用于离子束注入机的可调注入角的工件支撑结构

    公开(公告)号:CN1672234A

    公开(公告)日:2005-09-21

    申请号:CN03817753.6

    申请日:2003-07-29

    Inventor: J·费尔拉拉

    Abstract: 一种离子束注入机,包括:用于产生沿着射束管线运动的离子束(14)的离子束源,以及注入腔,工件(24)设于注入腔中并与离子束相交,以便通过离子束来对工件表面进行离子注入。离子束注入机还包括与注入腔相连并支撑了工件的工件支撑结构(100)。该工件支撑结构包括与注入腔可旋转地相连的第一旋转件(110),其包括延伸穿过该旋转件并与注入腔壁中的孔对齐的孔(121)。该工件支撑结构还包括与所述第一旋转件可旋转地相连的第二旋转件(150),其具有与第一旋转件的旋转轴线偏离的旋转轴线,所述第二旋转件覆盖了第一旋转件中的孔。工件支撑结构还包括固定地连接在第二旋转件上的第三部件,该第三部件包括支撑了工件的可旋转的驱动件(200,204)。第一旋转件、第二旋转件以及第三旋转部件的可旋转驱动件可进行旋转,以使工件沿着移动路径运动,从而对注入面进行注入,其中,离子束在撞击到工件注入面之前运动穿过注入腔而运动的距离是恒定的。

    用于高电流离子注入的低污染低能量束线结构

    公开(公告)号:CN102017054B

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:CN200980114412.5

    申请日:2009-04-23

    Inventor: Y·黄

    Abstract: 一种离子注入系统(500),包括:离子源(502),其产生沿射束路径(505,507)的离子束(504);在该离子源的下游的质量分析器组件(514),其在该离子束上进行质量分析与角度修正;解析孔(516)电极,其包括在该质量分析器组件(514)的下游并且沿着该射束路径的至少一个电极,至少一个电极具有根据所选择的质量解析度与射束包络的尺寸与形状;在解析孔电极的下游的偏转元件(518),其改变该偏转元件射出该离子束(507)的路径;在偏转元件的下游的减速电极(519),其将该离子束进行减速;支持台,其在终端站(526)中以用于将由带电离子所注入的工件(522)进行保持和定位,以及其中该终端站以大约逆时针8度安装,以致于所偏转的该离子束垂直于该工件。

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