VERFAHREN ZUM BEFESTIGEN EINES HALBLEITERCHIPS AUF EINEM LEITERRAHMEN UND ELEKTRONISCHES BAUELEMENT

    公开(公告)号:WO2018158341A1

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:PCT/EP2018/054975

    申请日:2018-02-28

    Abstract: Es wird ein Verfahren zum Befestigen eines Halbleiterchips (1) auf einem Leiterrahmen (3) angegeben. Das Verfahren umfasst die Verfahrensschritte A) Bereitstellen eines Halbleiterchips (1), B) Aufbringen einer Lotmetall-Schichtenfolge (2) auf den Halbleiterchip (1), C) Bereitstellen eines Leiterrahmens (3), D) Aufbringen einer Metallisierungs-Schichtenfolge (4) auf den Leiterrahmen (3), E) Aufbringen des Halbleiterchips (1) über die Lotmetall-Schichtenfolge (2) und die Metallisierungs-Schichtenfolge (4) auf den Leiterrahmen (3), F) Heizen der unter E) erzeugten Anordnung zur Befestigung des Halbleiterchips (1) auf dem Leiterrahmen (3), wobei die Lotmetall-Schichtenfolge (2) - eine erste metallische Schicht (2a) umfassend Indium oder eine Indium-Zinn-Legierung, - eine über der ersten metallischen Schicht (2a) angeordnete Barrierenschicht (2b) und - eine zwischen der Barrierenschicht (2b) und dem Halbleiterchip (1) angeordnete zweite metallische Schicht (2c) umfassend Gold umfasst.

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