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公开(公告)号:CN1819748A
公开(公告)日:2006-08-16
申请号:CN200610006438.6
申请日:2006-01-20
Applicant: MEC株式会社
Abstract: 本发明的蚀刻液是对选自Ni、Cr、Ni-Cr合金和Pd之中的至少一种金属进行蚀刻的蚀刻液,其是包含选自NO、N2O、NO2、N2O3及它们的离子之中的至少一种成分和酸成分的水溶液。本发明的导体图案(1)的形成方法是,使用上述蚀刻液对选自Ni、Cr、Ni-Cr合金和Pd之中的至少一种金属进行蚀刻而形成导体图案(1)。
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公开(公告)号:CN101153395B
公开(公告)日:2011-07-20
申请号:CN200710153789.4
申请日:2007-09-25
Applicant: MEC株式会社
Abstract: 本发明的金属除去液是除去钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金的溶液,在所述金属除去液中含有链状硫代羰基化合物。本发明的钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金的除去方法是,使用含有链状硫代羰基化合物的金属除去液,从含有铜或铜合金和选自钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金中的至少一种金属的体系中选择性地除去铜或铜合金以外的金属。由此可以提供可选择性地除去钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金的金属除去液以及使用该金属除去液的除去方法,该金属除去液不侵蚀铜,对钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金等的除去性高,且因不含有害物质而易于操作。
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公开(公告)号:CN1819748B
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN200610006438.6
申请日:2006-01-20
Applicant: MEC株式会社
Abstract: 本发明的蚀刻液是对选自Ni、Cr、Ni-Cr合金和Pd之中的至少一种金属进行蚀刻的蚀刻液,其是包含选自NO、N2O、NO2、N2O3及它们的离子之中的至少一种成分和酸成分的水溶液。本发明的导体图案(1)的形成方法是,使用上述蚀刻液对选自Ni、Cr、Ni-Cr合金和Pd之中的至少一种金属进行蚀刻而形成导体图案(1)。
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公开(公告)号:CN101153395A
公开(公告)日:2008-04-02
申请号:CN200710153789.4
申请日:2007-09-25
Applicant: MEC株式会社
Abstract: 本发明的金属除去液是除去钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金的溶液,在所述金属除去液中含有链状硫代羰基化合物。本发明的钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金的除去方法是,使用含有链状硫代羰基化合物的金属除去液,从含有铜或铜合金和选自钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金中的至少一种金属的体系中选择性地除去铜或铜合金以外的金属。由此可以提供可选择性地除去钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金的金属除去液以及使用该金属除去液的除去方法,该金属除去液不侵蚀铜,对钯、锡、银、钯合金、银合金以及锡合金等的除去性高,且因不含有害物质而易于操作。
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