-
公开(公告)号:CN103021775B
公开(公告)日:2015-12-02
申请号:CN201210098146.5
申请日:2012-04-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01J37/244
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/3171 , H01J2237/024 , H01J2237/24405 , H01J2237/24528 , H01J2237/24542
Abstract: 本发明公开了束监控器件、方法和系统。一种示例性束监控器件包括一维(1D)轮廓仪。该1D轮廓仪包括具有绝缘材料和导电材料的法拉第件。该束监控器件进一步包括二维(2D)轮廓仪。该2D轮廓仪包括具有绝缘材料和导电材料的多个法拉第件。该束监控器件进一步包括控制臂。该控制臂可操作地便于在纵向方向上移动束监控器件,以及便于绕轴旋转束监控器件。
-
公开(公告)号:CN104253010A
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201410168751.4
申请日:2014-04-24
Applicant: 斯伊恩股份有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/244 , H01J2237/24405 , H01J2237/24528 , H01J2237/24535
Abstract: 本发明提供一种以简单的结构测定两个方向的射束角度的离子束测定装置及离子束测定方法。离子束测定装置(100)具备:掩模(102),用于将原始的离子束(B)整形为具备在与离子束行进方向垂直的y方向较长的y射束部分及在与所述行进方向及y方向垂直的x方向较长的x射束部分的测定用离子束(Bm);检测部(104),构成为检测y射束部分的x方向位置,并检测x射束部分的y方向位置;及射束角度运算部(108),构成为利用x方向位置运算x方向射束角度,并利用y方向位置运算y方向射束角度。
-
公开(公告)号:CN101322219B
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN200680045119.4
申请日:2006-11-17
Applicant: 艾克塞利斯技术公司
IPC: H01L21/265 , H01J37/244 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/244 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/24578 , H01J2237/31703
Abstract: 本发明的一个或多个方面涉及便于确定在离子束与工件之间的相对方位的测量部件。测量部件对离子辐射是敏感的,并且通过相对于离子束移动测量部件而允许准确地确定测量部件与离子束之间的相对方位。测量部件以相对于工件的已知关系定向,使得可以建立工件与波束之间的相对方位。知道了离子束与工件之间的相对方位允许将工件定向在相对于已测量波束角的特定角度上,以取得更准确及更精确的工件掺杂而改善半导体的制造。
-
公开(公告)号:CN101490791A
公开(公告)日:2009-07-22
申请号:CN200780022054.6
申请日:2007-06-01
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24528
Abstract: 导引元件包括在离子注入系统内,以将离子射束引导或“导引”到导引元件下游的扫描元件的扫描顶点。这样,扫描元件的扫描顶点与扫描元件下游的平行化元件的聚焦点重合。这允许射束以期望的角度从平行化元件射出,以使得可以将离子以期望的方式注入到位于平行化元件的下游的工件内。
-
公开(公告)号:CN101361160A
公开(公告)日:2009-02-04
申请号:CN200680051548.2
申请日:2006-12-12
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/24578 , H01J2237/30472 , H01J2237/31703
Abstract: 沿离子注入的轴的入射角的测量值通过利用正和负狭缝结构(104,106)获得。正狭缝结构具有入口开口(120)、出口开口(122)、以及在正方向上的具有选择的角度范围的离子束的获得部分之间的狭缝轮廓。负狭缝结构具有入口开口(121)、出口开口(123)、以及在负方向上的具有选择的角度范围的离子束的获得部分之间的狭缝轮廓。第一射束测量机构(214)测量正部分的射束电流,以获得正角度射束电流测量值。第二射束测量机构(216)测量负部分的射束电流,以获得负角度射束电流测量值。分析仪部件(126)利用正角度射流测量值和负角度射流测量值确定测量的入射角。
-
公开(公告)号:CN1672234A
公开(公告)日:2005-09-21
申请号:CN03817753.6
申请日:2003-07-29
Applicant: 艾克塞利斯技术公司
Inventor: J·费尔拉拉
IPC: H01J37/317 , H01J37/20
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/24528 , H01L21/68764 , H01L21/68771
Abstract: 一种离子束注入机,包括:用于产生沿着射束管线运动的离子束(14)的离子束源,以及注入腔,工件(24)设于注入腔中并与离子束相交,以便通过离子束来对工件表面进行离子注入。离子束注入机还包括与注入腔相连并支撑了工件的工件支撑结构(100)。该工件支撑结构包括与注入腔可旋转地相连的第一旋转件(110),其包括延伸穿过该旋转件并与注入腔壁中的孔对齐的孔(121)。该工件支撑结构还包括与所述第一旋转件可旋转地相连的第二旋转件(150),其具有与第一旋转件的旋转轴线偏离的旋转轴线,所述第二旋转件覆盖了第一旋转件中的孔。工件支撑结构还包括固定地连接在第二旋转件上的第三部件,该第三部件包括支撑了工件的可旋转的驱动件(200,204)。第一旋转件、第二旋转件以及第三旋转部件的可旋转驱动件可进行旋转,以使工件沿着移动路径运动,从而对注入面进行注入,其中,离子束在撞击到工件注入面之前运动穿过注入腔而运动的距离是恒定的。
-
公开(公告)号:CN104253010B
公开(公告)日:2017-12-26
申请号:CN201410168751.4
申请日:2014-04-24
Applicant: 斯伊恩股份有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/244 , H01J2237/24405 , H01J2237/24528 , H01J2237/24535
Abstract: 本发明提供一种以简单的结构测定两个方向的射束角度的离子束测定装置及离子束测定方法。离子束测定装置(100)具备:掩模(102),用于将原始的离子束(B)整形为具备在与离子束行进方向垂直的y方向较长的y射束部分及在与所述行进方向及y方向垂直的x方向较长的x射束部分的测定用离子束(Bm);检测部(104),构成为检测y射束部分的x方向位置,并检测x射束部分的y方向位置;及射束角度运算部(108),构成为利用x方向位置运算x方向射束角度,并利用y方向位置运算y方向射束角度。
-
公开(公告)号:CN102099890B
公开(公告)日:2013-07-17
申请号:CN200980127779.0
申请日:2009-06-23
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/147 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/1471 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/24578
Abstract: 本发明公开了一种离子束角检测设备,包括:线性驱动组件,所述线性驱动组件固定地连接到可移动轮廓仪组件,其中轮廓仪组件包括轮廓仪,所述轮廓仪具有形成于轮廓仪顶板内的轮廓仪孔洞以及轮廓仪传感器组件;可移动角度掩模组件,所述可移动角度掩模组件包括具有掩模孔洞的可移动角度掩模,其中角度掩模组件非固定地连接到轮廓仪组件,掩模孔洞通过给与固定地连接到轮廓仪组件的掩模线性驱动器能量而能够相对于轮廓仪孔洞移动,并且轮廓仪孔洞可移动通过大于离子束的延伸长度的长度。
-
公开(公告)号:CN101189699B
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN200680019506.0
申请日:2006-06-07
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01L21/26586 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24528 , H01J2237/30455 , H01J2237/30472 , H01J2237/31703 , H01L29/66803 , H01L29/785
Abstract: 本发明揭露一种用于离子束角度处理控制的技术。在一特定例示性实施例中,技术可实现为一离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法。此方法可包括将多个离子束导向一基板表面处。方法可还包括判定一个或多个离子束撞击基板表面的离子束角度扩散,所述离子束角度扩散由撞击所述基板表面的每一所述离子束的入射角以及本征角度扩散所引起。此方法可更包括基于一所要的离子束扩散调整所述离子束角度扩散以产生所述所要的离子束扩散。
-
公开(公告)号:CN102017054B
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN200980114412.5
申请日:2009-04-23
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor: Y·黄
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J37/3007 , H01J2237/022 , H01J2237/05 , H01J2237/202 , H01J2237/24528
Abstract: 一种离子注入系统(500),包括:离子源(502),其产生沿射束路径(505,507)的离子束(504);在该离子源的下游的质量分析器组件(514),其在该离子束上进行质量分析与角度修正;解析孔(516)电极,其包括在该质量分析器组件(514)的下游并且沿着该射束路径的至少一个电极,至少一个电极具有根据所选择的质量解析度与射束包络的尺寸与形状;在解析孔电极的下游的偏转元件(518),其改变该偏转元件射出该离子束(507)的路径;在偏转元件的下游的减速电极(519),其将该离子束进行减速;支持台,其在终端站(526)中以用于将由带电离子所注入的工件(522)进行保持和定位,以及其中该终端站以大约逆时针8度安装,以致于所偏转的该离子束垂直于该工件。
-
-
-
-
-
-
-
-
-