Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement

    公开(公告)号:DE102016103328A1

    公开(公告)日:2017-08-31

    申请号:DE102016103328

    申请日:2016-02-25

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen einer Mehrzahl optoelektronischer Halbleiterchips, die jeweils eine Strahlungsemissionsseite und eine Kontaktseite aufweisen, wobei an der Kontaktseite jeweils mindestens zwei elektrische Kontaktflächen angeordnet sind, zum Einbetten der optoelektronischen Halbleiterchips in einen ersten Formkörper, wobei die Strahlungsemissionsseiten und die Kontaktseiten zumindest teilweise unbedeckt durch den ersten Formkörper bleiben, und zum Anordnen einer Verschaltungsstruktur an einer Rückseite des ersten Formkörpers, wobei die Verschaltungsstruktur Leiterbahnen umfasst, die elektrisch leitend mit den elektrischen Kontaktflächen der optoelektronischen Halbleiterchips verbunden werden.

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