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公开(公告)号:CN1578594B
公开(公告)日:2010-04-28
申请号:CN200410062093.7
申请日:2004-07-05
Applicant: MEC株式会社
CPC classification number: C23C18/08
Abstract: 本发明提供一种铜化合物,其分解温度在100~300℃的范围内,由1个或多个下述式(1)所示的单元连结而成:[R1COO]n[NH3]mCuX1p (1)式中,n为1~3,m为1~3,p为0~1,n个R1分别表示下述式(2)、CH2X2、CH2X2(CHX2)q、NH2、H,可以相同或不同,或n为2,当2个[R1COO]合在一起就表示为下述式(3),R2、R3、R4分别为CH2X2、CH2X2(CHX2)q、NH2、H,R5为-(CHX2)r-,X2为H、OH、NH2,r为0~4,q为1~4,X1为NH4+、H2O或溶剂分子,[-OOC-R5-COO-] (3)从而,提供能够安全、廉价且容易地形成电子装置等的制造工序中所必需的铜薄膜的铜化合物和使用该铜化合物的铜薄膜的制造方法。
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公开(公告)号:CN1578594A
公开(公告)日:2005-02-09
申请号:CN200410062093.7
申请日:2004-07-05
Applicant: MEC株式会社
CPC classification number: C23C18/08
Abstract: 本发明提供一种铜化合物,其分解温度在100℃~300℃的范围内,由1个或多个下述式(1)所示的单元连结而成:[R1COO]n[NH3]mCuX1p(1)式中,n为1~3,m为1~3,p为0~1,n个R1分别表示下述式(2)、CH2X2、CH2X2(CHX2)q、NH2、H,可以相同或不同,或n为2,当2个[R1COO]合在一起就表示为下述式(3),R2、R3、R4分别为CH2X2、CH2X2(CHX2)q、NH2、H,R5为-(CHX2)r-,X2为H、OH、NH2,r为0~4,q为1~4,X1为NH4+、H2O或溶剂分子,(2)[-OOC-R5-COO-](3)从而,提供能够安全、廉价且容易地形成电子装置等的制造工序中所必需的铜薄膜的铜化合物和使用该铜化合物的铜薄膜的制造方法。
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