公开(公告)号：EP0797763A4

公开(公告)日：1999-03-24

申请号：EP95943768

申请日：1995-12-08

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： NIKOONAHAD MEHRDAD ,  STOKOWSKI STANLEY E

IPC: G01B11/30 ,  G01B11/02 ,  G01N21/88 ,  G01N21/94 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G01R31/28 ,  G01R31/308 ,  G06T1/00 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66 ,  G01N21/00

CPC classification number: G01N21/95623 ,  G01N21/94 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8825 ,  G01R31/2831 ,  G01R31/308 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: A high sensitivity and high throughput surface inspection system directs a focused beam of light (38) at a grazing angle towards the surface to be inspected (40). Relative motion is caused between the beam (38) and the surface (40) so that the beam (38) scans a scan path covering substantially the entire surface and light scattered along the path is collected for detecting anomalies. The scan path comprises a plurality of arrays of straight scan path segments. The focused beam of light (38) illuminates an area of the surface between 5-15 microns in width and this system is capable of inspecting in excess of about 40 wafers per hour for 150 millimeter diameter wafers (6-inch wafers), in excess of about 20 wafers per hour for 200 millimeter diameter wafers (8-inch wafers) and in excess of about 10 wafers per hour for 300 millimeter diameter wafers (12-inch wafers).

Abstract translation: 一种用于检测表面（40）上的异常（例如颗粒或图案缺陷）的光学系统，包括：光学器件（22,26,34,36），其布置成提供以倾斜角照射表面的辐射束（38） ; 至少两个检测器（110a，110b，111a，111b）; 布置成收集从表面散射的辐射的至少两个光学元件（110a，110b，111a，111b），每个光学元件布置成将所收集的散射辐射引导到相应的一个检测器，使得检测器提供输出信号 响应于此，其中光学元件被定位成使得每个检测器感测从表面沿不同方向散射的辐射; 一种装置，包括使所述梁和所述表面之间相对运动的移动台（124）; 以及处理器（200）处理来自所述检测器输出信号的信息，所述信号涉及从所述检测器的不同方向从所述表面的不同部分散射的辐射，并且被布置为识别异常; 所述装置还包括声光偏转器（30），使得每个移动台和声光偏转器引起光束和表面之间的相对运动，使得光束扫描覆盖基本上整个表面的扫描路径，所述扫描路径 所述扫描路径段包括扫描路径段（50,50'，50“，50”）的多个阵列，其中所述扫描路径段中的至少一些具有比所述表面（40）的尺寸短的跨度，并且因此 使光束照射表面的不同部分，并且使得检测器响应于由光束照射的表面的不同部分的辐射而提供输出信号。