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公开(公告)号：CN106604809B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201580040676.6
申请日：2015-07-14
Applicant: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
CPC classification number: B81C1/00373 , B29C64/135 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , B81B7/0074 , B81B2201/038 , B81B2201/047 , B81B2203/0315 , B81B2203/0392 , B81C3/001 , B81C99/0095 , B81C2201/0188 , B81C2203/038
Abstract: 本发明涉及一种制造微机械组件(1)的方法，其中将能够通过辐射被硬化的液态原料(2)施加到基底上，所述原料通过使用第一辐射源进行局部辐射而在部分体积空间(21)中被硬化，以便生成至少一个三维结构，其中所述三维结构界定至少一个封闭的容腔(10)，在所述容腔(10)中封闭所述液态原料(2)中的至少一部分。本发明还涉及一种微机械组件，所述微机械组件包括部分通过辐射被硬化的液态原料(2)，并且所述微机械组件包括至少一个容腔(10)，在所述容腔(10)中封闭有所述液态原料(2)。
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公开(公告)号：CN105594114B
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201480054282.1
申请日：2014-09-08
Applicant: 浜松光子学株式会社
Inventor： 藁科祯久
IPC: H02N1/00
CPC classification number: B81B3/0051 , B81B2201/038 , B81B2201/042 , B81B2203/0163 , G01J3/26 , G02B6/29395 , G02B26/001 , G02B26/0841 , H02N1/008
Abstract: 光学模块(1A)包括：半导体基板(2)；静电致动器(10)，其具有固定部(11)和可动部(12)，该固定部(11)固定在半导体基板(2)，该可动部(12)通过在与固定部(11)之间产生的静电力相对于固定部(11)移动；第一弹簧部(20)，其与可动部(12)连接，具有第一弹簧常数K1；第二弹簧部(30)，其连接至第一弹簧部(20)与半导体基板(2)之间，具有比第一弹簧常数K1大的第二弹簧常数K2；可动反射镜(5)，其是连接至第一弹簧部(20)与第二弹簧部(30)的连接部(13)的光学部件，由此实现能够使用静电致动器、稳定且高精度地使光学部件动作的光学模块。
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公开(公告)号：CN103227203B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201310030301.4
申请日：2013-01-25
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor： 朱文娟
IPC: H01L29/78 , H01L29/06 , H01L21/336 , B82Y40/00
CPC classification number: H01L29/78606 , B81B2201/038 , B81B2203/0127 , B81C1/00158 , B82Y30/00 , H01L29/1606 , H01L29/4908 , H01L29/66045 , H01L29/78603 , H01L29/78648 , H01L29/78684
Abstract: 本发明涉及用悬置石墨烯膜形成的纳米器件。使用在半导体结构的开放腔之间悬置的石墨烯膜构造诸如纳米探针和纳米刀器件的半导体纳米器件。所述悬置的石墨烯膜用作机电膜，所述机电膜可被制造为非常薄，厚度为一个原子或数个原子的厚度，从而极大地提高了半导体纳米探针和纳米刀器件的灵敏度和可靠度。
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公开(公告)号：CN102323666A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110265548.5
申请日：2006-02-23
Applicant: 皮克斯特罗尼克斯公司
IPC: G02B26/02
CPC classification number: G09G3/3433 , B81B3/0054 , B81B2201/032 , B81B2201/038 , B81B2201/045 , B81B2203/051 , G02B26/02 , G02B26/0841 , G09G2300/0809 , G09G2310/0262
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS的显示装置。尤其是，该显示装置可以包括有两个机械顺性的电极的作动器。另外，揭示了在该显示装置中包括进双稳态的快门组件和用于在该快门组件中支承快门的器件。
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公开(公告)号：CN102730627B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201210101416.3
申请日：2012-03-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 格雷戈里·德布拉班德尔 , 马克·内波穆尼西
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00103 , B81B2201/0257 , B81B2201/038 , B81B2203/0127 , B81B2203/0353 , B81B2203/0376
Abstract: 本发明公开了在基板中形成凹部的方法。通过阴影掩模进行各向同性等离子蚀刻来形成具有曲面特征的轮廓传递基板表面。该阴影掩模具有通孔，通孔的下部与阴影掩模的底表面相邻，通孔的上部位于上方并且比下部窄。通过阴影掩模进行各向同性等离子蚀刻能够在底部开口所包围的区域的中央部分中的平面基板中形成弯曲凹部。在移除阴影掩模后，均匀材料层可以在基板的暴露表面上沉积为在基板表面中的弯曲凹部位置处包含曲面特征。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102323665B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201110265538.1
申请日：2006-02-23
Applicant: 皮克斯特隆尼斯有限公司
CPC classification number: G09G3/3433 , B81B3/0054 , B81B2201/032 , B81B2201/038 , B81B2201/045 , B81B2203/051 , G02B26/02 , G02B26/0841 , G09G2300/0809 , G09G2310/0262
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS的显示装置。尤其是，该显示装置可以包括有两个机械顺性的电极的作动器。另外，揭示了在该显示装置中包括进双稳态的快门组件和用于在该快门组件中支承快门的器件。
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公开(公告)号：CN103345058A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201310236936.X
申请日：2006-02-23
Applicant: 皮克斯特隆尼斯有限公司
CPC classification number: G09G3/3433 , B81B3/0054 , B81B2201/032 , B81B2201/038 , B81B2201/045 , B81B2203/051 , G02B26/02 , G02B26/0841 , G09G2300/0809 , G09G2310/0262
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS的显示装置。尤其是，该显示装置可以包括有两个机械顺性的电极的作动器。另外，揭示了在该显示装置中包括进双稳态的快门组件和用于在该快门组件中支承快门的器件。
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公开(公告)号：CN103336361A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310236891.6
申请日：2006-02-23
Applicant: 皮克斯特隆尼斯有限公司
CPC classification number: G09G3/3433 , B81B3/0054 , B81B2201/032 , B81B2201/038 , B81B2201/045 , B81B2203/051 , G02B26/02 , G02B26/0841 , G09G2300/0809 , G09G2310/0262
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS的显示装置。尤其是，该显示装置可以包括有两个机械顺性的电极的作动器。另外，揭示了在该显示装置中包括进双稳态的快门组件和用于在该快门组件中支承快门的器件。
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公开(公告)号：CN101790840B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200880104648.6
申请日：2008-08-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G02B26/0858 , B81B3/0086 , B81B2201/038 , B81B2201/042 , B81B2203/058 , G03B21/00 , H01L41/042 , H01L41/0953 , H01L41/0966 , H04N9/3129
Abstract: 本发明具有下述的构成：由第一振动部(7)与第二振动部(9)构成，所述第一振动部(7)具备具有第一驱动电极(18)的第一压电元件，所述第二振动部(9)具有与第一振动部(7)不同的中心轴，具备具有第二驱动电极(18)的第二压电元件，并且第一驱动电极(18)以及第二驱动电极(18)共有连接。由此，驱动电极(18)的配线电极数量减少，引回变得容易，结果能够提高生产效率。
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公开(公告)号：CN102730627A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210101416.3
申请日：2012-03-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 格雷戈里·德布拉班德尔 , 马克·内波穆尼西
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00103 , B81B2201/0257 , B81B2201/038 , B81B2203/0127 , B81B2203/0353 , B81B2203/0376
Abstract: 本发明公开了在基板中形成凹部的方法。通过阴影掩模进行各向同性等离子蚀刻来形成具有曲面特征的轮廓传递基板表面。该阴影掩模具有通孔，通孔的下部与阴影掩模的底表面相邻，通孔的上部位于上方并且比下部窄。通过阴影掩模进行各向同性等离子蚀刻能够在底部开口所包围的区域的中央部分中的平面基板中形成弯曲凹部。在移除阴影掩模后，均匀材料层可以在基板的暴露表面上沉积为在基板表面中的弯曲凹部位置处包含曲面特征。
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