公开(公告)号：IT1134005B

公开(公告)日：1986-07-24

申请号：IT2553380

申请日：1980-10-23

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  H04N3/12 ,  H01J

公开(公告)号：DE3044966A1

公开(公告)日：1981-09-03

申请号：DE3044966

申请日：1980-11-28

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  H04N3/12 ,  H04N5/14

公开(公告)号：IT1168006B

公开(公告)日：1987-05-20

申请号：IT2300481

申请日：1981-07-17

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  G09G1/20 ,  G09G3/30 ,  H04N3/12 ,  H01J

公开(公告)号：FR2471016A1

公开(公告)日：1981-06-12

申请号：FR8025149

申请日：1980-11-27

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  H04N3/12 ,  G09G1/02

公开(公告)号：DE3128832A1

公开(公告)日：1982-04-08

申请号：DE3128832

申请日：1981-07-21

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  G09G1/20 ,  G09G3/30 ,  H04N3/12 ,  H04N3/18 ,  G06F3/153 ,  G09G1/00 ,  H01J31/20

公开(公告)号：IT8025533D0

公开(公告)日：1980-10-23

申请号：IT2553380

申请日：1980-10-23

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  H04N3/12 ,  H01J

公开(公告)号：DE2539690A1

公开(公告)日：1976-03-25

申请号：DE2539690

申请日：1975-09-06

Applicant: RCA CORP

Inventor： HARRIS DAVID ISAAC ,  JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/022 ,  G03F7/30 ,  G03F7/02

Abstract: The effective sensitivity of a photo- or electron beam resist is improved by contacting the resist film with developer solution and water prior to exposure.

公开(公告)号：GB2110059B

公开(公告)日：1985-07-24

申请号：GB8232531

申请日：1982-11-15

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  G09G1/20 ,  H04N3/12

公开(公告)号：GB2110059A

公开(公告)日：1983-06-08

申请号：GB8232531

申请日：1982-11-15

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  G09G1/20 ,  H04N3/12

公开(公告)号：FR2487116A1

公开(公告)日：1982-01-22

申请号：FR8114087

申请日：1981-07-20

Applicant: RCA CORP

Inventor： JOHNSTON LOREN BAINUM

IPC: H04N5/68 ,  G09G1/20 ,  G09G3/30 ,  H04N3/12 ,  H01J17/49 ,  H01J3/08