unidade de microeletrônica, conjunto microeletrônica, métodos de fabricação de uma microeletrônicas, e, sistemas.

    公开(公告)号:BR112013001774A2

    公开(公告)日:2016-05-31

    申请号:BR112013001774

    申请日:2010-10-15

    Applicant: TESSERA INC

    Abstract: unidade de microeletrônica, conjunto microeletrônico, métodos de fabricação de uma unidade de microeletrônica e de fabricação de um conjunto empilhado de unidades microeletrônicas, e, sistema. é divulgada uma unidade de microeletrônica que inclui uma estrutura de suporte com uma superfície frontal, uma superfície traseira remota em relação à superfície frontal, e um rebaixo com uma abertura na superfície frontal e uma superfície interna localizada abaixo da superfície frontal da estrutura de suporte. a unidade de microeletrônica pode incluir um elemento microeletrônico com uma superfície de base adjacente à superfície interna, uma superfície de topo remota em relação à superfície de base e uma pluralidade de contatos na superfície de topo. o elemento microeletrônico pode incluir terminais eletricamente conectados nos contatos do elemento microeletrônico. a unidade de microeletrônico pode incluir uma região dielétrica que contata pelo menos a superfície de topo do elemento microeletrônico. a região dielétrica pdoe ter uma superfície plana localizadacoplanar em relação à superfície frontal da estrutura de suporte, ou acima dela. os terminais podem ficar expostos na superfície da região dielétrica para interconexão com um elemento externo.

    LOW-STRESS VIAS
    6.
    发明申请
    LOW-STRESS VIAS 审中-公开
    低应力VIAS

    公开(公告)号:WO2013019541A4

    公开(公告)日:2013-05-30

    申请号:PCT/US2012048288

    申请日:2012-07-26

    Abstract: A component 10 can include a substrate 20 having a front surface 22 and a rear surface 21 remote therefrom, an opening 30 extending from the rear surface towards the front surface, and a conductive via 40 extending within the opening. The substrate 20 can have a CTE less than 10 ppm/°C. The opening 30 can define an inner surface 31 between the front and rear surfaces 22, 21. The conductive via 40 can include a first metal layer 41 overlying the inner surface 31 and a second metal region 42 overlying the first metal layer and electrically coupled to the first metal layer. The second metal region 42 can have a CTE greater than a CTE of the first metal layer 41. The conductive via 40 can have an effective CTE across a diameter D of the conductive via that is less than 80% of the CTE of the second metal region 42.

    Abstract translation: 部件10可以包括具有前表面22和远离其的后表面21的基板20,从后表面朝向前表面延伸的开口30以及在开口内延伸的导电通孔40。 基板20可以具有小于10ppm /℃的CTE。 开口30可以在前表面22和后表面21之间限定内表面31.导电通孔40可以包括覆盖在内表面31上的第一金属层41和覆盖第一金属层的第二金属区域42,并且电耦合到 第一个金属层。 第二金属区域42可以具有大于第一金属层41的CTE的CTE。导电通孔40可以具有穿过导电通孔的直径D的有效CTE,其小于第二金属的CTE的80% 区域42。

    LOW-STRESS VIAS
    7.
    发明申请
    LOW-STRESS VIAS 审中-公开
    低压力VIAS

    公开(公告)号:WO2013019541A3

    公开(公告)日:2013-04-18

    申请号:PCT/US2012048288

    申请日:2012-07-26

    Abstract: A component 10 can include a substrate 20 having a front surface 22 and a rear surface 21 remote therefrom, an opening 30 extending from the rear surface towards the front surface, and a conductive via 40 extending within the opening. The substrate 20 can have a CTE less than 10 ppm/°C. The opening 30 can define an inner surface 31 between the front and rear surfaces 22, 21. The conductive via 40 can include a first metal layer 41 overlying the inner surface 31 and a second metal region 42 overlying the first metal layer and electrically coupled to the first metal layer. The second metal region 42 can have a CTE greater than a CTE of the first metal layer 41. The conductive via 40 can have an effective CTE across a diameter D of the conductive via that is less than 80% of the CTE of the second metal region 42.

    Abstract translation: 部件10可以包括具有远离其的前表面22和后表面21的基板20,从后表面向前表面延伸的开口30以及在开口内延伸的导电通孔40。 衬底20可具有小于10ppm /℃的CTE。 开口30可以在前表面22和后表面21之间限定内表面31.导电通孔40可以包括覆盖内表面31的第一金属层41和覆盖第一金属层的第二金属区域42, 第一金属层。 第二金属区域42可以具有大于第一金属层41的CTE的CTE。导电通孔40可以在导电通孔的直径D上具有小于第二金属的CTE的80%的有效CTE 区域42。

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