Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Mikrosystems, mit den Schritten: Bereitstellen eines Substrats (2) aus Aluminiumoxid; Herstellen einer Dünnschicht (6) auf dem Substrat (2) durch Abscheiden von Bleizirkonattitanat auf das Substrat (2) mit einem thermischen Abscheideverfahren derart, dass das Bleizirkonattitanat in der Dünnschicht (6) selbstpolarisiert ist und vorwiegend in der rhomboedrischen Phase vorliegt; Abkühlen des Substrats (2) mit der Dünnschicht (6).
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Mikrosystems, mit den Schritten: Bereitstellen eines Substrats (2) aus Aluminiumoxid; Herstellen einer Dünnschicht (6)auf dem Substrat (2)durch Abscheiden von Bleizirkonattitanat auf das Substrat (2) mit einem thermischen Abscheideverfahren derart, dass das Bleizirkonattitanat in der Dünnschicht (6) selbstpolarisiert ist und vorwiegend in der rhomboedrischen Phase vorliegt; Abkühlen des Substrats (2)mit der Dünnschicht (6).
Abstract:
The invention relates to a method for producing a microsystem, comprising the steps of providing a substrate (2) made of aluminum oxide; producing a thin film (6) on the substrate (2) by depositing lead zirconate titanate onto the substrate (2) by means of a thermal deposition method in such a way that the lead zirconate titanate in the thin film (6) is self-polarized and is predominantly in the rhombohedral phase; cooling down the substrate (2) together with the thin film (6).