公开(公告)号：WO2015150142A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：PCT/EP2015/056097

申请日：2015-03-23

Applicant: THALES

Inventor： REGNARD, Guillaume ,  DARGES, Bernard ,  PONARD, Pascal

IPC: B01D53/32 ,  B01D53/79

CPC classification number: B01D53/323 ,  B01D53/79 ,  B01D2257/2045 ,  B01D2257/2066 ,  B01D2257/302 ,  B01D2257/304 ,  B01D2257/404 ,  B01D2257/406 ,  B01D2257/504 ,  B01D2257/708 ,  B01D2258/0216 ,  B01D2259/818 ,  Y02C20/30

Abstract: L'invention concerne un dispositif de conversion d'un flux de gaz comprenant au moins une espèce polluante à traiter (CF 4 ), caractérisé en ce qu'il comprend une première chambre de plasma (21) munie d'une source de plasma (24) et au moins une seconde chambre de plasma (22) munie d'une source de plasma (26), successivement traversées par le flux de gaz; la première source de plasma (24) étant configurée pour générer un premier plasma capable de dissocier par ionisation au moins partiellement l'au moins une espèce polluante à traiter (CF 4 ); l'au moins une seconde chambre de plasma (22) comprenant des moyens d'injection (28) d'un réactif (H 2 O) participant, au sein d'un second plasma générée par la seconde source (26), à la conversion de l'au moins une espèce polluante au moins partiellement dissociée par le premier plasma. Avantageusement, les moyens d'injection (28) sont configurés pour permettre d'injecter le réactif ((H 2 O) directement dans le second plasma.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于转换含有待处理的至少一种污染化学物质（CF4）的气流的装置，其特征在于，其包括设置有等离子体源（24）的第一等离子体室（21）和至少一个第二 设置有等离子体源（26）的等离子体室（22），所述室具有连续通过的气流; 第一等离子体源（24）被配置为产生能够至少部分地通过电离分解待处理的至少一种污染化学物质（CF4）的第一等离子体; 并且所述至少一个第二等离子体室（22）包括用于注入在所述第二源（26）产生的第二等离子体中有助于所述至少一种污染化学物质在 最少部分地被第一等离子体分解。 有利地，注射装置（28）被配置为使得可以将试剂（H 2 O）直接注入到第二等离子体中。

公开(公告)号：WO2014184357A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：PCT/EP2014/060116

申请日：2014-05-16

Applicant: THALES ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  UNIVERSITE JOSEPH FOURIER

Inventor： PELLETIER, Jacques ,  PONARD, Pascal ,  LACOSTE, Ana ,  BES, Alexandre ,  REGNARD, Guillaume ,  DARGES, Bernard ,  PEILLEX-DELPHE, Guy

IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32 ,  H01P7/04

CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32211 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32311 ,  H01P5/04 ,  H01P7/04 ,  H05H2001/4682

Abstract: Selon l'invention, il est proposé un générateur d'un plasma dans une enceinte sous vide comprenant au moins un générateur élémentaire débouchant dans l'enceinte, le générateur élémentaire comprenant : - un générateur de micro-ondes, - un adaptateur d'impédance s'étendant selon une direction coaxiale, l'adaptateur étant configuré pour adapter l'impédance du plasma à l'impédance du générateur de micro-ondes et pour assurer la protection du générateur de micro-ondes, le générateur de micro-ondes étant situé dans le prolongement de l'adaptateur et connecté directement à l'adaptateur.

Abstract translation: 本发明涉及一种真空室中的等离子体发生器，其包括至少一个基本发生器，该基本发生器通向腔室，该基本发生器包括： - 微波发生器， - 在同轴方向上延伸的阻抗适配器，该适配器被配置成使 等离子体到微波发生器的阻抗并保护微波发生器，微波发生器位于适配器的延伸部分并直接连接到适配器上。

公开(公告)号：WO2019011997A1

公开(公告)日：2019-01-17

申请号：PCT/EP2018/068815

申请日：2018-07-11

Applicant: THALES

Inventor： PONARD, Pascal

IPC: H01J35/16 ,  H01J35/08 ,  H01J35/14

Abstract: L'invention concerne une source génératrice de rayons ionisants et en particulier de rayons X, un ensemble comprenant plusieurs sources et un procédé de réalisation de la source. La source comprend : · une enceinte à vide (12), · une cathode pouvant émettre un faisceau d'électrons (18) dans l'enceinte à vide (12), le faisceau d'électrons (18) se développant autour d'un axe (19), · une anode (76) recevant le faisceau d'électrons (18) et comprenant une cible (20) pouvant générer un rayonnement ionisant (22) à partir de l'énergie reçu du faisceau d'électrons (18), le rayonnement ionisant (22) étant généré vers l'extérieur de l'enceinte à vide (12), l'anode (76) comprend une cavité (80) dans laquelle le faisceau d'électrons (18) est destiné à pénétrer pour atteindre la cible (20) et les parois (88, 90) de la cavité (80) forment une cage de faraday entourant des ions parasites (91) pouvant être émis par la cible (20) à l'intérieur de l'enceinte à vide (12); au moins un sorbeur (92) distinct des parois (88, 90) de la cavité (80) et destiné à piéger les ions parasites (91) est disposé dans la cavité (80).

公开(公告)号：WO2015059250A1

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：PCT/EP2014/072795

申请日：2014-10-23

Applicant: THALES ,  COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES

Inventor： MAZELLIER, Jean-Paul ,  DELFAURE, Colin ,  PONARD, Pascal ,  SAADA, Samuel ,  TRANCHANT, Nicolas

IPC: H01J35/18 ,  G01T1/00

CPC classification number: H01J35/18 ,  G01T1/26 ,  H01J35/065 ,  H01J2235/18 ,  H05G1/26

Abstract: L'invention se situe dans le domaine des tubes à rayons X et concerne l'intégration d'un capteur de flux de rayons X (21) dans le tube. Selon l'invention, un tube générateur de rayons X comprend une enceinte à vide avec une cathode et une anode placées dans l'enceinte à vide, la cathode émet un faisceau électronique en direction de l'anode, l'anode comporte une cible émettant un rayonnement X lorsqu'elle est impactée par le faisceau électronique, le rayonnement X se propage hors de l'enceinte à vide en traversant la paroi de l'enceinte par une fenêtre de transmission (30) à base de diamant. Selon l'invention, un capteur de rayons X à base de diamant est intégré sur la fenêtre de transmission à base de diamant.

Abstract translation: 本发明涉及X射线管的领域，涉及将X射线流量传感器（21）并入管中。 根据本发明，X射线发生器管包括含有阴极和阳极的真空室，阴极将电子束朝向阳极发射，阳极包括当被电子束撞击时发射X射线的靶， X射线从真空室传播出来，通过基于钻石的透射窗（30）穿过腔室的壁。 根据本发明，基于钻石的透射窗内装有基于金刚石的X射线传感器。

公开(公告)号：WO2019011993A1

公开(公告)日：2019-01-17

申请号：PCT/EP2018/068811

申请日：2018-07-11

Applicant: THALES

Inventor： PONARD, Pascal

IPC: H01J35/06 ,  H01J35/16 ,  H01J5/46

Abstract: L'invention concerne une source génératrice de rayons ionisants et en particulier de rayons X, un ensemble comprenant plusieurs sources et un procédé de réalisation de la source. La source comprend : · une enceinte à vide (12), · une cathode (14) pouvant émettre un faisceau d'électrons (18) dans l'enceinte (12), · une anode (16) recevant le faisceau d'électrons et comprenant une cible (20) pouvant générer un rayonnement ionisant (22) à partir de l'énergie reçu du faisceau d'électrons (18), · une électrode (24) disposée au voisinage de la cathode (14) et permettant de focaliser le faisceau d'électrons (18), · un bouchon (32) assurant l'étanchéité de l'enceinte à vide (12), · une pièce mécanique (28) réalisée en matériau diélectrique et formant une partie de l'enceinte à vide; le bouchon (32) est fixé à la pièce mécanique (28) au moyen d'un film de brasure (42) conducteur utilisé pour raccorder électriquement l'électrode (24).

公开(公告)号：WO2018083194A1

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：PCT/EP2017/078091

申请日：2017-11-02

Applicant: THALES

Inventor： PONARD, Pascal ,  BOURAT, Christophe

IPC: H01J35/16 ,  H01B3/12 ,  C04B35/10

Abstract: Isolant électrique à base de céramique d'alumine, procédé de réalisation de l'isolant et tube à vide comprenant l'isolant L'invention concerne un isolant électrique à base de céramique d'alumine, un procédé de réalisation de l'isolant et un tube à vide comprenant l'isolant. L'isolant électrique est destiné à isoler deux électrodes d'un tube à vide dans lequel circule un faisceau de particules chargées, l'isolant électrique étant formé d'une céramique à base d'alumine. Selon l'invention, la céramique comprend une phase vitreuse comprise entre 2% et 8% en masse dans laquelle au moins un oxyde métallique est diffusé à partir d'une face (20) de l'isolant électrique.

Abstract translation: ＆lt; p num =“0000”>电绝缘＆amp; 陶瓷基地氧化铝，继续 绝缘和管道 本发明涉及一种电绝缘体，其包括： 陶瓷氧化铝基地，一个过程 绝缘和管子; 包括绝缘体的真空。 电绝缘是为了使用 ＆Agrave; 从管中隔离两个电极 其中带电粒子束流动的真空，形成电绝缘; 的陶瓷 氧化铝基。 根据本发明，陶瓷包含按重量计在2％和8％之间的玻璃相，其中至少一种金属氧化物被扩散。 ＆Agrave; 从电绝缘的一侧（20）开始。

公开(公告)号：WO2012049428A9

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：PCT/FR2011/052385

申请日：2011-10-13

Applicant: THALES ,  BONDAVALLI, Paolo ,  GORINTIN, Louis ,  LEGAGNEUX, Pierre ,  PONARD, Pascal

Inventor： BONDAVALLI, Paolo ,  GORINTIN, Louis ,  LEGAGNEUX, Pierre ,  PONARD, Pascal

IPC: B05D1/12 ,  B05D7/16 ,  B82Y40/00

Abstract: Procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface et appareil de dépôt de nanoparticules correspondant Dans ce procédé de dépôt de nanoparticules, on pulvérise une suspension de nanoparticules en solution dans un liquide sur la surface (4) du support (6) en formant au moins un jet (20) de pulvérisation en déplaçant la zone d'impact (22) du ou de chaque jet pendant la pulvérisation de façon à pulvériser la suspension suivant au moins une bande.

公开(公告)号：WO2010139740A2

公开(公告)日：2010-12-09

申请号：PCT/EP2010/057734

申请日：2010-06-02

Applicant: THALES ,  ECOLE POLYTECHNIQUE ,  ROBERT, Cédric ,  LEGAGNEUX, Pierre ,  PONARD, Pascal ,  ANDRE, Frédéric ,  COJOCARU, Costel Sorin ,  SCHNELL, Jean-Philippe

Inventor： ROBERT, Cédric ,  LEGAGNEUX, Pierre ,  PONARD, Pascal ,  ANDRE, Frédéric ,  COJOCARU, Costel Sorin ,  SCHNELL, Jean-Philippe

IPC: H01J1/304

CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J2201/30415 ,  H01J2201/30434 ,  H01J2201/30469

Abstract: Le domaine général de l'invention est celui des cathodes électroniques de type « cathode froide » comprenant un substrat plan (2) électriquement conducteur et un émetteur comportant une pointe (1) de diamètre micrométrique ou nanométrique disposée verticalement au-dessus de la surface du substrat. La cathode selon l'invention comporte une et une seule électrode annulaire (6) isolée électriquement du substrat par une couche d'isolant (3) et centrée sur l'émetteur, la source comportant des moyens permettant d'appliquer une différence de potentiel de plusieurs dizaines de volts entre le substrat et l'électrode annulaire, suffisante pour provoquer l'émission d'un faisceau électronique à la pointe de l'émetteur, l'électrode annulaire étant de dimension suffisante pour assurer la focalisation dudit faisceau électronique. Une source de faisceau électronique peur comporter une pluralité de cathodes identiques agencées selon un motif particulier.

Abstract translation: 本发明一般涉及“冷阴极”电子阴极领域，包括导电平面基底（2）和发射体，其包括垂直于基底表面布置的具有微米或纳米直径的末端（1）。 根据本发明的阴极包括通过绝缘层（3）与衬底电绝缘并以发射器为中心的单个环形电极（6），源极包括用于在衬底和衬底之间施加几十伏特的电位差的装置 环形电极足以引起来自发射器尖端的电子束的发射，环形电极足够大以聚焦所述电子束。 电子束的源可以包括以特定图案布置的多个相同的阴极。

公开(公告)号：EP2232520A1

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：EP09703777.4

申请日：2009-01-23

Applicant: THALES

Inventor： LEGAGNEUX, Pierre ,  HUDANSKI, Ludovic ,  PONARD, Pascal ,  BOURAT, Christophe ,  SCHNELL, Jean-Philippe

IPC: H01J35/06

CPC classification number: H01J35/065 ,  H01J2235/062 ,  H01J2235/068

Abstract: The invention relates to a radiogenic source comprising a vacuum chamber (50), means (56h) for injecting an optical wave (56i), a cold source (52), enabling electrons (52i) to be emitted in the vacuum by field emission when it is subjected to a field, a power supply (55) delivering a high electrical voltage, an anode (53) comprising a material (53j) capable of emitting X-rays (53i) under the effect of electron bombardment, and at least one window (54) through which the X-rays exit, at least one light source (56) delivering said optical wave, characterized in that the cold source comprises at least one substrate (57) provided with at least one conducting surface (55) and is subjected to an electric field resulting from applying the high voltage between at least one conducting surface (55) and the anode (53), said cold source further including at least one photoconductive element (58) in which the current is controlled substantially linearly by the illumination and at least one electron emitter element (59), said photoconductive element (58) being electrically connected in series between at least one emitter element (59) and a conducting surface (55), so that the current photogenerated in the photoconductive device is equal to that emitted by the emitter or the group of emitters with which it is associated, and so that the emitted X-ray flux is substantially linearly dependent on the illumination.

公开(公告)号：WO2019011980A1

公开(公告)日：2019-01-17

申请号：PCT/EP2018/068779

申请日：2018-07-11

Applicant: THALES

Inventor： PONARD, Pascal

IPC: H01J35/14 ,  H01J35/06

Abstract: L'invention concerne une source génératrice de rayons ionisants et en particulier de rayons X, un ensemble comprenant plusieurs sources et un procédé de réalisation de la source. La source génératrice de rayons ionisants comprend : · une enceinte à vide (12), · une cathode (14) pouvant émettre un faisceau d'électrons (18) dans l'enceinte à vide (12), · une anode (16) recevant le faisceau d'électrons (18) et comprenant une cible (20) pouvant générer un rayonnement ionisant (22) à partir de l'énergie reçu du faisceau d'électrons (18), · une électrode (24) disposée au voisinage de la cathode (14) et formant un wehnelt. Selon l'invention, l'électrode (24) est formée d'une surface conductrice adhérant à une face concave (26) d'un matériau diélectrique.