公开(公告)号：CN1926416A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200580006481.6

申请日：2005-03-04

Applicant: 原子能委员会 ,  ULIS公司

Inventor： 让-路易斯·奥弗里-巴菲特 ,  劳伦斯·卡尔 ,  克莱尔·维亚勒 ,  米歇尔·维拉林

IPC: G01J5/10

CPC classification number: G01J5/10 ,  G01J5/02 ,  G01J5/024 ,  G01J5/06 ,  G01J5/20 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/068

Abstract: 本发明涉及一种无源微辐射热计(12)，包括反射屏(17)和用于吸收辐射、测温及电连接的悬置膜(22)。该膜由固定到支承基板(16)上的至少两个固定件(15)支承。反射屏(17)可由厚度约为500至2000的至少一个金属层(18)支承。该屏(17)布置在膜下方并与膜吸收元件(13)电接触，从而减小由屏(17)和吸收元件(13)组成的单元的面电阻率并避免该吸收元件吸收辐射。

公开(公告)号：CN1195446C

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN97191684.5

申请日：1997-10-31

Applicant: 西铁城钟表股份有限公司

Inventor： 柄川俊二

IPC: A61B5/01 ,  G01J5/02

CPC classification number: G01J5/04 ,  G01J5/045 ,  G01J5/049 ,  G01J5/08 ,  G01J5/0818 ,  G01J5/0875 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/068 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2924/00014

Abstract: 一种辐射体温计包括：导光管，以引导来自测温对象的红外线辐射；第一红外线传感器，以检测来自导光管的红外线辐射；感温传感器，它产生基准温度信号；基准腔，它有与导光管大致相同的温度条件，且被密封以遮断来自外侧的红外线辐射；第二红外线传感器，以检测来自基准腔的红外线辐射；温度计算装置，以根据来自第一红外线传感器、第二红外线传感器、以及感温传感器的信号来计算温度值；以及显示装置，用根据来自温度计算装置的信号显示温度值；至少是导光管或基准腔从第一或第二红外线传感器侧朝导光管辐射入口逐渐变细。

公开(公告)号：CN1208334A

公开(公告)日：1999-02-17

申请号：CN97191684.5

申请日：1997-10-31

Applicant: 西铁城钟表股份有限公司

Inventor： 柄川俊二

IPC: A61B5/00

CPC classification number: G01J5/04 ,  G01J5/045 ,  G01J5/049 ,  G01J5/08 ,  G01J5/0818 ,  G01J5/0875 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/068 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2924/00014

Abstract: 一种辐射体温计包括:导光管,以引导来自测温对象的红外线辐射;第一红外线传感器,以检测来自导光管的红外线辐射;感温传感器,它产生基准温度信号;基准腔,它有与导光管大致相同的温度条件,且被密封以遮断来自外侧的红外线辐射;第二红外线传感器,以检测来自基准腔的红外线辐射;温度计算装置,以根据来自第一红外线传感器、第二红外线传感器、以及感温传感器的信号来计算温度值;以及显示装置,用根据来自温度计算装置的信号显示温度值;至少是导光管或基准腔从第一或第二红外线传感器侧朝导光管辐射入口逐渐变细。

公开(公告)号：CN107036719A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201710054058.8

申请日：2017-01-22

Applicant: 埃塞力达技术新加坡有限私人贸易公司

Inventor： 尤尔根·席尔茨 ,  亚瑟·约翰·巴洛 ,  沃尔夫冈·施密特

IPC: G01J5/34 ,  G01V8/10

CPC classification number: G01J5/0806 ,  G01J5/0025 ,  G01J5/12 ,  G01J5/14 ,  G01J2005/066 ,  G08B13/193 ,  G01J5/34 ,  G01V8/10

Abstract: 提出了一种配置为感测监控空间中的存在和运动的装置。装置包括双元件组件，双元件组件具有配置为产生直流输出的第一热感测元件和第二热感测元件，该直流输出维持在与在热感测元件处接收的热能的量大致成比例的水平。透镜阵列(或等效的光学器件)耦合到所述元件、具有多个透镜，所述多个透镜将来自多个光学限定的空间区域的入射热能导引到感测元件上。电子电路配置为读取双元件组件所得到的信号以及第一热感测元件和第二热感测元件中的每个的单独输出信号。

公开(公告)号：CN103459994A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201280015262.4

申请日：2012-03-09

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 藁科祯久 ,  铃木顺

IPC: G01J1/42 ,  G01J1/44

CPC classification number: H04N5/33 ,  G01J1/44 ,  G01J5/00 ,  G01J5/10 ,  G01J5/22 ,  G01J5/24 ,  G01J2001/444 ,  G01J2005/0048 ,  G01J2005/0077 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/202 ,  H04N5/217 ,  H04N5/357

Abstract: 一种检测红外线的红外线图像传感器，具备具有排列了多个像素的像素区域以及至少一个参考像素的受光部（12）、取得作为包含于像素区域的一个像素的信号与参考像素的信号的差分信号的第1差分信号以及作为包含于像素区域的多个像素中的规定的两个像素的信号的差分信号的第2差分信号的差分电路、以及基于第1差分信号和第2差分信号算出像素的信号的像素信号算出部而构成。

公开(公告)号：CN108139273A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680060924.8

申请日：2016-09-12

Applicant: 罗伯特·博世有限公司

Inventor： I.赫尔曼 ,  D.格罗斯 ,  F.尤特默伦

IPC: G01J5/20 ,  G01J5/08 ,  G01J1/42

CPC classification number: G01J5/20 ,  G01J1/429 ,  G01J5/0853 ,  G01J5/0896 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/206

Abstract: 本发明涉及一种辐射传感器装置（21），包括：辐射传感器（2），所述辐射传感器包括悬臂式的元件（5）和保持结构（4），所述悬臂式的元件包括光学吸收体（6）和电阻结构（3），所述保持结构将悬臂式的元件与衬底（1）间隔开地保持并且所述保持结构是悬臂式的元件（5）与所述衬底（1）之间的连接；以及分析单元，用于由所述电阻结构（3）的电阻的改变测定所吸收的辐射，其特征在于光学吸收体（6）的波长选择性设计。

公开(公告)号：CN103459994B

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201280015262.4

申请日：2012-03-09

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 藁科祯久 ,  铃木顺

IPC: G01J1/42 ,  G01J1/44

CPC classification number: H04N5/33 ,  G01J1/44 ,  G01J5/00 ,  G01J5/10 ,  G01J5/22 ,  G01J5/24 ,  G01J2001/444 ,  G01J2005/0048 ,  G01J2005/0077 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/202 ,  H04N5/217 ,  H04N5/357

Abstract: 一种检测红外线的红外线图像传感器，具备具有排列了多个像素的像素区域以及至少一个参考像素的受光部（12）、取得作为包含于像素区域的一个像素的信号与参考像素的信号的差分信号的第1差分信号以及作为包含于像素区域的多个像素中的规定的两个像素的信号的差分信号的第2差分信号的差分电路、以及基于第1差分信号和第2差分信号算出像素的信号的像素信号算出部而构成。

公开(公告)号：CN100533078C

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200580006481.6

申请日：2005-03-04

Applicant: 原子能委员会 ,  ULIS公司

Inventor： 让-路易斯·奥弗里-巴菲特 ,  劳伦斯·卡尔 ,  克莱尔·维亚勒 ,  米歇尔·维拉林

IPC: G01J5/10

CPC classification number: G01J5/10 ,  G01J5/02 ,  G01J5/024 ,  G01J5/06 ,  G01J5/20 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/068

Abstract: 本发明涉及一种无源微辐射热计(12)，包括反射屏(17)和用于吸收辐射、测温及电连接的悬置膜(22)。该膜由固定到支承基板(16)上的至少两个固定件(15)支承。反射屏(17)可由厚度约为500至2000的至少一个金属层(18)支承。该屏(17)布置在膜下方并与膜吸收元件(13)电接触，从而减小由屏(17)和吸收元件(13)组成的单元的面电阻率并避免该吸收元件吸收辐射。

公开(公告)号：WO2005085782A1

公开(公告)日：2005-09-15

申请号：PCT/FR2005/000518

申请日：2005-03-04

Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ,  ULIS ,  OUVRIER-BUFFET, Jean-Louis ,  CARLE, Laurent ,  VIALLE, Claire ,  VILAIN, Michel

Inventor： OUVRIER-BUFFET, Jean-Louis ,  CARLE, Laurent ,  VIALLE, Claire ,  VILAIN, Michel

IPC: G01J5/10

CPC classification number: G01J5/10 ,  G01J5/02 ,  G01J5/024 ,  G01J5/06 ,  G01J5/20 ,  G01J2005/066 ,  G01J2005/068

Abstract: Un microbolomètre passif (12) comporte un écran réfléchissant (17) et une membrane suspendue faisant fonction d'absorbeur du rayonnement, de thermomètre, et de connexions électriques. La membrane est portée par au moins deux éléments d'ancrage (15) fixés sur un substrat de support (16). L'écran réfléchissant (17) peut être constitué par au moins une couche (18) de matériau métallique, d'une épaisseur de l'ordre de 500Å à 2000Å. L'écran (17) est disposé sous la membrane, en contact électrique avec l'élément absorbeur (13) de la membrane, de manière à réduire la résistance par carré de l'ensemble constitué par l'écran (17) et l'élément absorbeur (13) et d'empêcher l'absorption du rayonnement par ce dernier.

Abstract translation: 本发明涉及一种被动微电热计（12），其包括反射屏（17）和具有辐射吸收器，温度计和电连接功能的悬浮膜。 膜由固定到支撑衬底（16）的至少两个锚定元件（15）支撑。 反射屏（17）可以由至少一层金属材料层（18）来实现，厚度为500埃至2000埃的范围。 屏幕（17）布置在膜下面与膜吸收体元件（13）电接触，以减小由屏幕（17）和吸收元件（13）组成的单元的面积电阻，并避免 后者吸收辐射。

公开(公告)号：WO1994000744A1

公开(公告)日：1994-01-06

申请号：PCT/EP1993001702

申请日：1993-06-29

Applicant: INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELEKTRONICA CENTRUM VZW ,  VANDENABEELE, Peter, Michel, Noel

Inventor： INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELEKTRONICA CENTRUM VZW

IPC: G01J05/00

CPC classification number: G01J5/06 ,  G01J5/0003 ,  G01J5/0007 ,  G01J5/08 ,  G01J5/0834 ,  G01J5/0846 ,  G01J5/0896 ,  G01J2005/066 ,  H01L21/67115

Abstract: Device for heating an object, in particular a wafer of semiconductor material, comprising: a chamber (2) in which the object for heating can be placed and which is provided with a wall permeable to radiation in a determined wavelength range; heating elements (3) for heating the object in the chamber; first radiating elements (5) for projecting radiation onto the object; means for modulating the intensity of the radiation coming from the first radiating elements; a radiation meter (6) for measuring the radiation intensity generated by the object, the sensitivity of which is located for a significant part in said wavelength range; and filtering means (4) for filtering in said wavelength range radiation coming from the heating means and/or parts heated by the heating means, wherein the filtering means are disposed such that radiation from the modulated first radiating elements reaches the radiation meter unfiltered.

Abstract translation: 用于加热物体，特别是半导体材料的晶片的装置，包括：室（2），其中可以放置加热物体，并且其中设置有可透过确定波长范围的辐射的壁; 用于加热室中物体的加热元件（3） 用于将辐射投射到物体上的第一辐射元件（5） 用于调制来自第一辐射元件的辐射的强度的装置; 用于测量由所述物体产生的辐射强度的辐射计（6），其灵敏度位于所述波长范围中的很大部分; 以及用于在所述波长范围内过滤来自加热装置的辐射和/或由加热装置加热的部件的滤波装置（4），其中滤波装置被布置成使得来自调制的第一辐射元件的辐射到达未过滤的辐射计。