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公开(公告)号：WO2007070004A3
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/SE2006050582
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB , KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
IPC: A61B5/042 , A61B5/151 , A61B5/153 , A61M5/158 , A61M25/06 , A61M37/00 , A61N1/18 , G01N33/483 , G01R1/073
CPC classification number: A61M37/0015 , A61B5/053 , A61B5/150022 , A61B5/150282 , A61B5/150984 , A61M2037/003 , A61M2037/0046 , A61M2037/0053 , A61N1/0502 , A61N1/0551 , H01L2224/48091 , H01L2224/8592 , H01L2924/00014
Abstract: The invention relates in a general aspect to a method of making vertically protruding elements on a substrate, said elements having a tip comprising at least one inclined surface and an elongated body portion extending between said substrate and said tip. The method comprises an anisotropic, crystal plane dependent etch forming said inclined surface(s); and an anisotropic, non crystal plane dependent etch forming said elongated body portion; combined with suitable patterning processes defining said protruding elements to have a predetermined base geometry.
Abstract translation: 本发明在总体方面涉及一种在衬底上制造垂直突出元件的方法，所述元件具有包括至少一个倾斜表面的尖端和在所述衬底和所述尖端之间延伸的细长主体部分。 该方法包括形成所述倾斜表面的各向异性，依赖于晶面的蚀刻; 以及形成所述细长主体部分的各向异性非晶体平面依赖蚀刻; 结合限定所述突出元件以具有预定基部几何形状的适当图案化工艺。
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公开(公告)号：EP1962679A4
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：EP06824640
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
CPC classification number: A61M37/0015 , A61B5/053 , A61B5/150022 , A61B5/150282 , A61B5/150984 , A61M2037/003 , A61M2037/0046 , A61M2037/0053 , A61N1/0502 , A61N1/0551 , H01L2224/48091 , H01L2224/8592 , H01L2924/00014
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公开(公告)号：SE532576C2
公开(公告)日：2010-02-23
申请号：SE0602717
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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公开(公告)号：SE0602717L
公开(公告)日：2007-06-15
申请号：SE0602717
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：SE534509C2
公开(公告)日：2011-09-13
申请号：SE0950857
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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公开(公告)号：SE0950857L
公开(公告)日：2007-06-15
申请号：SE0950857
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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公开(公告)号：AT552775T
公开(公告)日：2012-04-15
申请号：AT06824640
申请日：2006-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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公开(公告)号：SE531049C2
公开(公告)日：2008-12-02
申请号：SE0502760
申请日：2005-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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公开(公告)号：SE0502760L
公开(公告)日：2007-06-15
申请号：SE0502760
申请日：2005-12-14
Applicant: SILEX MICROSYSTEMS AB
Inventor： KAELVESTEN EDVARD , EBEFORS THORBJOERN , CORMAN THIERRY
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