公开(公告)号：WO2009024669A2

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：PCT/FR2008/000946

申请日：2008-07-02

Applicant: XENOCS SA ,  HOGHOJ, Peter ,  BOULEE, Pascal ,  NTOVA, Paraskevi ,  RODRIGUES, Sergio

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  BOULEE, Pascal ,  NTOVA, Paraskevi ,  RODRIGUES, Sergio

IPC: H01J35/10 ,  H01J35/14 ,  H01J35/02 ,  H01J37/00 ,  H05G1/02 ,  G21K1/00 ,  G01N23/00 ,  G01B15/00

CPC classification number: H01J35/10 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  H01J35/14 ,  H01J35/20

Abstract: La présente invention concerne le domaine de l'instrumentation analytique par rayons X (RX). Elle concerne plus précisément un dispositif de délivrance d'un faisceau de rayons X à haute énergie, typiquement supérieure à 4 keV, pour des applications analytiques par rayons X.

Abstract translation: 本发明涉及X射线分析仪器（RX），更准确地说，一种用于提供通常高于4keV的高能X射线束用于X射线分析应用的装置。

公开(公告)号：WO2002097486A2

公开(公告)日：2002-12-05

申请号：PCT/FR2002/001831

申请日：2002-05-31

Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter

Inventor： HOGHOJ, Peter

IPC: G02B5/26

CPC classification number: G02B5/0883 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/26 ,  G02B5/283 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/06

Abstract: L'invention concerne selon un premier aspect un ensemble optique réflectif multicouche destiné à réfléchir des rayons X sous faible angle d'incidence en produisant un effet optique bidimensionnel, l'ensemble optique comportant: . un composant présentant une surface réféchissante conformée de manière à produire un premier effet optique selon une première direction de l'espace, . ansi que des moyens permettant de produire un deuxième effet optique selon une deuxième direction de l'espace, différente de la première direction, caractérisé en ce que lesdits moyens permettant de produire un deuxième effet optique sont portés par ladite surface réfléchissante. L'invention propose selon un second aspect un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique.

Abstract translation: 本发明的一个方面涉及一种用于以低入射角反射X射线的多层反射光学系统，产生二维光学效应。 本发明的光学系统包括：具有反射的表面的部件，使得根据空间中的第一方向产生第一光学效应; 以及用于根据与第一方向不同的空间中的第二方向产生第二光学效果的装置，其特征在于，所述用于产生第二光学效果的装置由反射表面承担。 本发明的第二方面涉及一种用于生产所述光学系统的方法。

公开(公告)号：WO2004001770A1

公开(公告)日：2003-12-31

申请号：PCT/FR2003/001896

申请日：2003-06-19

Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter ,  DARIEL, Aurélien ,  RODRIGUES, Sergio

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  DARIEL, Aurélien ,  RODRIGUES, Sergio

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: La présente invention concerne un ensemble optique réflectif multicouche (10) à gradient latéral dont la surface réfléchissante est destinée à réfléchir des rayons X incidents sous faible angle d'incidence en produisant un effet optique bidimensionnel, caractérisé par le fait que ladite surface réfléchissante est constituée d'une surface unique, ladite surface réfléchissante étant conformée selon deux courbures correspondant à deux directions différentes. La présente invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique, caractérisé en ce que le procédé comprend le revêtement d'un substrat présentant déjà une courbure, et la courbure de ce substrat selon une deuxième direction différente. L'invention concerne enfin un dispositif de génération et de conditionnement de rayons X pour des applications de réflectométrie RX dispersive en angle comprenant un ensemble optique tel que mentionné ci-dessus couplé à une source rayons X de telle sorte que les rayons X émis par la source sont conditionnés en deux dimensions afin d'adapter le faisceau émis par la source à destination d'un échantillon, les rayons X ayant des angles d'incidences différents sur l'échantillon considéré.

Abstract translation: 本发明涉及具有横向梯度的多层反射光学单元（10），其反射表面用于反射以锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述 反射表面由单个表面组成，并且所述反射表面在两个不同方向上成形为两条曲线。 本发明还涉及一种用于生产这种光学单元的方法，其特征在于该方法包括在第二不同方向涂覆已经具有曲线的基板和基板的弯曲。 还公开了一种用于生成和处理用于RX角色散反射测量的X射线的装置，包括如上所述的光学单元，其耦合到X射线源，使得由源发射的X射线在二维处理 为了使源发射的光束适应于样品，X射线具有在考虑的样品上不同的入射角。

公开(公告)号：WO2002097485A2

公开(公告)日：2002-12-05

申请号：PCT/FR2002/001830

申请日：2002-05-31

Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter

Inventor： HOGHOJ, Peter

IPC: G02B5/26

CPC classification number: G02B5/0883 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/26 ,  G02B5/283 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/06

Abstract: L'invention concerne selon un premier aspect un procédé d'altération des propriétés réflectives de régions désirées d'une structure multicouche (30) destinée à être exposée à un rayonnement de longueur d'onde donnée et à modifier de manière désirée ledit rayonnement par réflexion, ledit procédé d'altération mettant en oeuvre l'exposition de la structure à un faisceau (20) énergétique, caractérisé en ce que le procédé comprend le contrôle de l'exposition des régions désirées de la structure multicouche audit faisceau de particules, de manière à déplacer de manière désirée dans le spectre de longueur d'onde la valeur du pic de réflectivité de chaque région de la structure. L'invention concerne selon un second aspect un masque réflectif de lithographie, un miroir pour rayons X, réalisés par un tel procédé, et l'utilisation de ce procédé pour rectifier les propriétés optiques d'une structure multicouche.

Abstract translation: 本发明的一个方面涉及一种用于改变暴露于给定波长值的辐射的多层结构（30）的期望区域的反射性质的方法，并且以期望的方式通过以下方式改变所述辐射： 反射，所述改变方法包括将多层结构的期望区域暴露于能量束（20），其特征在于，本发明的方法包括控制多层结构的期望区域对梁的曝光 的颗粒，由此可以在波长谱内以期望的方式移动结构的每个区域的反射率峰值。 本发明的第二方面涉及除了使用用于整流多层结构的光学特性的方法之外，根据所述方法执行的用于X射线的反射光刻掩模和反射镜。

公开(公告)号：WO2022248471A1

公开(公告)日：2022-12-01

申请号：PCT/EP2022/064053

申请日：2022-05-24

Applicant: XENOCS SAS

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  JOENSEN, Karsten ,  PANINE, Pierre

IPC: G01N23/20008 ,  G01N23/201 ,  G21K5/10

Abstract: The invention refers to an X-ray scattering apparatus (10), comprising: - a sample vacuum chamber (26); - a sample holder (20) placed inside the sample vacuum chamber (26) for aligning and/or orienting a sample (18) to be analyzed by X-ray scattering; - an X-ray beam delivery system (11) comprising a 2D X-ray source and a 2D monochromator and being arranged upstream of the sample holder (20) for generating and directing an X-ray beam along a beam path in a propagation direction (Y) towards the sample holder (20); - an X-ray detector (22), placed inside a diffraction chamber connected to the sample vacuum chamber (26), wherein the X-ray detector (22) is arranged downstream of the sample holder (20) and is movable, in particular in a motorized way, along the propagation direction such as to detect the X-ray beam and X-rays scattered at different scattering angles from the sample (18); - wherein the X-ray beam delivery system (11) is configured to focus the X-ray beam onto a focal spot on or near the X-ray detector (22) when placed at its distal position having the largest distance from the sample holder (20) or to produce a parallel beam, - a Bonse Hart monochromator module (12) positioned upstream of the sample holder (20) and being equipped with a motorized monochromator holder; - a Bonse Hart analyzer module (14) positioned downstream of the sample holder (20) and being equipped with a motorized analyzer holder (14a); wherein both the motorized monochromator holder and the motorized analyzer holder (14a) are configured such as to simultaneously position their respective modules (12, 14) in an active position in the X-ray beam for USAXS measurements and in an inactive position out of the X-ray beam for SAXS measurements, characterized in that the X-ray scattering apparatus (10) furthermore comprises a storage chamber (32) integral with or connected to the sample vacuum chamber (26) and/or the diffraction chamber, and that the motorized analyzer holder (14a) is furthermore configured to position the Bonse Hart analyzer module (14) in a storage position in the storage chamber (32). The invention furthermore refers to an X-ray scattering method carried out using the X-ray scattering apparatus.

公开(公告)号：WO2008012419A3

公开(公告)日：2008-01-31

申请号：PCT/FR2007/001252

申请日：2007-07-20

Applicant: XENOCS ,  BOULEE, Pascal ,  CENDA, Dan Mihai ,  HOGHOJ, Peter

Inventor： BOULEE, Pascal ,  CENDA, Dan Mihai ,  HOGHOJ, Peter

IPC: G21K1/04 ,  H05G1/02 ,  G01N23/223

Abstract: L'invention concerne un système (1) de délivrance de faisceau de rayons X comprenant un bloc source (100) émettant un faisceau source de rayons X, des moyens de conditionnement (500) permettant de conditionner le faisceau source en direction d'un échantillon. Le système (1) comporte des moyens de stabilisation (800) agencés de manière à stabiliser thermiquement une zone du système (1) située en aval du bloc source (100), pour limiter des transferts thermiques vers les moyens de conditionnement en vue de prévenir des perturbations thermiques au niveau des moyens de conditionnement (500).

公开(公告)号：WO2006040613A1

公开(公告)日：2006-04-20

申请号：PCT/IB2004/003574

申请日：2004-10-13

Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter ,  PARASKEVI, Dova ,  MONTCALM, Claude ,  RODRIGUES, Sergio

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  PARASKEVI, Dova ,  MONTCALM, Claude ,  RODRIGUES, Sergio

IPC: C23C14/46

CPC classification number: C23C14/46 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/68

Abstract: The invention relates to a dual Ion Beam Sputtering method for depositing onto a substrate (S) material generated by the sputtering of a target (121-123) by a sputtering ion beam (110), said method comprising the operation of an assistance ion beam (130) directed onto said substrate in order to assist the deposition of material, said method being characterized in that during the operation of said assistance beam said sputtering beam is also operated in association with said assistance beam, and during said operation of the sputtering beam in association with the assistance beam the sputtering beam crosses a desired part of the assistance beam in order to transport contaminants associated to said desired part of the assistance beam away from said substrate.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于沉积到通过溅射离子束（110）溅射靶（121-123）而产生的衬底（S）上的双离子束溅射方法，所述方法包括辅助离子束 （130），以便辅助沉积材料，所述方法的特征在于，在所述辅助束的操作期间，所述溅射束还与所述辅助光束相关联地操作，并且在溅射束的所述操作期间 与辅助束相关联，溅射束与辅助光束的期望部分交叉，以便将与所述辅助光束的所需部分相关联的污染物输送离开所述衬底。

公开(公告)号：WO2011086191A1

公开(公告)日：2011-07-21

申请号：PCT/EP2011/050568

申请日：2011-01-18

Applicant: XENOCS ,  PANINE, Pierre ,  HOGHOJ, Peter

Inventor： PANINE, Pierre ,  HOGHOJ, Peter

IPC: G01N23/201

CPC classification number: G01N23/201

Abstract: L'invention concerne un dispositif de délivrance d'un faisceau de rayons-X pour l'analyse d'un échantillon (50), comprenant : - un bloc source (100) comprenant des moyens d'émission de rayons-X; - un bloc optique (200) placé en aval du bloc source (100), ledit bloc optique (200) comprenant un composant optique monochromateur (210) ayant une surface réfléchissante (212) prévue pour conditionner des rayons-X émis par le bloc source (100) selon un effet optique monodimensionnel ou bidimensionnel; et - des moyens de définition (300) des rayons-X comprenant : o un organe (310) anti-diffusant de délimitation spatiale des rayons-X conditionnés par le composant optique monochromateur (210), placé en aval du composant optique monochromateur (210) et comprenant une ou plusieurs plaques (311) ayant des portions (313) agencées pour former un orifice de délimitation (312), lesdites portions (313) étant revêtues d'un matériau monocristallin limitant la diffusion de rayons-X; o un organe (320) de coupure des rayons-X émis par le bloc source (100), comprenant des moyens d'absorption de rayons-X agencés dans le dispositif de délivrance pour couper les faisceaux directs de rayons-X susceptibles d'atteindre l'organe (310) anti-diffusant de délimitation spatiale sans conditionnement par le composant optique monochromateur (210).

Abstract translation: 本发明涉及一种用于传送用于分析样品（50）的X射线束的装置，包括：源单元（100），包括X射线发射装置; 设置在所述源块（100）下游的光学单元（200），所述光学块（200）包括光学单色仪部件（210），所述光学单色仪部件具有被设计成调节由所述源单元发射的X射线的反射表面（212） 100）使用一维或二维光学效应; 和X射线定义装置（300），包括：准直构件（310），用于空间地限定由光学单色仪部件（210）调节的X射线，设置在光学单色仪部件（210）的下游，并且包括一个或多个板 （311），其具有布置成形成限定孔（312）的部分（313），所述部分（313）涂覆有限制X射线扩散的单晶材料; 用于由所述源单元（100）发射的X射线的切断构件（320），包括布置在所述输送装置中的X射线吸收装置，以切断易于到达所述空间定界准直构件（310）的直接X射线束 ），而不用光学单色器部件（210）进行调理。

公开(公告)号：WO2007135183A1

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：PCT/EP2007/055034

申请日：2007-05-24

Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter ,  RODRIGUES, Sergio

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  RODRIGUES, Sergio

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/067

Abstract: L'invention concerne un ensemble optique comprenant un empilement d'une pluralité de coques réflectives (10;20), chaque coque réflective comprenant un substrat (11) ayant une face arrière (111) comprenant une pluralité de nervures (111 ) formant entretoise et une face avant (112), et un revêtement réflecteur (12) pour rayons X déposé sur la face avant (112) du substrat (11), caractérisé en ce que chaque coque réflective (10) comprend en outre une couche d'adhésion (13) déposée sur le revêtement réflecteur (12), la couche d'adhésion (13) étant une couche mince formée dans un matériau inorganique permettant une adhésion moléculaire avec la face arrière du substrat (21) de la coque réflective adjacente (20). L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique.

Abstract translation: 本发明涉及一种光学组件，其包括多个反射壳体（10; 20）的叠层，其中每个反射壳体包括具有多个间隔肋（111）的背面（111）和 前表面（112）和沉积在基板（11）的前表面（112）上的X射线反射涂层（12），其特征在于，每个反射壳体（10）还包括粘附层（13） 所述反射涂层（21），所述粘合剂层（13）是由能够与所述相邻反射壳体（20）的所述基板（21）的背面分子粘合的无机材料制成的薄层。 本发明还涉及制造这种光学组件的方法。

公开(公告)号：WO2005051626A1

公开(公告)日：2005-06-09

申请号：PCT/EP2004/053158

申请日：2004-11-29

Applicant: XENOCS S.A. ,  HOGHOJ, Peter ,  SIEBRECHT, Ralf ,  RODRIGUES, Sergio

Inventor： HOGHOJ, Peter ,  SIEBRECHT, Ralf ,  RODRIGUES, Sergio

IPC: B29C33/38

CPC classification number: B29C33/56 ,  B29C33/3878 ,  B29C33/58 ,  B29C33/62 ,  B29C39/126 ,  B29K2995/0073

Abstract: In a method for producing a replication master (10) having a surface with low roughness, comprising the steps of forming said master (10) such as to have a desired external surface shape corresponding to a counterform of a surface of an object (18, 20) to be produced by replication and treating said external surface of said master (10) to obtain a predetermined surface roughness value, it is proposed that said method furthermore comprises the step of coating at least a part of said master (10) with a soluble smoothening layer (16). The invention further relates to a replication master (10) for producing a smooth object (18, 20) having a low surface roughness, wherein at least a part of said master (10) is coated with a soluble smoothening layer (16).

Abstract translation: 在制造具有低粗糙度的表面的复制主体（10）的方法中，包括以下步骤：形成所述主体（10），以便具有对应于物体表面（18,18）的反面形状的期望的外表面形状， 20）通过复制和处理所述母盘（10）的所述外表面以获得预定的表面粗糙度值来产生，所以提出所述方法还包括以下步骤：将所述母版（10）的至少一部分涂覆到所述母版 可溶性平滑层（16）。 本发明还涉及一种用于生产具有低表面粗糙度的光滑物体（18,20）的复制主体（10），其中所述主体（10）的至少一部分涂覆有可溶平滑层（16）。