining the second harmonic and the third harmonic to generate the fifth harmonic.

Abstract translation: 深紫外（DUV）连续波（CW）激光器包括基本CW激光器，其被配置为产生具有在约1μm和1.1μm之间的对应波长的基频;三次谐波发生器模块，包括一个或多个非线性光学 （NLO）晶体，其产生三次谐波和可选的二次谐波，以及五次谐波发生器。 第五谐波发生器模块包括在基频处谐振的腔，并且在第一NLO晶体中组合基频和三次谐波以产生第四谐波，然后在第二NLO晶体中组合四次谐波与未消耗的基频，以产生 五次谐波。 使用一个或多个透镜来分别在第一和第二NLO晶体中聚焦第三和第四谐波。

公开(公告)号：EP3117495A4

公开(公告)日：2017-11-29

申请号：EP15809376

申请日：2015-06-18

Applicant: KLA-TENCOR CORP

Inventor： CHUANG YUNG-HO ALEX ,  LOIU JUSTIN DIANHUAN ,  LU XIAOXU ,  ARMSTRONG J JOSEPH ,  DENG YUJUN ,  FIELDEN JOHN

IPC: H01S3/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01S3/10046 ,  G03F7/70025 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08054 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/083 ,  H01S3/10 ,  H01S3/10061 ,  H01S2301/20 ,  H01S2301/203 ,  H01S2301/206

Abstract: A repetition rate (pulse) multiplier includes one or more beam splitters and prisms forming one or more ring cavities with different optical path lengths that delay parts of the energy of each pulse. A series of input laser pulses circulate in the ring cavities and part of the energy of each pulse leaves the system after traversing the shorter cavity path, while another part of the energy leaves the system after traversing the longer cavity path, and/or a combination of both cavity paths. By proper choice of the ring cavity optical path length, the repetition rate of an output series of laser pulses can be made to be a multiple of the input repetition rate. The relative energies of the output pulses can be controlled by choosing the transmission and reflection coefficients of the beam splitters. Some embodiments generate a time-averaged output beam profile that is substantially flat in one dimension.