公开(公告)号：WO2022253717A2

公开(公告)日：2022-12-08

申请号：PCT/EP2022/064514

申请日：2022-05-30

Applicant: OVD KINEGRAM AG

Inventor： FRASCHINA, Corrado ,  MADER, Sebastian ,  WALTER, Harald ,  OBERBOSSEL, Gina

IPC: B42D25/328 ,  B42D25/324 ,  B42D25/342 ,  B42D25/351 ,  B42D25/373 ,  B42D25/425

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Funktionselement (2) umfassend zumindest eine erste Reliefstruktur (13) in zumindest einem ersten Bereich (21) und zumindest eine in zumindest einem Teilbereich der zumindest einen ersten Reliefstruktur (13) angeordnete Metallschicht (12) und optional einer bevorzugt polymeren dielektrischen Schicht auf der Seite der Metallschicht (12), welche dem Betrachter zugewandt ist, wobei die zumindest eine erste Reliefstruktur (13) eine periodische Variation in x- und y-Richtung von Erhebungen und Vertiefungen aufweist, wobei die Erhebungen mit einer Gitterperiode Λ aufeinander abfolgen, welche kleiner als eine Wellenlänge des für das menschliche Auge sichtbaren Lichts ist, wobei die Minima der Vertiefungen eine Grundfläche definieren und wobei die zumindest eine erste Reliefstruktur (13) eine Relieftiefe t aufweist. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung oder Modifizierung einer Oberfläche und ein Produkt (1) umfassend ein solches Funktionselement (2).

公开(公告)号：EP4509327A1

公开(公告)日：2025-02-19

申请号：EP24202952.8

申请日：2022-05-30

Applicant: OVD Kinegram AG

Inventor： FRASCHINA, Corrado ,  MADER, Sebastian ,  WALTER, Harald ,  OBERBOSSEL, Gina

IPC: B42D25/328 ,  B42D25/324 ,  B42D25/342 ,  B42D25/351 ,  B42D25/373 ,  B42D25/425

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Funktionselement 2 umfassend zumindest eine erste Reliefstruktur 13 in zumindest einem ersten Bereich 21 und zumindest eine in zumindest einem Teilbereich der zumindest einen ersten Reliefstruktur 13 angeordnete Metallschicht 12 und optional einer bevorzugt polymeren dielektrischen Schicht auf der Seite der Metallschicht 12, welche dem Betrachter zugewandt ist, wobei die zumindest eine erste Reliefstruktur 13 eine periodische Variation in x- und y-Richtung von Erhebungen und Vertiefungen aufweist, wobei die Erhebungen mit einer Gitterperiode Λ aufeinander abfolgen, welche kleiner als eine Wellenlänge des für das menschliche Auge sichtbaren Lichts ist, wobei die Minima der Vertiefungen eine Grundfläche definieren und wobei die zumindest eine erste Reliefstruktur 13 eine Relieftiefe t aufweist. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung oder Modifizierung einer Oberfläche und ein Produkt 1 umfassend ein solches Funktionselement 2.

公开(公告)号：EP4347271A2

公开(公告)日：2024-04-10

申请号：EP22732454.8

申请日：2022-05-30

Applicant: OVD Kinegram AG

Inventor： FRASCHINA, Corrado ,  MADER, Sebastian ,  WALTER, Harald ,  OBERBOSSEL, Gina

IPC: B42D25/328 ,  B42D25/324 ,  B42D25/342 ,  B42D25/351 ,  B42D25/373 ,  B42D25/425